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半導(dǎo)體VTC清洗機(jī)是如何工作的

蘇州芯矽 ? 來(lái)源:jf_80715576 ? 作者:jf_80715576 ? 2025-03-11 14:51 ? 次閱讀
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半導(dǎo)體VTC清洗機(jī)的工作原理基于多種物理和化學(xué)作用,以確保高效去除半導(dǎo)體部件表面的污染物。以下是對(duì)其詳細(xì)工作機(jī)制的闡述:

一、物理作用原理

超聲波清洗

空化效應(yīng):當(dāng)超聲波在清洗液中傳播時(shí),會(huì)產(chǎn)生高密度和低密度交替的區(qū)域。在低壓區(qū)域,清洗液會(huì)形成微小的真空泡(即空化泡)。這些空化泡在超聲波的作用下迅速膨脹,然后在高壓區(qū)域又急劇收縮直至崩潰。

微射流作用:空化泡崩潰時(shí),會(huì)產(chǎn)生高速的微射流。這些微射流具有強(qiáng)大的沖擊力,能夠?qū)Π雽?dǎo)體部件表面的污垢、碎屑等污染物進(jìn)行剝離。就像無(wú)數(shù)個(gè)小刷子同時(shí)在半導(dǎo)體部件表面刷洗,將污染物從表面清除。

噴淋沖洗

液流沖擊:通過(guò)高壓泵將清洗液加壓后,經(jīng)噴嘴噴射到半導(dǎo)體部件表面。高壓力的清洗液具有一定的動(dòng)能,當(dāng)其沖擊到部件表面時(shí),能夠克服污染物與部件表面之間的附著力。

均勻覆蓋:噴淋系統(tǒng)通常設(shè)計(jì)有多個(gè)噴嘴,可以從不同的角度和位置對(duì)半導(dǎo)體部件進(jìn)行噴淋,確保清洗液能夠均勻地覆蓋整個(gè)部件表面,避免清洗死角。

二、化學(xué)作用原理

溶解反應(yīng)

化學(xué)試劑選擇:根據(jù)污染物的種類(lèi)選擇合適的化學(xué)試劑。例如,對(duì)于一些金屬離子污染物,可以使用酸性溶液進(jìn)行溶解。像鹽酸(HCl)可以與鐵(Fe)等金屬反應(yīng),生成可溶性的鹽和氫氣。

化學(xué)反應(yīng)過(guò)程:當(dāng)清洗液與污染物接觸時(shí),發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。以堿性溶液去除有機(jī)物為例,氫氧化鈉(NaOH)與油污中的酯類(lèi)物質(zhì)反應(yīng),將其分解為可溶于水的物質(zhì),從而將油污溶解在清洗液中。

氧化還原反應(yīng)

氧化劑作用:使用氧化劑可以將某些污染物氧化,改變其化學(xué)性質(zhì),使其更容易被去除。例如,使用過(guò)氧化氫(H?O?)作為氧化劑,可以將硅片表面的有機(jī)污染物氧化為二氧化碳(CO?)和水(H?O)等無(wú)害物質(zhì)。

還原劑作用:在一些情況下,也會(huì)使用還原劑來(lái)處理污染物。還原劑可以將某些氧化物污染物還原,使其轉(zhuǎn)化為可溶性或易揮發(fā)的物質(zhì),便于后續(xù)的清洗步驟。

三、綜合作用原理

協(xié)同清洗

在實(shí)際的半導(dǎo)體VTC清洗過(guò)程中,物理作用和化學(xué)作用通常是相互配合的。例如,先利用超聲波清洗的空化效應(yīng)和微射流作用,使污染物從半導(dǎo)體部件表面脫離,然后通過(guò)噴淋沖洗將脫落的污染物帶走。同時(shí),清洗液中的化學(xué)試劑與污染物發(fā)生反應(yīng),進(jìn)一步將污染物溶解或轉(zhuǎn)化,提高清洗效果。

多步清洗

為了徹底清洗半導(dǎo)體部件,通常會(huì)采用多步清洗的方法。每一步清洗可能針對(duì)不同的污染物或使用不同的清洗原理。例如,第一步使用堿性溶液進(jìn)行超聲波清洗,以去除表面的有機(jī)物;第二步使用酸性溶液進(jìn)行噴淋沖洗,以去除金屬離子污染物;最后再使用純水進(jìn)行超聲波清洗和噴淋沖洗,去除殘留的化學(xué)試劑。

審核編輯 黃宇

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