標(biāo)簽 > 納米光刻
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納米光刻是納米技術(shù)中涉及納米級(jí)結(jié)構(gòu)工程的技術(shù)領(lǐng)域中一個(gè)不斷發(fā)展的領(lǐng)域,納米光刻領(lǐng)域的誕生是出于增加集成電路中晶體管數(shù)量以維持摩爾定律的需要,光刻已成為最成功的商業(yè)技術(shù),能夠產(chǎn)生100 nm以下的圖案。
用于四頻 GSM / GPRS / ED 中頻 LNA 前端模塊(B25、B3、B 2.4 GHz、256 QAM WLAN 2.4 GHz、64 QAM WLAN 2.4 GHz WLAN 前端模塊 用于 WLAN/ 的 2.4 GHz、2 2.4 GHz、256 QAM 前端模塊 SkyOne? LiTE 低頻段前端模塊 5 GHz 802.11ac WLAN 帶增益的 RX 分集 FEM(B3、B3 用于 Zigbee 技術(shù)應(yīng)用/Threa 400 至 510 MHz 前端模塊,適
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