文章
-
美國(guó)KRi 離子源光通信應(yīng)用, 助力5G技術(shù)發(fā)展2023-08-07 14:08
-
美國(guó) KRi 考夫曼離子源應(yīng)用于雙腔室高真空等離子 ALD 系統(tǒng)2023-07-07 14:55
-
Aston™ 質(zhì)譜儀 ALD 工藝控制的原位計(jì)量2023-06-20 16:58
-
Aston 質(zhì)譜儀對(duì)小開(kāi)口區(qū)域的蝕刻有更高的靈敏度2023-06-20 16:49
-
Aston 過(guò)程質(zhì)譜應(yīng)用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量2023-06-20 16:21
上海伯東日本 Atonarp Aston™ 過(guò)程質(zhì)譜分析儀通過(guò)快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston™ 過(guò)程質(zhì)譜的實(shí)時(shí)氫氣 H2 監(jiān)測(cè)也降低了每個(gè) EUV 工具的氫氣消耗 -
Aston™ 質(zhì)譜分析儀保護(hù) CVD 工藝免受干泵故障的影響2023-06-20 16:17
上海伯東代理日本 Atonarp 過(guò)程控制質(zhì)譜儀 Aston™ 為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), Aston™ 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供更高的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配 -
Pfeiffer 渦輪分子泵創(chuàng)新專(zhuān)利 Laser Balancing™ 技術(shù)2023-06-02 13:23
-
X 射線應(yīng)用中的真空系統(tǒng)2023-06-02 13:17
-
Gel-Pak 膠膜在器件 QC 檢查中的應(yīng)用 (替代常用夾具)2023-05-26 11:39
-
美國(guó) Gel-Pak 芯片包裝盒為 Chiplets 的運(yùn)輸安全性保駕護(hù)航2023-05-26 11:26