一文看懂EUV光刻

極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。

2023-06-06 標簽：半導體晶圓光刻 1573 0

PCB上的死銅對電路性能的影響

在PCB的制造和設計過程中，可能會出現(xiàn)一種叫做"死銅"的問題。本文將解析死銅在PCB上的含義、成因、對電路性能的影響以及解決方法。

2023-06-05 標簽：電路pcbPCB設計 1565 0

EUV光源四種產(chǎn)生方式及對比分析

隨著光刻技術的進步，光刻光源的曝光波長已經(jīng)減小很多。早期投影式光刻技術的曝光波長為436nm、365nm （分別來自于汞弧燈可見光g線和紫外光i線），所...

2023-06-01 標簽：集成電路光刻EUV 2980 0

逆向光刻的原理及其優(yōu)勢

中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設...

2023-05-26 標簽：集成電路光刻光刻技術 1297 0

樂趣探索不一樣的計算光刻

之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結構。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加...

2023-05-25 標簽：光刻微電路ASML 1122 0

光刻技術：光學關鍵尺寸測量（OCD）原理

　　集成電路芯片持續(xù)朝著密度不斷增加和器件尺寸不斷微縮的方向發(fā)展，其中最為關鍵的一個參數(shù)就是柵極線條寬度。任何經(jīng)過光刻后的光刻膠線條寬度或刻蝕后柵極線條...

2023-05-24 標簽：集成電路光刻OCD 1.1萬 0

EUV光刻技術優(yōu)勢及挑戰(zhàn)

EUV光刻技術仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。

2023-05-18 標簽：光刻人工智能EUV 3641 0

光刻技術的種類介紹

根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所...

2023-04-25 標簽：光刻半導體器件光刻膠 2231 0

光刻技術的原理及發(fā)展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質變化，從而使光罩上得圖形...

2023-04-25 標簽：芯片電子元件光刻 4610 0

光刻技術簡述

光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程

2023-04-25 標簽：半導體光刻光刻工藝 2180 0

計算光刻技術有多重要？計算光刻如何改變2nm芯片制造？

光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。

2023-04-25 標簽：gpu芯片制造光刻 1598 0

昂圖科技的極大尺寸照射場高分辨率光刻系統(tǒng)克服了FOPLP圖形形變挑戰(zhàn)

異構集成技術集成了多個來自不同制程與功能各異的芯片來達到更優(yōu)越的效能。在大尺寸的面板級封裝中，現(xiàn)存的步進式曝光機有著最大單一照射場（Exposure F...

2023-04-23 標簽：芯片封裝分辨率 1688 0

十大步驟詳解芯片光刻的流程

在集成電路的制造過程中，有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。 現(xiàn)代刻劃技術可以追溯到190年以前，1822年法國人N...

2023-02-16 標簽：芯片集成電路半導體 6762 0