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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書,作者是(美國)贊特。本書介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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雖然表面缺陷檢測技術(shù)已經(jīng)不斷從學(xué)術(shù)研究走向成熟的工業(yè)應(yīng)用,但是依然有一些需要解決的問題?;谝陨戏治隹梢园l(fā)現(xiàn),由于芯片表面缺陷的獨特性質(zhì),通用目標(biāo)檢測算...
芯片制造流程及產(chǎn)生的相關(guān)缺陷和芯片缺陷檢測任務(wù)分析
在芯片生產(chǎn)制造過程中,各工藝流程環(huán)環(huán)相扣,技術(shù)復(fù)雜,材料、環(huán)境、工藝參數(shù)等因素的微變常導(dǎo)致芯片產(chǎn)生缺陷,影響產(chǎn)品良率。
2024-02-23 標(biāo)簽:神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)機(jī)器視覺芯片制造 2970 0
淺談半導(dǎo)體設(shè)備高精密陶瓷關(guān)鍵部件的技術(shù)
對于芯片制造來講,光刻是一個必不可少的環(huán)節(jié),可以說,沒有光刻機(jī),就沒有現(xiàn)代芯片產(chǎn)業(yè)。在集成電路制造過程中,光刻工藝的費用約占制造成本的1/3 左右,耗費...
先進(jìn)封裝中架構(gòu)的豐富性和失敗的高成本鼓勵器件設(shè)計流程和封裝廠之間更密切的合作。EDA 公司和 OSAT 正在開發(fā)協(xié)作設(shè)計工具集,以提高封裝性能、降低成本...
高數(shù)值孔徑EUV光刻:引領(lǐng)下一代芯片制造的革命性技術(shù)
摩爾定律是指在給定面積的硅片上,晶體管的數(shù)量大約每兩年翻一番,這種增益推動了計算技術(shù)的發(fā)展。在過去半個世紀(jì)里,我們將該定律視為一種類似進(jìn)化或衰老的不可避...
光刻機(jī)的鏡頭要實現(xiàn)納米級的成像分辨率,就得拼命增大鏡片的數(shù)值孔徑(Numerical Aperture),但這同時會導(dǎo)致焦深(DoF)的下降,焦深是指...
2024-01-22 標(biāo)簽:晶圓芯片制造半導(dǎo)體器件 1232 0
AI 算力、低功耗等對服務(wù)器算力芯片提出新的要求,英偉達(dá) GH200 有望加速全球 AI 服務(wù)器算力芯片市場變革,中國芯片企業(yè)在面臨挑戰(zhàn)的同時,也有望迎...
集芯片設(shè)計、芯片制造、芯片封裝和測試等多個產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)于一身,早期多數(shù)集成電路企業(yè)采用的模式,目前僅有極少數(shù)企業(yè)能夠維持。
對于電子設(shè)備來說,它藏在內(nèi)部,又非常重要,相當(dāng)于汽車的發(fā)動機(jī)、人的心臟,所以叫“芯”。從形態(tài)來看,它是一片一片的,所以叫“片”。合起來,就是“芯片”。
2024-01-15 標(biāo)簽:集成電路芯片制造半導(dǎo)體芯片 2026 0
半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...
濕法清洗設(shè)備在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用
芯片制造中的各道工序極為精密,那么我們是如何保持工藝中無污染的呢?
單極子天線是最最最古老的天線形式之一,在馬可尼的跨大西洋通信中就是應(yīng)用了單極子天線。馬可尼應(yīng)用的發(fā)射天線是從48m高的橫掛線斜拉下50根銅導(dǎo)線形成的扇形...
什么是離子注入?離子注入相對于擴(kuò)散的優(yōu)點?
想要使半導(dǎo)體導(dǎo)電,必須向純凈半導(dǎo)體中引入雜質(zhì),而離子注入是一種常用的方法,下面來具體介紹離子注入的概念。
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