光刻膠

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光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。

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光刻膠資訊

? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材，尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷，國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密，我國(guó)九成以上光刻膠依賴進(jìn)口...

2025-07-13 標(biāo)簽：光刻膠材光刻膠 2787 0

行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測(cè)量之光刻膠厚度測(cè)量

光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下，溶解度會(huì)發(fā)生變化，主要應(yīng)用于顯示面板、集成電...

2025-07-11 標(biāo)簽：光刻膠 51 0

金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝對(duì)金屬結(jié)構(gòu)的保護(hù)至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過(guò)度蝕刻，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝質(zhì)量...

2025-06-24 標(biāo)簽：測(cè)量光刻膠白光干涉儀 154 0

高效緩蝕芯片光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在芯片制造過(guò)程中，光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而傳統(tǒng)剝離液易對(duì)芯片金屬層造成腐蝕，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)芯片制造工藝的優(yōu)化至關(guān)重要。本...

2025-06-23 標(biāo)簽：芯片光刻膠 138 0

光刻膠圖案化方法及光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠的圖案化和剝離是形成精確圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟，而光刻圖形的準(zhǔn)確測(cè)量則是確保工藝質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)。本文將詳細(xì)介紹光刻膠...

2025-06-20 標(biāo)簽：干涉儀光刻膠 192 0

金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對(duì)金屬層產(chǎn)生過(guò)度刻蝕，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。...

2025-06-16 標(biāo)簽：光刻膠刻蝕 141 0

減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文...

2025-06-14 標(biāo)簽：干涉儀光刻膠 302 0

用于疊層晶圓的光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)向高密度、高性能方向發(fā)展，疊層晶圓技術(shù)成為關(guān)鍵。在疊層晶圓制造過(guò)程中，光刻膠剝離液的性能對(duì)工藝質(zhì)量和器件可靠性影響重大。同時(shí)，精確測(cè)...

2025-06-12 標(biāo)簽：光刻光刻膠 155 0

光刻工藝中的顯影技術(shù)

一、光刻工藝概述光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù)，通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化，再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程，將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖...

2025-06-09 標(biāo)簽：光刻顯影光刻膠 442 0

可再生光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工行業(yè)，光刻膠剝離液的使用量龐大。傳統(tǒng)剝離液存在環(huán)境污染、資源消耗等問(wèn)題，可再生光刻膠剝離液憑借環(huán)保與可持續(xù)優(yōu)勢(shì)成為研究熱點(diǎn)。...

2025-06-05 標(biāo)簽：干涉儀光刻膠 205 0

光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來(lái)可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。光刻膠（photo...

2025-06-04 標(biāo)簽：光刻膠 215 0

光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)...

2025-05-29 標(biāo)簽：光刻光刻膠白光干涉儀 242 0

光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

引言在半導(dǎo)體制造、微納加工等領(lǐng)域，光刻膠剝離是光刻工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一，直接影響后續(xù)工藝的進(jìn)行和最終產(chǎn)品的質(zhì)量。而對(duì)光刻圖形的精確測(cè)量，能夠有效監(jiān)控光刻...

2025-05-28 標(biāo)簽：測(cè)量光刻膠 131 0

勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速對(duì)微流控芯片精度的影響

微流控芯片制造過(guò)程中，勻膠是關(guān)鍵步驟之一，而勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速會(huì)在多個(gè)方面對(duì)微流控芯片的精度產(chǎn)生影響：對(duì)光刻膠厚度的影響勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋...

2025-03-24 標(biāo)簽：微流控芯片微流控光刻膠 338 0

微流控勻膠過(guò)程簡(jiǎn)述

勻膠機(jī)的基本原理和工作方式勻膠機(jī)是一種利用離心力原理，將膠液均勻涂覆在基片上的設(shè)備。其基本工作原理是通過(guò)程序調(diào)控旋轉(zhuǎn)速度來(lái)改變離心力大小，并利用滴膠裝...

2025-03-06 標(biāo)簽：微流控光刻膠 382 0

募資12億！國(guó)內(nèi)光刻膠“銷冠王”沖刺IPO！

日前，廈門(mén)恒坤新材料科技股份有限公司（下稱“恒坤新材”）科創(chuàng)板IPO獲受理。該公司擬發(fā)行6739.7940萬(wàn)新股，融資12.00億元，用于集成電路前驅(qū)體...

2025-01-07 標(biāo)簽：光刻膠 510 0

微流控中的烘膠技術(shù)

一、烘膠技術(shù)在微流控中的作用提高光刻膠穩(wěn)定性在微流控芯片制作過(guò)程中，光刻膠經(jīng)過(guò)顯影后，進(jìn)行烘膠（堅(jiān)膜）能使光刻膠結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定。例如在后續(xù)進(jìn)行干法刻...

2025-01-07 標(biāo)簽：微流控光刻膠 446 0

晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來(lái)越廣，晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術(shù)在晶圓制造過(guò)程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質(zhì)量直...

2025-01-03 標(biāo)簽：光刻膠 676 0

光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹(shù)脂決定了光刻...

2024-12-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻膠 991 0

干法刻蝕時(shí)側(cè)壁為什么會(huì)彎曲

離子轟擊的不均勻性干法刻蝕通常是物理作用和化學(xué)作用相結(jié)合的過(guò)程，其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過(guò)程中，離子的入射角和能量分布可能不均勻. 如...

2024-12-17 標(biāo)簽：光刻膠刻蝕 831 0

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