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      標(biāo)簽　>　光刻機(jī)

      光刻機(jī)

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      文章：1110個(gè) 瀏覽：48196次 帖子：5個(gè)

      光刻機(jī)資訊

      臺(tái)積電將2024年獲高NA EUV光刻機(jī) 助于2nm工藝量產(chǎn)

      　　最近，據(jù)報(bào)道，臺(tái)積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設(shè)備，為客戶開發(fā)相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和架構(gòu)解決方案。

      2022-09-20 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī) 1541 0

      光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)高精度測溫儀簡介

      智測電子1611A系列多通道測溫采集儀，滿足《JJF1527-2015聚合酶鏈反應(yīng)分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》。按連接傳感器的不同，可分為鉑電阻、熱敏電阻和熱電偶三...

      2022-09-19 標(biāo)簽：半導(dǎo)體測溫儀光刻機(jī) 2554 0

      傳臺(tái)積電計(jì)劃關(guān)閉EUV光刻機(jī)來減少產(chǎn)能

      一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī)，一天就能省下3萬度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣（約合人民幣0.55元...

      2022-09-08 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)EUV 1631 0

      佳能發(fā)售半導(dǎo)體光刻機(jī)解決方案Lithography Plus

      來源：佳能集團(tuán) 通過技術(shù)與數(shù)據(jù)優(yōu)勢，提升光刻機(jī)的生產(chǎn)效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺(tái)“Lithography Plus１”服務(wù)（以下簡...

      2022-09-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī) 1849 0

      芯片市場萎靡，臺(tái)積電計(jì)劃年底關(guān)停部分EUV

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）近日，產(chǎn)業(yè)鏈傳來消息稱，受先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率下滑影響，臺(tái)積電正在考慮從今年年底開始，關(guān)閉部分EUV光刻機(jī)，以節(jié)省能耗。 就...

      2022-09-04 標(biāo)簽：臺(tái)積電光刻機(jī)3nm 6336 0

      光刻機(jī)到底是臺(tái)什么樣的機(jī)器？中國在這方面又該如何突破？

      為何只有荷蘭能造頂級(jí)光刻機(jī)？就連米國都不行，中國芯片如何突破 1光刻機(jī)到底是臺(tái)什么樣的機(jī)器？ 如果你在路上看見寫著AMSL的集箱貨車，就算你開勞斯萊斯，...

      2022-08-21 標(biāo)簽：光刻機(jī) 5703 0

      高NA EUVL：光刻的下一個(gè)主要步驟

      高NA EUVL：光刻的下一個(gè)主要步驟

      2019 年是極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)的重要里程碑。當(dāng)年，EUV圖案化技術(shù)首次用于7nm技術(shù)一代邏輯芯片的量產(chǎn)。插入以圖案化芯片后端 (BEOL) ...

      2022-07-26 標(biāo)簽：光刻機(jī) 2507 0

      芯片是怎么被“光刻”出來的

      首先光刻膠成分復(fù)雜，一瓶光刻膠需要光引發(fā)劑、光增感劑、光致產(chǎn)酸劑、樹脂、稀釋劑、溶劑、助劑這些材料組成，而且配方都是保密的。

      2022-07-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)光刻膠 4827 0

      外媒：美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機(jī)

      溫彼得此番言論是出于營收考慮？還是真的擔(dān)心全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中斷？我們根據(jù)幾項(xiàng)數(shù)據(jù)事實(shí)來深入分析一下。

      2022-07-25 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 2997 0

      ASML警告美國：對(duì)中國斷供DUV光刻機(jī)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷，真是如此嗎？

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）近日，針對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機(jī)一事，ASML首席執(zhí)行官（CEO）溫彼得正式回應(yīng)稱，...

      2022-07-25 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLDUV 4580 0

      EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

      與此同時(shí)，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了...

      2022-07-22 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻機(jī) 2951 0

      Techinsights對(duì)存儲(chǔ)器未來的發(fā)展分析

      而主要的 NAND 制造商正在競相增加垂直 3D NAND 門的數(shù)量，并推出了 1yyL 3D NAND 設(shè)備。例如，三星 V7 V-NAND、鎧俠和西...

      2022-07-13 標(biāo)簽：存儲(chǔ)器晶體管光刻機(jī) 4211 0

      可潤濕表面圖案化的簡便無掩模限制蝕刻策略

      據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道，鑒于此，四川大學(xué)王玉忠院士和宋飛教授開發(fā)了一種用于本征可潤濕表面圖案化的簡便無掩模限制蝕刻策略。使用常見的印刷技術(shù)和隨后的位置限制化學(xué)...

      2022-07-11 標(biāo)簽：傳感器印刷技術(shù)光刻機(jī) 1675 0

      光刻機(jī)為什么這么難呢

      芯片想必大家都很熟悉，光刻機(jī)是是制造芯片的核心裝備，并且光刻機(jī)只有一小部分國家擁有，那么光刻機(jī)為什么這么難呢？ 據(jù)說越小的東西，建造起來就越困難。 這句...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī) 9606 0

      euv光刻機(jī)用途是什么

      光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 4320 0

      euv光刻機(jī)原理是什么

      euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 1.7萬 0

      duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

      目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUVDUV 8.5萬 0

      euv光刻機(jī)是干什么的

      光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。 光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 7308 0

      euv光刻機(jī)是哪個(gè)國家的

      說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道...

      2022-07-10 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV 7969 0

      euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)

      EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。

      2022-07-07 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 5089 0

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