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標(biāo)簽 > 氮化硅
氮化硅基板是一種新型的材料,具有高功率密度、高轉(zhuǎn)換效率、高溫性能和高速度等特點(diǎn)。氮化硅(SI3N4)陶瓷線路板是一種采用氮化硅陶瓷材料作為基板的高性能電子線路板。它具有優(yōu)異的機(jī)械和電性能。
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國(guó)產(chǎn)氮化硅陶瓷基板升級(jí)SiC功率模塊,提升新能源汽車(chē)性能優(yōu)勢(shì)
國(guó)產(chǎn)氮化硅陶瓷基板升級(jí)SiC功率模塊,提升新能源汽車(chē)加速度、續(xù)航里程、輕量化、充電速度、電池成本5項(xiàng)性能優(yōu)勢(shì)
2023-03-15 標(biāo)簽:新能源汽車(chē)SiC功率模塊 1974 0
石英坩堝和石墨坩堝升級(jí)換代 可重復(fù)利用的高熱導(dǎo)氮化硅陶瓷坩堝5項(xiàng)優(yōu)勢(shì)助力我國(guó)單晶硅行業(yè)提質(zhì)增效
石英坩堝和石墨坩堝升級(jí)換代? 可重復(fù)利用的高熱導(dǎo)氮化硅陶瓷坩堝5項(xiàng)優(yōu)勢(shì)助力我國(guó)單晶硅行業(yè)提質(zhì)增效 石英坩堝在單晶硅行業(yè)的應(yīng)用 目前,國(guó)內(nèi)拉制半導(dǎo)體單晶硅...
隨著電子器件特別是第三代半導(dǎo)體的興起和應(yīng)用,半導(dǎo)體器件越來(lái)越小型化、集成化、多功能化,對(duì)襯底封裝性能提出了更高的要求。陶瓷基板具有高導(dǎo)熱性和耐熱性、低熱...
如何提高氮化硅的實(shí)際熱導(dǎo)率實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)的問(wèn)題解決
綜合上述研究可發(fā)現(xiàn),雖然燒結(jié)方式不一樣,但都可以制備出性能優(yōu)異的氮化硅陶瓷。在實(shí)現(xiàn)氮化硅陶瓷大規(guī)模生產(chǎn)時(shí),需要考慮成本、操作難易程度和生產(chǎn)周期等因素,因...
針對(duì)越來(lái)越明顯的大功率電子元器件的散熱問(wèn)題,主要綜述了目前氮化硅陶瓷作為散熱基板材料的研究進(jìn)展。對(duì)影響氮化硅陶瓷熱導(dǎo)率的因素、制備高熱導(dǎo)率氮化硅陶瓷的方...
中國(guó)第3代半導(dǎo)體半導(dǎo)體理想封裝材料——高導(dǎo)熱氮化硅陶瓷基板突破“卡脖子”難題
2022年9月,威海圓環(huán)先進(jìn)陶瓷股份有限公司生產(chǎn)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格0.32mmX139.7mmX190.5mm的高導(dǎo)熱氮化硅陶瓷基板已經(jīng)達(dá)到量產(chǎn)規(guī)模,高導(dǎo)熱...
如今高導(dǎo)熱氮化硅陶瓷基板因其優(yōu)異的機(jī)械性能和高導(dǎo)熱性而成為下一代大功率電子器件不可缺少的元件,適用于復(fù)雜和極端環(huán)境中的應(yīng)用。在這里,我們概述了制備高導(dǎo)熱...
氮化硅陶瓷基板有利于提高功率器件的可靠性及高導(dǎo)熱性
隨著能源的轉(zhuǎn)換、汽車(chē)的電氣化、高速鐵路的普及,控制能量的功率器件的負(fù)載越來(lái)越大。結(jié)果,作為功率器件的主要部件的半導(dǎo)體元件產(chǎn)生的熱量也在增加。由于熱量會(huì)降...
