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光刻機(jī)

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光刻機(jī)資訊

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2021-01-18 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 4620 0

大族激光表示:在研光刻機(jī)項(xiàng)目分辨率為3-5μm,且已實(shí)現(xiàn)小批量銷售

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為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電呢

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三星1nm時(shí)代光刻機(jī)體積將增加

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芯源微發(fā)布期接受機(jī)構(gòu)調(diào)研的活動(dòng)記錄表

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2021-01-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻機(jī) 1331 0

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2021-01-10 標(biāo)簽:芯片光刻機(jī)ASML 1674 0

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2021-01-10 標(biāo)簽:電氣光刻機(jī) 7469 0

臺(tái)積電談實(shí)現(xiàn)5nm的關(guān)鍵技術(shù)

? ? 進(jìn)入最近幾年,每當(dāng)我們引入一個(gè)新的先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn),大家都把絕大多數(shù)注意力集中在光刻更新上。引用的常用指標(biāo)是每平方毫米的晶體管或(高密度)SRAM位...

2021-01-08 標(biāo)簽:臺(tái)積電sram光刻機(jī) 3888 0

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