資料介紹
摘要: 高效太陽能電池與埋地接觸太陽能電池一樣,通常需要致密的氮化硅作為擴(kuò)散屏障和抗反射涂層。這通常是通過低壓化學(xué)氣相沉積來實(shí)現(xiàn)的(LPCVD)使用二氯硅烷基氮化物在700°C-800°C的溫度范圍內(nèi)沉積。 在這項(xiàng)工作中,我們目前采用正面埋接接觸和背面絲網(wǎng)印刷的雙面太陽能電池,采用較低的基于雙(叔丁基氨基)-硅烷(BTBAS)前驅(qū)體的LPCVD工藝。用于氮化物沉積在550°C至600°C的范圍內(nèi)。 生產(chǎn)的太陽能電池在正面和背面 76.8%。這種較高的填充因子值表明這種混合接觸結(jié)構(gòu)有效適用于雙面太陽能電池結(jié)構(gòu)。此外,與以下設(shè)備相比,電池結(jié)構(gòu)具有更好的機(jī)械強(qiáng)度雙面埋式接觸太陽能電池。
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