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標(biāo)簽 > 光刻膠

光刻膠

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光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

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光刻膠技術(shù)

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2024-03-18 標(biāo)簽:集成電路芯片制造光刻 3226 0

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2024-03-17 標(biāo)簽:繼電器探測器SEM 1966 0

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2024-03-07 標(biāo)簽:濾波器光刻膠SAW濾波器 5275 0

一文解析半導(dǎo)體設(shè)計電路的“光刻工藝”

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利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2024-03-06 標(biāo)簽:集成電路光刻機(jī)光刻膠 1480 0

光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

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2024-03-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料半導(dǎo)體器件光刻機(jī) 6384 0

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2024-02-28 標(biāo)簽:紅外探測器光刻膠 864 0

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PSPI(光敏性聚酰亞胺)是一種十分重要的半導(dǎo)體材料,也是一種十分被卡脖子的材料。

2023-12-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體PCB板晶圓 4678 0

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KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200...

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光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電...

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2023-10-25 標(biāo)簽:太陽能電池光譜光刻技術(shù) 1229 0

光刻區(qū)為什么選黃光燈?為什么不使用紅光或綠光?

黃光的波長遠(yuǎn)離UV范圍,因此不會引起光刻膠的意外曝光。黃光燈通常不含有紫外線,從而保護(hù)光敏材料免受不必要的曝光。

2023-10-11 標(biāo)簽:紫外線光刻光刻膠 3768 0

半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

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光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化...

2023-10-09 標(biāo)簽:電路圖光刻光刻機(jī) 4575 0

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    靜電防護(hù)
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    ESP8266
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    wifi模塊ESP8266的默認(rèn)波特率是115200,但是單片機(jī)不能達(dá)到那么快的傳輸速率,只能使用4800bps,那么設(shè)置的時候,必不可少的要先用轉(zhuǎn)串口調(diào)試下載器。
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振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
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開關(guān)電源 步進(jìn)電機(jī) 無線充電 LabVIEW EMC PLC OLED 單片機(jī)
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