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標(biāo)簽 > 光刻機
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盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機廠商,憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額,但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。...
光刻機巨頭ASML市值破紀(jì)錄:突破2萬億;Intel 10nm工藝成功,成本爆降45%|一周科技熱評
巴赫:東京奧運會將首次全部采用云技術(shù)支撐全球轉(zhuǎn)播 ? 據(jù)國際奧委會主席巴赫介紹,由于疫情原因,今年東京奧運會將首次全部采用云技術(shù)支撐全球轉(zhuǎn)播,成為一次 ...
主宰半導(dǎo)體先進制程,全球***龍頭AMSL的發(fā)展史
技術(shù)升級階段 (2007 至今):該階段公司技術(shù)不斷升級,推出一系列創(chuàng)新產(chǎn)品, 于 2010 年推出全球首臺 EUV 光刻機 NXE3100,并于 20...
3月3日晚間,中芯國際在港交所公告,根據(jù)批量采購協(xié)議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間,就購買阿斯麥產(chǎn)品與阿斯麥集團簽訂購買單,...
三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
但光板作為芯片生產(chǎn)中不可打破的技術(shù)難關(guān)和核心技術(shù)之一,目前仍被寡頭企業(yè)壟斷。asml就是這個專業(yè)市場的獨角獸企業(yè),技術(shù)和市場都無法替代。
三星可生產(chǎn)euv光刻機嗎 euv光刻機每小時產(chǎn)能
隨著芯片制程工藝的更新迭代,芯片已進入納米時代,指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機。
目前,高端集成電路材料的核心技術(shù)掌握在歐美日等外國企業(yè)手中,不少集成電路制造用到的關(guān)鍵材料已經(jīng)和半導(dǎo)體制造設(shè)備、EDA軟件一樣,成為我國發(fā)展自主半導(dǎo)體產(chǎn)...
政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展,我國光刻機行業(yè)研發(fā)進度仍待加快
光刻機又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)近日,產(chǎn)業(yè)鏈傳來消息稱,受先進制程產(chǎn)能利用率下滑影響,臺積電正在考慮從今年年底開始,關(guān)閉部分EUV光刻機,以節(jié)省能耗。 就...
雖然目前上海微電子裝備(集團)股份有限公司所生產(chǎn)的光刻機設(shè)備較為低端,但依舊占據(jù)著國內(nèi)近80%的光刻機市場份額,所以SMEE憑借幾乎壟斷國內(nèi)的光刻機市場...
淺談半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)鏈面臨的新挑戰(zhàn)
半導(dǎo)體制造設(shè)備是整個產(chǎn)業(yè)的基石,貫穿設(shè)計、硅片制造、晶圓制造及封裝測試等環(huán)節(jié),尤其晶圓制造環(huán)節(jié)所用設(shè)備分量最大。當(dāng)前,在晶圓制造中刻蝕機、光刻機和薄膜沉...
2021-03-23 標(biāo)簽:光刻機半導(dǎo)體制造ASML 6278 0
國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈:星星之火,可以燎原
“星星之火,可以燎原。現(xiàn)在雖只有一點小小的力量,但它的發(fā)展會是很快的?!?—— 《毛澤東選集》第一卷 2001年2月27日,中科院院士、北大微電子研究院...
摘要:芯片制造用到的技術(shù)很多,光刻是芯片制造的靈魂技術(shù),但是開始的時候,光刻并不是所有技術(shù)中最厲害的?,F(xiàn)在大眾認(rèn)識到了芯片的重要性,討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子...
阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺積電光刻機 據(jù)彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔(dān)憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官...
美聯(lián)合日荷加強限制中國半導(dǎo)體設(shè)備出口
據(jù)路透社報道,為了防止中國半導(dǎo)體在未來幾年內(nèi)超過美國,當(dāng)?shù)貢r間3月1日,美國國家安全委員會 (NSCAI) 建議國會聯(lián)合日本、荷蘭,加強限制芯片制造設(shè)備...
總有人說光刻機有什么難的?就算被封鎖,憑我們自己的能力還造不出嗎?在這里要特地說一下,研制光刻機,可比研制原子彈難多了。
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