中國AMOLED產(chǎn)業(yè)投資近幾年達(dá)到高潮，根據(jù)CINNOResearch數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，目前中國大陸共有17條AMOLED產(chǎn)線, 投資金額在未來三年均維持在1000億人民幣左右的規(guī)模。

在AMOLED生產(chǎn)線投資中，設(shè)備投資部分占比高達(dá)80%以上，但其中90%以上均被韓日等海外設(shè)備廠占據(jù)，國產(chǎn)設(shè)備僅僅在非核心的自動(dòng)化和檢測設(shè)備方面占據(jù)部分份額。核心設(shè)備國產(chǎn)化率低這個(gè)問題嚴(yán)重制約了我們從顯示制造大國向顯示制造強(qiáng)國的產(chǎn)業(yè)升級(jí)之路。

根據(jù)CINNOResearch數(shù)據(jù)，目前國產(chǎn)設(shè)備在自動(dòng)化和檢測領(lǐng)域的滲透率達(dá)到18%左右，已經(jīng)可以和國外先進(jìn)制造商平等競爭，但在成膜技術(shù)(PVD,CVD，Evaporator)和曝光技術(shù)等方面，我們和國外存在較大的技術(shù)差距，短期難以追趕突破。而在濕制程這個(gè)領(lǐng)域，目前國產(chǎn)化滲透率在3%左右，這將是未來國產(chǎn)設(shè)備最有望實(shí)現(xiàn)突破的核心設(shè)備領(lǐng)域。

在面板制造工藝中，濕制程設(shè)備即使用水，洗劑或化學(xué)品等液態(tài)物質(zhì)對(duì)玻璃基板進(jìn)行加工的工藝設(shè)備，包含玻璃基板清洗設(shè)備(Cleaner)，光阻涂布顯影設(shè)備(Coater&Develop)，濕法刻蝕設(shè)備(Wet Etching)和光阻剝離設(shè)備(Stripper)。目前這部分設(shè)備暫時(shí)被韓日設(shè)備商壟斷。

在中國廠商中，晶洲裝備成功取得國內(nèi)某AMOLED面板廠G6濕法刻蝕設(shè)備和光阻剝離設(shè)備訂單，并于2018年初順利出貨，實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)設(shè)備在濕制程領(lǐng)域的突破。根據(jù)我們掌握的信息，目前該設(shè)備作為關(guān)鍵工藝制程設(shè)備已在客戶量產(chǎn)線正常運(yùn)行使用。

晶洲裝備在濕制程設(shè)備領(lǐng)域不斷進(jìn)取突破，不但獲得了來自客戶的認(rèn)可，并得到政府和社會(huì)的肯定。近日再次傳來喜訊，蘇州晶洲裝備科技有限公司G6 AMOLED濕法刻蝕機(jī)成功入選2018年江蘇省“首臺(tái)套”重大裝備產(chǎn)品，填補(bǔ)國內(nèi)空白的同時(shí)，打破了國外進(jìn)口設(shè)備的壟斷局面，并且在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、功能實(shí)現(xiàn)上與進(jìn)口設(shè)備媲美。

晶洲裝備自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的“G6 AMOLED 濕法刻蝕機(jī)”，主要應(yīng)用于G6 AMOLED平板顯示制程的陣列（Array）段，其原理是利用化學(xué)的方法對(duì)經(jīng)過曝光與顯影后的基板表面金屬膜層進(jìn)行均勻刻蝕，進(jìn)而形成光刻定義的電路圖，是刻蝕工藝的核心載體設(shè)備。晶洲裝備率先研制了極紫外表面改性系統(tǒng)、刻蝕藥液溶度控制系統(tǒng)、高速藥液置換系統(tǒng)等，并將其應(yīng)用于“G6 AMOLED 濕法刻蝕機(jī)”，實(shí)現(xiàn)刻蝕過程的高度均勻性及穩(wěn)定性。該項(xiàng)目共形成知識(shí)產(chǎn)權(quán)21項(xiàng)，其中，獲得授權(quán)發(fā)明專利2項(xiàng)，實(shí)用新型專利13項(xiàng)，同時(shí)，作為首臺(tái)套重大裝備，江蘇省政府進(jìn)行保費(fèi)補(bǔ)貼扶持，為首臺(tái)套重大裝備的穩(wěn)定運(yùn)行與操作安全保駕護(hù)航，保險(xiǎn)裝備出現(xiàn)零部件、元器件損壞或失效、修理、更換、退貨，并由此引起的鑒定費(fèi)用、運(yùn)輸費(fèi)用、交通費(fèi)用以及保險(xiǎn)裝備出現(xiàn)的責(zé)任范圍內(nèi)事故造成第三者責(zé)任等皆有保險(xiǎn)公司賠付。

中國作為全球最大的消費(fèi)電子市場，在一些核心技術(shù)和設(shè)備上無法突破，屢屢受制于人。在平板顯示領(lǐng)域，由于國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展晚于日韓企業(yè)，國外的技術(shù)壟斷與封鎖等原因，造成該領(lǐng)域的前、中段生產(chǎn)設(shè)備主要仍由國外企業(yè)壟斷。此次晶洲裝備AMOLED濕法刻蝕機(jī)首臺(tái)套重大裝備的成功認(rèn)定，是平板顯示領(lǐng)域濕法裝備國產(chǎn)化的新高度，同時(shí)也體現(xiàn)晶洲裝備努力奮進(jìn)，繼續(xù)前行的決心。