張忠謀并指出,未來(lái)半導(dǎo)體業(yè)的創(chuàng)新技術(shù),包含2.5D與3D IC封裝技術(shù)、極紫外光(EUV)微影制程技術(shù)、人工智慧(AI)、機(jī)器學(xué)習(xí)芯片(GPU、TPU)、芯片架構(gòu)、C-tube和石墨烯等新材料等,且其中某些技術(shù)或許在IC 70周年時(shí)可以見(jiàn)到。
國(guó)際半導(dǎo)體展(SEMICON TAIWAN)今(5)日登場(chǎng),臺(tái)積電(2330)創(chuàng)辦人張忠謀在IC 60大師論壇中發(fā)表“從半導(dǎo)體業(yè)重要?jiǎng)?chuàng)新看半導(dǎo)體公司的盛衰”演說(shuō)中指出,預(yù)估未來(lái)10到20年,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成長(zhǎng)幅度會(huì)比全球GDP成長(zhǎng)率高出200到300基點(diǎn),整體半導(dǎo)體業(yè)產(chǎn)值年成長(zhǎng)率將達(dá)到5%-6%;雖然各項(xiàng)技術(shù)仍會(huì)面臨盛衰,但未來(lái)創(chuàng)新的空間還是很大。
張忠謀也回顧了過(guò)去半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展,他指出,業(yè)界共有十大重要?jiǎng)?chuàng)新,造福了企業(yè)與社會(huì)。第一項(xiàng)創(chuàng)新是1948年貝爾實(shí)驗(yàn)室發(fā)表電晶體,讓許多半導(dǎo)體公司受惠,早年成功的公司有德儀(TI)和快捷半導(dǎo)體(Fairchild);第二個(gè)重要?jiǎng)?chuàng)新是德儀1954年發(fā)明矽電晶體,僅有德儀得利;第三個(gè)創(chuàng)新為德儀的基爾比(Kilby)在1958年發(fā)明集成電路,得利者為德儀與快捷。
他進(jìn)一步指出,第四個(gè)創(chuàng)新是摩爾定律,其最大意義是成為全世界半導(dǎo)體公司的監(jiān)督者;而第五個(gè)創(chuàng)新是MOS技術(shù),此技術(shù)的出現(xiàn)讓摩爾定律得以延續(xù);第六個(gè)創(chuàng)新為存儲(chǔ)器,MOS技術(shù)和存儲(chǔ)器的創(chuàng)新讓日本公司、英特爾和三星得利,但德儀則因投資不足而沒(méi)落;第七個(gè)創(chuàng)新為封裝與測(cè)試委外;第八個(gè)創(chuàng)新是英特爾于1970年發(fā)明微處理器,讓英特爾脫穎而出。
張忠謀并表示,第九個(gè)創(chuàng)新則為超大型集成電路(VLSI)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與矽智財(cái)(IP)及設(shè)計(jì)工具,讓設(shè)計(jì)和制造制程得以分開(kāi),并由IC設(shè)計(jì)廠得利;而第十個(gè)創(chuàng)新就是他在1985年提出的晶圓代工營(yíng)運(yùn)模式,臺(tái)積電為得利者,客戶端IC設(shè)計(jì)公司則是更大的得利者,甚至整個(gè)社會(huì)都因此得利。
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原文標(biāo)題:張忠謀:未來(lái)20年半導(dǎo)體業(yè)成長(zhǎng)將比全球GDP高出2%-3%
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