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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體制造
半導(dǎo)體制造,是用于制造半導(dǎo)體器件的過(guò)程,通常是日常電氣和電子設(shè)備中使用的集成電路(IC)芯片中使用的金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)器件。
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1950年發(fā)明,早期模擬電路廣泛使用BIPOLAR工藝,BIPOALR工藝可以做到非常低的漏電,非常低的噪聲,但是BIPOLAR最大問(wèn)題是實(shí)現(xiàn)數(shù)字電路比...
襯底(substrate)是由半導(dǎo)體單晶材料制造而成的晶圓片,襯底可以直接進(jìn)入晶圓制造環(huán)節(jié)生產(chǎn)半導(dǎo)體器件,也可以進(jìn)行外延工藝加工生產(chǎn)外延片。
2024-03-08 標(biāo)簽:GaN單晶硅半導(dǎo)體制造 2251 0
現(xiàn)在對(duì) 2 個(gè)晶圓進(jìn)行處理,為粘合做好準(zhǔn)備。它們經(jīng)過(guò) N2 等離子體處理以激活表面。等離子處理改變了表面的特性,以增加表面能并使其更加親水。
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料半導(dǎo)體器件光刻機(jī) 6477 0
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,我們經(jīng)常聽(tīng)到“薄膜制備技術(shù)”,“薄膜區(qū)”,“薄膜工藝”等詞匯,那么有厚膜嗎?答案是:有。
2024-02-25 標(biāo)簽:集成電路電阻器半導(dǎo)體制造 6845 0
關(guān)于半導(dǎo)體價(jià)值鏈分析(設(shè)計(jì)、制造和后制造)
半導(dǎo)體價(jià)值鏈的制造階段包括晶圓制造、前段制程、中段制程、后段制程和遠(yuǎn)端制程。
2024-02-19 標(biāo)簽:DRAMNAND半導(dǎo)體制造 2092 0
伯努利吸盤的應(yīng)用場(chǎng)景、原理及優(yōu)勢(shì)
伯努利吸盤是一種基于伯努利原理而工作的非接觸式吸盤。伯努利原理是流體動(dòng)力學(xué)中的一個(gè)基本概念,由18世紀(jì)的瑞士科學(xué)家丹尼爾·伯努利提出。伯努利原理指出,在...
2023-12-27 標(biāo)簽:晶圓砷化鎵半導(dǎo)體制造 4337 0
薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個(gè)方向。 PVD主要用來(lái)沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類,目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半...
2023-12-05 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝半導(dǎo)體制造 6755 0
在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,需要采用切割工藝對(duì)晶圓進(jìn)行劃片,然而傳統(tǒng)的金剛石切割、砂輪切割會(huì)對(duì)半導(dǎo)體材料造成較為嚴(yán)重的損傷,導(dǎo)致半導(dǎo)體晶圓碎裂、芯片性能下降...
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖...
2023-12-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī)半導(dǎo)體制造 5290 0
?cmp工藝是什么?化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹
化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹以及其比單純物理研磨的優(yōu)勢(shì)介紹。
在芯片制造中,單純的物理研磨是不行的。因?yàn)閱渭兊奈锢硌心?huì)引入顯著的機(jī)械損傷,如劃痕和位錯(cuò),且無(wú)法達(dá)到所需的平整度,因此不適用于芯片制造。
2023-11-29 標(biāo)簽:集成電路控制系統(tǒng)芯片制造 3446 0
汽車半導(dǎo)體分類及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)
去年因汽車半導(dǎo)體供應(yīng)短缺而陷入嚴(yán)重“新車交付危機(jī)”的汽車行業(yè),現(xiàn)在正面臨半導(dǎo)體庫(kù)存過(guò)剩的擔(dān)憂,汽車半導(dǎo)體需求的減少被認(rèn)為是根本原因。
2023-11-16 標(biāo)簽:恩智浦功率半導(dǎo)體半導(dǎo)體制造 1100 0
芯片流片后經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)哪些問(wèn)題?如何解決這些問(wèn)題呢?
芯片流片是半導(dǎo)體制造中一個(gè)非常重要的步驟,是將設(shè)計(jì)好的芯片圖案刻印到硅片上,從而制造出成品芯片。
2023-10-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造芯片制程 2414 0
在半導(dǎo)體制造中,刻蝕工序是必不可少的環(huán)節(jié)。而刻蝕又可以分為干法刻蝕與濕法刻蝕,這兩種技術(shù)各有優(yōu)勢(shì),也各有一定的局限性,理解它們之間的差異是至關(guān)重要的。
2023-09-26 標(biāo)簽:mems晶圓半導(dǎo)體制造 9233 1
定向去除微污染物,可助力半導(dǎo)體制造高效除污,確保材料純度
幾乎所有進(jìn)入晶圓廠的物質(zhì),包括液體、氣體和環(huán)境空氣,都有可能攜帶污染物,會(huì)對(duì)晶圓和器件的性能造成不利影響。每個(gè)制程區(qū)域?qū)γ糠N污染物的敏感度各不相同。在不...
2023-09-25 標(biāo)簽:晶圓廠模型半導(dǎo)體制造 829 0
極紫外 (EUVL) 光刻設(shè)備技術(shù)應(yīng)用分析
歐洲極紫外光刻(EUVL)技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來(lái)制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來(lái)源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大...
PH? 是常用的n型摻雜氣體。什么是n型摻雜?硅是四價(jià)元素,每個(gè)硅原子與四個(gè)鄰近的硅原子共享電子形成共價(jià)鍵。當(dāng)將五價(jià)的磷引入到硅晶體中時(shí),其中一個(gè)價(jià)電子...
2023-09-18 標(biāo)簽:晶體芯片制造半導(dǎo)體制造 3894 0
半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體制造工藝的后道工序,是指將通過(guò)測(cè)試的晶圓加工得到獨(dú)立芯片的過(guò)程,即將制作好的半導(dǎo)體器件放入具有支持、保護(hù)的塑料、陶瓷或金屬外殼中,并與...
2023-09-29 標(biāo)簽:SiP芯片設(shè)計(jì)CSP 3167 0
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