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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料半導(dǎo)體器件光刻機(jī) 6384 0
需要鋁金屬的地方太多了,在DRAM和flash等存儲器產(chǎn)品中,鋁連線由于成本低廉和加工簡便仍被廣泛使用。這些存儲器設(shè)備通常不像高性能邏輯芯片那樣對電阻和...
2023-12-25 標(biāo)簽:存儲器等離子體半導(dǎo)體封裝 1474 0
本篇文章將探討用于晶圓級封裝(WLP)的各項材料,從光刻膠中的樹脂,到晶圓承載系統(tǒng)(WSS)中的粘合劑,這些材料均在晶圓級封裝中發(fā)揮著重要作用。
2023-12-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝封裝工藝光刻膠 2993 0
光刻各環(huán)節(jié)對應(yīng)的不同模型種類
光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過優(yōu)化的光源,通過光刻...
2023-12-11 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)器學(xué)習(xí) 2341 0
KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200...
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高...
2023-11-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料光刻膠 2250 0
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電...
黃光的波長遠(yuǎn)離UV范圍,因此不會引起光刻膠的意外曝光。黃光燈通常不含有紫外線,從而保護(hù)光敏材料免受不必要的曝光。
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