一、SiP 封裝的誕生:技術(shù)瓶頸與市場需求的雙重驅(qū)動(dòng)?
SiP(系統(tǒng)級(jí)封裝)的誕生并非偶然,而是半導(dǎo)體行業(yè)在技術(shù)極限與市場需求碰撞下的必然選擇,其背后是“性能突圍”與“場景適配”的雙重邏輯。?
從技術(shù)背景看,以 SoC(片上系統(tǒng))為代表的“單片集成”路徑遭遇瓶頸:一方面,摩爾定律放緩,7nm以下制程成本呈指數(shù)級(jí)增長(3nm制程研發(fā)費(fèi)用超50億美元),單純通過縮小晶體管提升性能的邊際效益遞減;另一方面,異構(gòu)集成需求凸顯 ——消費(fèi)電子、汽車電子等場景需要將 CPU、射頻、傳感器等不同工藝(如 CMOS、GaN)、不同代際的芯片集成,而SoC受限于單一晶圓工藝,無法兼容異構(gòu)元件。?
從市場背景看,終端產(chǎn)品對(duì)“小型化、低功耗、快響應(yīng)”的需求倒逼封裝技術(shù)革新:2010年后,智能手機(jī)進(jìn)入“全面屏”競賽,要求芯片體積縮減30%以上;新能源汽車的智能駕駛系統(tǒng)需要集成77GHz射頻與信號(hào)處理,傳統(tǒng)分立封裝的信號(hào)延遲與空間占用難以滿足;工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備則要求在方寸之間實(shí)現(xiàn)“感知-計(jì)算-通信”一體化,這些場景都指向“多芯片協(xié)同工作”的系統(tǒng)級(jí)解決方案。?
在這樣的背景下,SiP通過“封裝層面的系統(tǒng)集成 突破限制:無需將所有功能集成在單一芯片上,而是通過先進(jìn)封裝工藝將多個(gè)芯片、無源元件(電阻、電容)甚至光學(xué)、射頻器件集成在同一封裝體內(nèi),實(shí)現(xiàn)“系統(tǒng)級(jí)功能”。這種“空間換性能” 的思路,讓SiP成為SoC的重要補(bǔ)充。?
二、SiP 封裝的發(fā)展階段:從“簡單堆疊”到“異構(gòu)融合”?
SiP 的發(fā)展可分為四個(gè)階段,每個(gè)階段的技術(shù)特征與焊料需求高度綁定:?
1. 雛形期(2000-2010 年):多芯片模塊(MCM)的升級(jí)?
核心特征:以“2D 平面集成”為主,將同類型芯片(如CPU + 內(nèi)存)通過引線鍵合或基板互連,封裝體積仍較大(通常>100mm2)。典型應(yīng)用是早期智能手機(jī)的基帶芯片(如高通 MSM 系列)。?
技術(shù)局限:互連密度低(I/O 數(shù)量<1000),信號(hào)延遲高,依賴傳統(tǒng) PCB 基板。? 焊料需求:2006年前以有鉛錫膏(Sn63Pb37)為主,熔點(diǎn)183℃,印刷精度≥100μm;2006年歐盟RoHS指令實(shí)施后,無鉛焊料(如SAC系列)快速普及,逐步替代有鉛產(chǎn)品,側(cè)重“能焊牢 的基礎(chǔ)需求。?
2. 成長期(2010-2015 年):扇入/扇出型WLP與倒裝芯片結(jié)合?
核心特征:引入晶圓級(jí)封裝(WLP)技術(shù),通過扇入/扇出型工藝擴(kuò)展I/O 數(shù)量(1000-5000),實(shí)現(xiàn)芯片與基板的“面陣互連”,蘋果A8芯片是典型代表(集成 A8 應(yīng)用處理器和M8運(yùn)動(dòng)協(xié)處理器)。?
技術(shù)突破:銅柱凸點(diǎn)、重布線層(RDL)開始應(yīng)用,封裝厚度降至1mm以下。?
焊料需求:無鉛化成為主流,SAC305(Sn3Ag0.5Cu)錫膏普及,要求“細(xì)間距適配”(50-100μm)、低空洞率(≤10%);助焊劑需提升活性,應(yīng)對(duì)銅基焊盤的氧化問題。?
3. 爆發(fā)期(2015-2020 年):3D堆疊與異構(gòu)集成落地?
核心特征:3D堆疊技術(shù)成熟,通過TSV(硅通孔)實(shí)現(xiàn)芯片垂直互連,I/O數(shù)量突破10000,可集成異構(gòu)元件(如CPU+5G 基帶 + 射頻前端),華為麒麟990 5G是標(biāo)桿產(chǎn)品(主流集成 5G 基帶的手機(jī)芯片之一)。?
技術(shù)突破:混合鍵合(Hybrid Bonding)、嵌入式封裝(Embedded Die)出現(xiàn),支持光子、MEMS等跨領(lǐng)域元件集成。?
焊料需求:超細(xì)粉末錫膏(T6/T7 級(jí),粒徑5-20μm)成為剛需,適配20-50μm 間距;低熔點(diǎn)錫膏(如 Sn58Bi,熔點(diǎn) 138℃)用于多層堆疊的“階梯焊接”,避免高溫?fù)p傷下層芯片;助焊劑需具備“耐多次回流”能力,在200℃以上保持活性。?
4. 成熟期(2020 年至今):Chiplet與超異構(gòu)集成?
