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9.5.3 勻膠鉻版光掩∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》2022-02-09 01:08
9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊ADT12寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)詳情:切割機(jī)(劃片機(jī)).ADT.823012寸全自集成電路 722瀏覽量 -
7.2 肖特基勢磊二極管(SBD)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》2022-02-09 01:07
7.2肖特基勢磊二極管(SBD)第7章單極型和雙極型功率二極管《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:7.1.3雙極型功率器件優(yōu)值系數(shù)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》7.1.2單極型功率器件優(yōu)值系數(shù)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》7.1.1阻斷電壓∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》第7章單二極管 1100瀏覽量 -
9.5.4 移相光掩模∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》2022-02-09 01:05
9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊ADT12寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)詳情:切割機(jī)(劃片機(jī)).ADT.823012寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)成倍提高生產(chǎn)率日本晶圓清洗設(shè)備集成電路 592瀏覽量 -
7.1.2 單極型功率器件優(yōu)值系數(shù)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》2022-01-29 01:08
7.1.2單極型功率器件優(yōu)值系數(shù)7.1SiC功率開關(guān)器件簡介第7章單極型和雙極型功率二極管《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:7.1.1阻斷電壓∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》第7章單極型和雙極型功率二極管6.5總結(jié)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.3p型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原SiC 750瀏覽量 -
9.5.2 光掩?;宀牧?isin;《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》2022-01-29 01:07
點(diǎn)擊上方藍(lán)字關(guān)注我們PhotomaskSubstrateMaterial撰稿人:中芯國際集成電路制造有限公司郭貴琦https://www.smics.com/審稿人:中芯國際集成電路制造有限公司時(shí)雪龍9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊ADT12寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)詳情:切割機(jī)(劃片機(jī)).ADT.82301集成電路 481瀏覽量 -
7.1.1 阻斷電壓∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》2022-01-28 01:08
7.1.1阻斷電壓7.1SiC功率開關(guān)器件簡介第7章單極型和雙極型功率二極管《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:6.5總結(jié)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.3p型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用SiC 1066瀏覽量 -
9.5.1 集成電路對光掩模材料的要求及發(fā)展∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》2022-01-28 01:07
點(diǎn)擊上方藍(lán)字關(guān)注我們RequirementsofICforPhotomaskMaterialsandtheDevelopmentofPhotomaskMaterials撰稿人:中芯國際集成電路制造有限公司郭貴琦https://www.smics.com/審稿人:中芯國際集成電路制造有限公司時(shí)雪龍9.5光掩模和光刻膠材料第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書集成電路 925瀏覽量 -
6.5 總結(jié)∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》2022-01-27 01:08
6.5總結(jié)第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:6.4.2.3p型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.1.2SiC上的肖特基接SiC 1649瀏覽量 -
9.4.15 化合物量子點(diǎn)材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》2022-01-27 01:07
9.4化合物半導(dǎo)體第9章集成電路專用材料《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊ADT12寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)詳情:切割機(jī)(劃片機(jī)).ADT.823012寸全自動(dòng)雙軸晶圓切割機(jī)成倍提高生產(chǎn)率日本晶圓清洗設(shè)備,大量裝機(jī),提供SiC晶圓、G集成電路 585瀏覽量 -
6.4.2.3 p型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》2022-01-26 01:42
6.4.2.3p型SiC的歐姆接觸6.4.2n型和p型SiC的歐姆接觸6.4金屬化第6章碳化硅器件工藝《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》往期內(nèi)容:6.4.2.2n型SiC的歐姆接觸∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.2.1基本原理∈《碳化硅技術(shù)基本原理——生長、表征、器件和應(yīng)用》6.4.1.2SiC上的肖特基接觸∈《碳化硅SiC 1201瀏覽量