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標(biāo)簽 > 蝕刻
最早可用來(lái)制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
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各種疊層結(jié)構(gòu)的PCB圖內(nèi)部架構(gòu)設(shè)計(jì)
今天畫(huà)了幾張多層PCB電路板內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖,用立體圖形展示各種疊層結(jié)構(gòu)的PCB圖內(nèi)部架構(gòu)。
阻抗的計(jì)算是相對(duì)比較繁瑣的,但我們可以總結(jié)一些經(jīng)驗(yàn)值幫助提高計(jì)算效率。對(duì)于常用的 FR4,50ohm 的微帶線,線寬一般等于介質(zhì)厚度的 2 倍;50oh...
PCB為什么發(fā)生甩銅?這3個(gè)原因給說(shuō)全了
還有一種情況就是PCB蝕刻參數(shù)沒(méi)有問(wèn)題,但蝕刻后水洗及烘干不良,造成銅線也處于PCB便面殘留的蝕刻液包圍中,長(zhǎng)時(shí)間未處理,也會(huì)產(chǎn)生銅線側(cè)蝕過(guò)度而甩銅。
客戶線路設(shè)計(jì)好過(guò)蝕刻線的時(shí)候,若銅箔規(guī)格變更后而蝕刻參數(shù)未變,造成銅箔在蝕刻液中的停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)。因鋅本來(lái)就是活潑金屬類,當(dāng)LED廣告屏PCB上的銅線長(zhǎng)時(shí)...
無(wú)可否認(rèn),不論是半導(dǎo)體技術(shù)還是其產(chǎn)業(yè)本身,都已經(jīng)成為所有市場(chǎng)中最大的產(chǎn)業(yè)之一。全球媒體、企業(yè)和政府也紛紛把目光投向了半導(dǎo)體工廠的下一個(gè)建設(shè)地。而每一次的...
2023-12-25 標(biāo)簽:半導(dǎo)體計(jì)算機(jī)晶體管 1.0萬(wàn) 0
PCB生產(chǎn)過(guò)程:為什么PCB內(nèi)外層蝕刻方法不一樣
如果單板或拼板的尺寸不合適,PCB生產(chǎn)過(guò)程中,就會(huì)產(chǎn)生很多的原料廢邊,PCB板廠會(huì)把之些廢邊的價(jià)格都加到你的板子上,這樣你的PCB板單位價(jià)格就貴一些。
在敷銅板上,通過(guò)光化學(xué)法,網(wǎng)印圖形轉(zhuǎn)移或電鍍圖形抗蝕層,然后蝕刻掉非圖形部分的銅箔或采用機(jī)械方式去除不需要部分而制成印制電路板PCB。而減成法中主要有雕...
針對(duì)氧氣(O2)和三氯化硼(BCl3)等離子體進(jìn)行原子層蝕刻的研究
基于GaN的高電子遷移率,晶體管,憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度,應(yīng)用于高頻放大器和高壓功率開(kāi)關(guān)中。就器件制造而言,GaN的相關(guān)材料,如Al...
刻蝕的機(jī)制,按發(fā)生順序可概分為「反應(yīng)物接近表面」、「表面氧化」、「表面反應(yīng)」、「生成物離開(kāi)表面」等過(guò)程。所以整個(gè)刻蝕,包含反應(yīng)物接近、生成物離開(kāi)的擴(kuò)散效...
孔內(nèi)板電銅薄孔無(wú)銅―――表銅板電層均勻正常,孔內(nèi)板電層從孔口至斷口處呈遞減拉尖趨勢(shì),且斷口處一般處于孔的中間部位,斷口處銅層左
按照正常的生產(chǎn)規(guī)律,撓性板在開(kāi)料后,在圖形線路形成,以及軟硬結(jié)合壓合的過(guò)程中均會(huì) 產(chǎn)生不同程度的漲縮,在圖形線路蝕刻后,線路的密集程度與走向,會(huì)導(dǎo)致整個(gè)...
另外一種工藝方法是整個(gè)板子上都鍍銅,感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比,全板鍍銅的缺點(diǎn)是板面各處都要鍍兩...
按工藝要求排放出部分比重高的溶液經(jīng)分析后補(bǔ)加氯化銨和氨的水溶液,使蝕刻液的比重調(diào)整到工藝充許的范圍。
使用化學(xué)沉銅鍍液,對(duì)沉銅速率有一定的技術(shù)要求。速率太慢就有可能引起孔壁產(chǎn)生空洞或針孔;而沉銅速率太快,將產(chǎn)生鍍層粗糙。為此,科學(xué)的測(cè)定沉銅速率是控制沉銅...
蝕刻設(shè)備的結(jié)構(gòu)及不同成分的蝕刻液都會(huì)對(duì)蝕刻因子或側(cè)蝕度產(chǎn)生影響,或者用樂(lè)觀的話來(lái)說(shuō),可以對(duì)其進(jìn)行控制。采用某些添加劑可以降低側(cè)蝕度。這些添加劑的化學(xué)成分...
關(guān)于數(shù)字處理技術(shù)部分的路線圖介紹
EUV 超薄 (≤10nm)尺度的光刻膠:隨著特征尺寸的縮小,光刻膠分子成分成為特征尺寸的一部分。構(gòu)成光刻膠的分子必須是單組分、小的構(gòu)建塊,以防止聚...
MEMS傳感器是當(dāng)今最炙手可熱的傳感器制造技術(shù),也是傳感器小型化、智能化的重要推動(dòng)了,MEMS技術(shù)促進(jìn)了傳感器的極大發(fā)展。 MEMS主要采用微電子技術(shù),...
隨著納米結(jié)構(gòu)表面和界面在廣泛的科學(xué)和技術(shù)應(yīng)用中變得越來(lái)越重要,確定可擴(kuò)展和廉價(jià)的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)這些變成了一個(gè)關(guān)鍵的挑戰(zhàn)。特別是有序、非密集、表面支撐的金屬納...
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