核心特征:以Chiplet為核心的“模塊化集成”成為主流,通過標(biāo)準(zhǔn)化接口(如 UCIe)將不同功能的Chiplet(計(jì)算、存儲(chǔ)、互連)像“樂高積木”一樣集成,AMD MI300X、英偉達(dá)H100均采用該架構(gòu)。?
技術(shù)突破:間距縮至10μm以下,信號(hào)傳輸速率突破100Gbps,熱管理引入液冷、微通道技術(shù)。?
焊料需求:微米級(jí)錫膏(T8級(jí),粒徑 2-8μm)實(shí)現(xiàn)10μm以下間距印刷;高頻場景下關(guān)注焊料的導(dǎo)電性能和焊點(diǎn)信號(hào)完整性,減少信號(hào)損耗;銀膠等導(dǎo)熱焊材(熱導(dǎo)率≥80W/m?K)解決高密度集成的散熱問題。?
三、SiP封裝的未來態(tài)勢:向“全域集成”與“智能感知”進(jìn)化?
未來 5-10 年,SiP將沿著三個(gè)方向突破:?
超異構(gòu)集成:從“電子元件”擴(kuò)展到“跨物理域集成”,如將光子芯片(光通信)、量子比特(量子計(jì)算)、生物傳感器(醫(yī)療設(shè)備)納入SiP,要求焊料適配不同材料(硅、玻璃、陶瓷)的表面特性,例如針對(duì)光子芯片的玻璃基板,需開發(fā)能提升焊料與基板界面反應(yīng)(如形成金屬間化合物)的助焊劑,增強(qiáng)附著力,同時(shí)保證焊料對(duì)基板的潤濕性(接觸角≤30°)。?
動(dòng)態(tài)可重構(gòu):通過“可重構(gòu)互連”技術(shù),讓SiP內(nèi)的芯片可按需切換連接方式(如算力分配、功耗調(diào)節(jié)),這需要焊料具備“低接觸電阻”(≤5mΩ)和“高抗疲勞性”(10000 次溫度循環(huán)無失效),支持動(dòng)態(tài)信號(hào)路徑切換。?
極致小型化與能效:終端設(shè)備(如可穿戴、植入式醫(yī)療)要求SiP體積縮至1cm3 以下,功耗降至1mW,推動(dòng)焊料向“無鉛低溫合金”(如 Sn-Zn-Bi,熔點(diǎn) 180-190℃)、“納米復(fù)合焊材”(添加石墨烯片等提升導(dǎo)熱)發(fā)展。
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四、焊料的“進(jìn)化史”:從“連接工具”到“性能賦能者”?
SiP 的發(fā)展直接推動(dòng)焊料從“簡單連接材料”升級(jí)為“系統(tǒng)級(jí)性能支撐者”,其進(jìn)化路徑與SiP需求高度耦合:?
粒徑微縮:從早期的T3 級(jí)(25-45μm)到現(xiàn)在的 T8 級(jí)(2-8μm),下一步將突破亞微米級(jí)(1-3μm),適配5μm以下間距的Chiplet互連,需解決“粉末氧化”(通過惰性氣體保護(hù)制造)和“印刷堵網(wǎng)”(優(yōu)化球形度至≥98%)問題。?
合金體系迭代:從鉛基到無鉛(SAC系列),再到低熔點(diǎn)(SnBi)、高溫穩(wěn)定(Sn-Ag-Cu-Ni),未來將探索通過優(yōu)化合金成分比例及添加合適微量元素,讓焊點(diǎn)在溫度變化時(shí)更好地緩解應(yīng)力,減少開裂風(fēng)險(xiǎn)。?
功能復(fù)合化:從單一“焊接功能”到“多功能集成”,例如:?
高頻焊料:通過優(yōu)化合金成分,提升導(dǎo)電性能,減少趨膚效應(yīng)影響,適配 100Gbps以上信號(hào)傳輸。?
自修復(fù)焊料:嵌入微膠囊型助焊劑,當(dāng)焊點(diǎn)出現(xiàn)微裂紋時(shí),膠囊破裂釋放助焊劑,修復(fù)氧化層。?
焊點(diǎn)狀態(tài)監(jiān)測:通過在封裝結(jié)構(gòu)中布置外部傳感器(如熱電偶、應(yīng)變片),實(shí)時(shí)監(jiān)測焊點(diǎn)溫度、應(yīng)力,為SiP的健康管理提供數(shù)據(jù)。?
工藝適配性優(yōu)化:針對(duì)SiP的多樣化工藝(激光焊、混合鍵合、熱壓焊),開發(fā) “工藝定制化焊料”—— 例如激光焊專用錫膏(高耐熱助焊劑,在250℃以上不碳化)、混合鍵合配套助焊劑(支持Cu-Cu直接鍵合的表面活化)。?
SiP的本質(zhì)是“用封裝創(chuàng)新突破芯片物理極限”,而焊料則是這場創(chuàng)新的“隱形基石”。從智能手機(jī)到量子計(jì)算機(jī),從可穿戴設(shè)備到深空探測器,SiP的每一次突破都伴隨著焊料的技術(shù)躍升。未來,隨著SiP進(jìn)入“全域集成”時(shí)代,焊料將不僅是“連接者”,更會(huì)成為“性能定義者”——通過材料創(chuàng)新,為系統(tǒng)級(jí)封裝的可靠性、能效與功能拓展提供無限可能。
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