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標(biāo)簽 > 光刻機
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出自對華為的顧慮,很多人早已熟識tsmc了。tsmc也很搶眼。甚至是sung和intel與tsmc對比也是有非常大懸殊。 華為遭遇的艱難也逐漸慢慢地獲得...
JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一,其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。
報道顯示,拜d政府?dāng)M將17類(臺)超百萬美元的設(shè)備制裁,擴大到34類(擴大一倍)。這一限制是在2022年10月出臺的對華半導(dǎo)體出口管制基礎(chǔ)上的進(jìn)一步升級...
消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號,不在本次官方禁...
光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML股價暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅
在當(dāng)?shù)貢r間周二,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績報告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第一時間反應(yīng)到ASML公司的股價暴跌。 在美股...
ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機開發(fā)已經(jīng)啟動
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的...
東方嘉盛回答說,公司上半年向深圳海關(guān)申請設(shè)立寄售維修保稅倉庫,已經(jīng)得到批準(zhǔn)。7月初,公司已中標(biāo),將與國際頭芯片光刻機制造企業(yè)合作,共同在深圳建設(shè)承銷保價...
根據(jù)新出口管制條例規(guī)定,ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證,方可發(fā)運其最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)。
對于科技企業(yè)來說,擁有充足的資金,才可以保證強勁的創(chuàng)新,而臺積電也自然明白這個道理。
2020-12-01 標(biāo)簽:臺積電數(shù)據(jù)光刻機 1254 0
鉛(Pb2?)、鎘(Cd2?)、汞(Hg2?)等重金屬離子是一類化學(xué)穩(wěn)定性高、生物可降解性低的環(huán)境污染物,其在生物體內(nèi)蓄積會對人體健康產(chǎn)生負(fù)面影響
荷蘭實施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證
荷蘭實施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實施半導(dǎo)體出口管制條款,這將對光刻機巨頭阿斯麥(ASML)產(chǎn)生更多影...
宇微光學(xué):突破納米級別核心技術(shù),自主研發(fā)光刻軟件精準(zhǔn)成像
從英國訪學(xué)歸國后不久的劉世元,在學(xué)院派遣下,作為最早的幾個技術(shù)骨干之一,加盟上海微電子裝備有限公司,成為“100nm光刻機”研制任務(wù)總體組成員、控制學(xué)科...
LGD引進(jìn)尼康步進(jìn)式光刻機 以加快將業(yè)務(wù)重心轉(zhuǎn)向OLED
3 月 18 日訊,據(jù)韓媒報道,LG Display 計劃本月從尼康引進(jìn)步進(jìn)式光刻機,用于坡州市 P10 工廠內(nèi)的 10.5 代 OLED 產(chǎn)線,以加快...
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產(chǎn)效...
總投資130億元,這家芯片公司破產(chǎn)清算!2億元***拍賣無人問津!
資料顯示,江蘇時代芯存半導(dǎo)體有限公司(AMS)2016 年 10 月落戶國家級淮安高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū),項目總投資 130 億元,由北京時代全芯存儲技術(shù)股...
突發(fā)!12寸晶圓廠已正式進(jìn)入破產(chǎn)清算程序
時代芯存采購二手ASML光刻機(型號:1950Hi)約人民幣2億元,2023年7月,江蘇淮安市淮陰區(qū)人民法院正式受理了江蘇時代芯存半導(dǎo)體有限公司的破產(chǎn)清...
當(dāng)天,ASML公布了去年第四季度凈利潤18.2億歐元,超過了專家的預(yù)測(17億歐元)。這一數(shù)字比前一年的17.7億歐元有所增加。第四季度的銷售額為64....
俄羅斯:2024年將制造350nm***,2026年生產(chǎn)130nm***
目前,俄羅斯雖然擁有利用外國制造設(shè)備的65納米技術(shù),但不能生產(chǎn)光刻機。在現(xiàn)代光刻設(shè)備的情況下,外國企業(yè)被禁止出口之后,俄羅斯正在忙于自身的生產(chǎn)設(shè)備開發(fā)。
如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
同時實現(xiàn)大視場與高解像力曝光 佳能發(fā)布半導(dǎo)體***新品
來源:佳能 佳能于3月13日發(fā)售面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機新產(chǎn)品----i線※1步進(jìn)式光刻機“FPA-5550iX”,該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn)0.5μm(微米...
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