作為工程師和開發(fā)人員，我們的工作就是找到一個將所有元件組合在一起的最佳方法。不管是對于摩天大樓、還是集成電路，內(nèi)部工程結(jié)構(gòu)都是決定是否能夠運(yùn)轉(zhuǎn)良好的關(guān)鍵之一。但說回來，又有誰不曾幻想做個“破壞王”，把東西都拆開來一探究竟呢？我們最初的與工程設(shè)計有關(guān)的記憶大部分都來自小時候把看起來復(fù)雜——甚至是昂貴——的東西拆得七零八落。
　　既然如此，我們就打算看一看DLP NIRscan Nano評估模塊（EVM）的內(nèi)部構(gòu)造，我們將用老辦法——拆開它。
　　需要注意的是，任何對光引擎的拆解都會使NIRscan Nano EVM的保修失效。另外，去掉光引擎上的罩子會使灰塵和污垢聚集在光學(xué)器件上，從而影響到系統(tǒng)性能。此外，去掉上面的罩子會移動光學(xué)器件、狹縫和探測器，導(dǎo)致這些元件錯位，從而需要廠家重新進(jìn)行對準(zhǔn)和校準(zhǔn)。而一旦拆除狹縫，則需要把InGaAs探測器和DLP2010NIR返廠進(jìn)行系統(tǒng)對準(zhǔn)與校準(zhǔn)。
　　總之一句話，這事兒不能在家里嘗試。
　　我們先來快速瀏覽一下?；贒LP的分光計用一個針對波長選擇的數(shù)字微鏡器件（DMD）和單點探測器取代了傳統(tǒng)線性陣列探測器。通過按序打開與特定波長光相對應(yīng)的一組鏡列，對應(yīng)光線被指向探測器，并被捕獲。通過掃描DMD上的一組鏡列，可以計算出吸收光譜。
　　近紅外（NIR）光譜分析內(nèi)的DLP技術(shù)可提供以下優(yōu)勢：
　　·與使用具有極小像素的線性陣列探測器相比，使用更大的單點1毫米探測器能實現(xiàn)更高性能。
　　·使用單元探測器和低成本光學(xué)器件能幫助實現(xiàn)更低的系統(tǒng)成本。高分辨率DMD使得定制圖形能夠補(bǔ)償每一個單獨系統(tǒng)的光學(xué)失真。
　　·更大信號的捕獲不僅得益于DMD相比傳統(tǒng)技術(shù)更大的光展量（etendue），而且也受益于其快速、靈活、以及可編程的顯示模式及光譜濾波器設(shè)計。
　　·借助可編程顯示模式，DLP分光計能夠：
　　o通過控制一個鏡列中的像素數(shù)量來改變到達(dá)探測器的光的強(qiáng)度。
　　o通過控制鏡列的寬度來改變系統(tǒng)的分辨率。
　　o通過使用一組Hadamard圖形完成在一個圖形內(nèi)捕捉多個波長的光。然后，單獨的波長數(shù)據(jù)可通過解碼獲取。每個模式內(nèi)打開DMD像素數(shù)量的50%，從而將比上面提到的列掃描方式獲取的更強(qiáng)的信號引至探測器。
　　o使用定制光譜濾波器來選擇需要的特定波長。
　　目前，DLP NIRscan Nano EVM軟件支持可變分辨率和Hadamard圖形。暫不支持可變強(qiáng)度和定制光譜濾波器。
　　在以下這幅圖片中，你可以看到DLP NIRscan Nano EVM的主要組件：