眾所周知,半導(dǎo)體器件運(yùn)行產(chǎn)生時(shí)的熱量是導(dǎo)致半導(dǎo)體器件失效的關(guān)鍵因素,而電絕緣基板的導(dǎo)熱性是整個(gè)半導(dǎo)體器件散熱最為關(guān)鍵的。此外,由于顛簸、振動(dòng)等復(fù)雜的機(jī)械...
評(píng)估各種清洗技術(shù)的典型方法是在晶片表面沉積氮化硅(Si,N4)顆粒,然后通過(guò)所需的清洗工藝處理晶片。國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)路線圖規(guī)定了從硅片上去除顆粒百分比的標(biāo)...
利用中紅外氮化硅波導(dǎo)傳感器檢測(cè)揮發(fā)性有機(jī)化合物
這些特性使SiN成為波導(dǎo)傳感器的理想材料,能夠在長(zhǎng)期傳感操作中實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、可再現(xiàn)的VOC檢測(cè)。然而,據(jù)本論文的作者們所知,先前關(guān)于SiN作為波導(dǎo)材料的研...
用于CVD金剛石沉積的氮化硅表面預(yù)處理報(bào)告
摘要 本文研究了氮化硅(氮化硅)基底的不同表面預(yù)處理(四種標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)蝕刻和四種金剛石粉末磨刻(CVD)的效率??瞻椎铇悠酚媚z體二氧化硅(0.25m)拋...
用磷酸揭示氮化硅對(duì)二氧化硅的選擇性蝕刻機(jī)理
關(guān)鍵詞:氮化硅,二氧化硅,磷酸,選擇性蝕刻,密度泛函理論,焦磷酸 介紹 信息技術(shù)給我們的現(xiàn)代社會(huì)帶來(lái)了巨大的轉(zhuǎn)變。為了提高信息技術(shù)器件的存儲(chǔ)密度,我們?nèi)A...
鍺對(duì)氮化硅中紅外集成光子學(xué)的波導(dǎo)
在中紅外波長(zhǎng)下,演示了一種具有大纖芯-包層指數(shù)對(duì)比度的鍺基平臺(tái)——氮化硅鍺波導(dǎo)。仿真驗(yàn)證了該結(jié)構(gòu)的可行性。這種結(jié)構(gòu)是通過(guò)首先將氮化硅沉積的硅上鍺施主晶片...
一種采用氮化硅襯底制造集成光子電路(光子芯片)技術(shù)
近日,瑞士洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院(EPFL)教授Tobias Kippenberg團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)出一種采用氮化硅襯底制造集成光子電路(光子芯片)技術(shù),得到了創(chuàng)紀(jì)錄的...
簡(jiǎn)析新型氮化硅光子集成電路實(shí)現(xiàn)極低的光學(xué)損耗
據(jù)報(bào)道,光子集成電路(PIC)通常采用硅襯底,大自然中有豐富的硅原料,硅的光學(xué)性能也很好。但是,基于硅材料的光子集成電路無(wú)法實(shí)現(xiàn)所需的各項(xiàng)功能,因此出現(xiàn)...
瑞士洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院(EPFL)基礎(chǔ)科學(xué)學(xué)院的Tobias Kippenberg教授帶領(lǐng)的科學(xué)家團(tuán)隊(duì)已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種采用氮化硅襯底制造光子集成電路的新技術(shù)...
羅杰斯公司于近日推出了新款 curamik?系列氮化硅 (Si3N4) 陶瓷基板。由于氮化硅的機(jī)械強(qiáng)度比其它陶瓷高,所以新款curamik? 基板能夠幫...
2012-08-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體芯片羅杰斯陶瓷基板 3733 0
低熱量化學(xué)氣相工藝制備氮化硅美國(guó)Aviza工藝公司開(kāi)發(fā)出一種低溫化學(xué)氣相沉積工藝(LPCVD),可在500℃左右進(jìn)行氮化硅沉積。這個(gè)工藝使用一
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