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液晶空間光調(diào)制器常用的校準(zhǔn)測(cè)量方式2023-08-04 08:19
不同的LCOS所能調(diào)制的范圍不同,因此在使用之前,需要對(duì)每個(gè)LCOS都進(jìn)行調(diào)制性能的標(biāo)定。主要測(cè)量方法有功率計(jì)探測(cè)法、馬赫—曾德干涉方法、徑向剪切干涉方法、泰曼格林干涉方法、雙孔干涉方法等。下面簡(jiǎn)單介紹幾種。功率計(jì)直接探測(cè)法圖1功率計(jì)直接探測(cè)法的原理圖如圖1所示,激光經(jīng)準(zhǔn)直擴(kuò)束后照射在非偏振分束片上,其中透射光經(jīng)LCOS調(diào)制后反射,反射光經(jīng)反射鏡反射后作為參 -
近紅外至中紅外可調(diào)諧激光器選型方案2023-07-31 22:58
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折射率引導(dǎo)型光子晶體光纖的結(jié)構(gòu)類型與機(jī)理2023-07-31 22:58
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焦點(diǎn)光斑分析儀的選型指南:激光3D打印應(yīng)用領(lǐng)域2023-07-31 17:46
為了使用基于激光的增材制造工藝創(chuàng)造出一致的、堅(jiān)固的結(jié)構(gòu),以滿足航空航天標(biāo)準(zhǔn)或醫(yī)療設(shè)備的FDA要求,需要已知尺寸、功率密度和焦點(diǎn)位置的激光束是必需的。高質(zhì)量的3D激光打印工藝需要激光器提供正確的功率,正確分布并集中在正確的位置。為了確保部件的一致性和結(jié)構(gòu)的合理性,這些參數(shù)應(yīng)該在制造任何關(guān)鍵部件前后可以直接測(cè)量,極大地幫助光學(xué)工程師分析設(shè)備光路中產(chǎn)生的各種問(wèn)題。 -
COMS-Magview-磁場(chǎng)相機(jī)背后的秘密-磁光傳感器!2023-07-01 14:00
磁性材料的可靠使用需要精確的磁場(chǎng)分布信息,例如在生產(chǎn)過(guò)程中、作為質(zhì)量管理過(guò)程的一部分以及在研發(fā)領(lǐng)域中。磁光傳感器是無(wú)損檢測(cè)磁場(chǎng)分布的新方法。圖1.此圖代表不同階段的磁光傳感器:初始基板、涂有MO和反射層(從左到右)現(xiàn)有磁場(chǎng)測(cè)量系統(tǒng)的原理基于磁場(chǎng)對(duì)傳感器內(nèi)電壓和電流等電學(xué)參數(shù)產(chǎn)生不同物理效應(yīng)。通過(guò)測(cè)量值和特定材料常數(shù),可以分析磁場(chǎng)強(qiáng)度和通量密度。例如,在霍爾傳 -
M-axis永磁體特性全新表征方法-高精度磁偏角磁矩快速確定!2023-07-01 10:02
永磁體廣泛用于傳感器和電機(jī)應(yīng)用。除此之外,磁場(chǎng)還用于信息存儲(chǔ)和文件欺詐保護(hù)等應(yīng)用。隨著關(guān)鍵應(yīng)用程序數(shù)量的持續(xù)增加,開(kāi)發(fā)商和生產(chǎn)商越來(lái)越被迫滿足安全要求,并提高技術(shù)的整體效率。為了確保最終用戶要求的高質(zhì)量,全面的質(zhì)量控制是必要的。根據(jù)應(yīng)用,測(cè)量遠(yuǎn)場(chǎng)和近場(chǎng)的磁鐵是可能的,而且通常是必要的。在這篇文章中,我將介紹一種新的創(chuàng)新測(cè)量技術(shù),通過(guò)雜散場(chǎng)測(cè)量和偶極子近似來(lái)表 -
DMD空間光調(diào)制器 V-7001VIS-來(lái)了!2023-06-30 10:01
DMD(DigitalMicromirrorDevice,譯為:數(shù)字微鏡陣列)是一款具有高分辨率、高對(duì)比度、高亮度以及高灰階及色彩保真度、響應(yīng)速度快且可靠性高等顯著優(yōu)點(diǎn)的光機(jī)電產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用在光場(chǎng)調(diào)控、三維測(cè)量、超分辨成像等領(lǐng)域。為了更好的服務(wù)以及加深與國(guó)內(nèi)客戶的合作,對(duì)于V-7001VIS特定型號(hào)的DMD產(chǎn)品,昊量光電推出“限時(shí)九折優(yōu)惠“服務(wù)(7月1至9月 -
高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源2023-06-26 10:01
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鎖相放大器用于生物樣品雙通道和多儀器模式SRS顯微技術(shù)的研究2023-06-06 16:26
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X射線的無(wú)損檢測(cè)技術(shù)應(yīng)用介紹2023-06-01 08:18
一.前言無(wú)損檢測(cè)方法是利用聲、光、電、熱、磁及射線等與被測(cè)物質(zhì)的相互作用,在不破壞和損傷被測(cè)物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和性能的前提下,檢測(cè)材料、構(gòu)件或設(shè)備中存在的內(nèi)外部缺陷,并能確定缺陷的大小、形狀和位置。無(wú)損檢測(cè)的技術(shù)有很多,包括:染料滲透檢測(cè)法、超聲波檢測(cè)法、強(qiáng)型光學(xué)檢測(cè)法、滲透檢測(cè)法﹑聲發(fā)射檢測(cè)法,以及本文介紹的x射線檢測(cè)法。X射線無(wú)損測(cè)試是工業(yè)無(wú)損檢測(cè)的主要方法之一