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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光...
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長...
光掩??梢员徽J(rèn)為是芯片的模板。光掩模用電子束圖案化并放置在光刻工具內(nèi)。然后,光掩??梢晕栈蛏⑸涔庾樱蛟试S它們穿過晶圓。這就是在晶圓上創(chuàng)建圖案的原因。
集成電路前道工藝及對應(yīng)設(shè)備主要分八大類,包括光刻(光刻機(jī))、刻蝕(刻蝕機(jī))、薄膜生長(PVD-物理氣相沉積、CVD-化學(xué)氣相沉積等薄膜設(shè)備)、擴(kuò)散(擴(kuò)散...
在投影光刻機(jī)照明系統(tǒng)中,均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項(xiàng)重要技術(shù)。通常,用于光刻機(jī)照明系統(tǒng)的勻光元件有積分棒、衍射光學(xué)元件和微透鏡陣列。積分...
2023-05-17 標(biāo)簽:照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)光刻機(jī) 2263 0
? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)...
光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的,而對所有的圖形進(jìn)行SMO是極為耗時的,因此,我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復(fù)或者冗余的圖形剔除,以保...
根據(jù)存儲與計(jì)算的距離遠(yuǎn)近,將廣義存算一體的技術(shù)方案分為三大類,分別是近存計(jì)算 (Processing Near Memory,PNM)、存內(nèi)處理(Pro...
提到CPU性能,大部分同學(xué)想到的都是CPU利用率,這個指標(biāo)確實(shí)應(yīng)該首先被關(guān)注。但是除了利用率之外,還有很容易被人忽視的指標(biāo),就是指令的運(yùn)行效率。
納米壓印技術(shù),即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形,通過壓印等技術(shù)...
其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng),再到光掩模,再到對準(zhǔn)系統(tǒng),再到晶圓載物臺,再到光刻膠化學(xué)成分,再到鍍膜機(jī)和顯影劑,再到計(jì)量學(xué),再到單個晶圓。
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌饪坦に?,是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近,海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機(jī),進(jìn)行了大規(guī)模生產(chǎn),并取...
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