法國阿斯克新城和德國德累斯頓 - 2018 年 2 月 1 日 - 來自電子、微電子及納米技術(shù)研究院 （IEMN） 的最新結(jié)果顯示，ALLOS 即將推出的適用于 1200 V 器件的硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品具有超過 1400 V 的縱向和橫向擊穿電壓。

法國 IEMN 研究所的 Farid Medjdoub 博士領(lǐng)導(dǎo)的一支團隊制造出了器件，并在由德國 ALLOS Semiconductors 公司提供的兩款不同的硅基氮化鎵外延片產(chǎn)品上進行了測量。其中之一是 ALLOS 即將推出的專為 1200 V 器件應(yīng)用設(shè)計的產(chǎn)品的原型。IEMN 借助該外延片實現(xiàn)了超過 1400 V 的縱向和 1600 V 的橫向（接地）擊穿電壓。另一款外延片是 ALLOS 針對 600 V 應(yīng)用推出的成熟產(chǎn)品，同樣顯示出非常高的 1200 V 擊穿電壓以及更高的橫向和縱向測量值。

適用于 1200 V 器件應(yīng)用的新型外延片產(chǎn)品來自 ALLOS 正在進行的一項內(nèi)部開發(fā)計劃。該產(chǎn)品的強勁性能歸功于一個創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)結(jié)合了 ALLOS 的獨特應(yīng)變工程和高晶體質(zhì)量方式，以及用于抑制泄漏和進一步提高擊穿電壓的其他措施。這種強勁性能的實現(xiàn)并未以犧牲晶體質(zhì)量或晶片彎曲度等其他基本參數(shù)為代價，也未引入碳摻雜。外延生長是在標(biāo)準(zhǔn) Aixtron G5 MOCVD 反應(yīng)器上進行的。

在 2017 年 11 月于北京舉行的國際第三代半導(dǎo)體論壇 （IFWS） 上，ALLOS 展示了使用 ALLOS 600 V 外延片的一位行業(yè)合作伙伴所給出的器件結(jié)果。憑借成熟的器件設(shè)計和針對高達(dá) 1000 V 泄漏的測量設(shè)置，實現(xiàn)了 600 V 下 0.003 μA/mm2 和 1000 V 下 0.033 μA/mm2 的值?！拔覀兊暮献骰锇榻o出的這一反饋對我們來說真是好消息，因為這又一次證明了我們在 600 V 應(yīng)用領(lǐng)域的強大技術(shù)實力?！盇LLOS 首席技術(shù)官 Atsushi Nishikawa 博士解釋道，“現(xiàn)在最大的問題是在 1000 V 以上的哪個電壓下會出現(xiàn)物理擊穿，以及我們能否在 1200 V 領(lǐng)域再續(xù)輝煌。”

有了 IEMN 顯示的結(jié)果，現(xiàn)在可以給出答案。它使用了簡化的器件設(shè)計和流程，獲得反饋的速度比工業(yè)流程快了許多。在 ALLOS 針對 1200 V 器件推出的新型外延片產(chǎn)品的原型上，IEMN 實現(xiàn)了超過 1400 V 的縱向和 1600 V 的橫向（接地）擊穿電壓（分別為圖 1 （a） 和 2 （b））。使用浮動測量設(shè)置補充表征產(chǎn)生了接觸距離為 12 μm 時超過 2000 V 的橫向擊穿電壓（圖 1 （c））。對于接觸距離為 4 μm 時擊穿電壓已超過 1100 V 的 7 μm 厚外延堆棧，接觸距離為 12 μm 時出現(xiàn)橫向浮動擊穿電壓飽和（圖 1 （d））。

圖 1 （a） 至 （d）：來自 IEMN 的關(guān)于 ALLOS 適用于 1200 V 應(yīng)用的外延片技術(shù)的結(jié)果。

來自 IEMN 的 Farid Medjdoub 博士在全面公正地看待這些結(jié)果后，給出了如下解釋：“在基板接地的情況下，ALLOS 外延片可實現(xiàn)超過 1400 V 的縱向和 1600 V 的橫向擊穿電壓，明顯優(yōu)于我們迄今為止測量的來自各個行業(yè)和研究合作伙伴的所有樣品。此外，我們所看到的結(jié)果表明，器件性能在晶片上非常均勻，這對于實際器件生產(chǎn)是一個非常重要的特性?！?/p>

在 ALLOS 的 600 V 外延片產(chǎn)品上，IEMN 實現(xiàn)了 1200 V 的縱向和 1500 V 的橫向（接地）擊穿電壓。這兩種外延片產(chǎn)品都沒有摻雜碳。碳常被硅基氮化鎵制造商用來增強分離效果，但對晶體質(zhì)量和動態(tài)轉(zhuǎn)換行為有負(fù)面影響。這兩種產(chǎn)品均可提供 150 mm 晶片直徑對應(yīng)的 675 μm 厚度以及 200 mm 晶片直徑對應(yīng)的 725 μm 厚度。所有 ALLOS 外延片產(chǎn)品的彎曲度都被嚴(yán)格控制在 30 μm 以下。

“現(xiàn)有的結(jié)果表明，我們已經(jīng)達(dá)到了橫向 1.7 MV/cm 和縱向 2 MV/cm 的水平，我們還有一項旨在實現(xiàn)外延片級別進一步改進的計劃。現(xiàn)在是時候與 1200 V 產(chǎn)品系列的工業(yè)合作伙伴建立強大的合作伙伴關(guān)系了?！?ALLOS 首席執(zhí)行官 Burkhard Slischka 說道?！坝捎谖覀兪且患壹兇獾耐庋悠夹g(shù)提供商，沒有自己的器件制造業(yè)務(wù)，因而我們正在尋求與經(jīng)驗豐富的電力電子企業(yè)密切合作，以利用其基于硅基氮化鎵的 1200 V 應(yīng)用帶來的機會。憑借我們的技術(shù)，硅基氮化鎵具備與碳化硅性能相媲美的潛力，而成本僅為晶片成本的一小部分?！?/p>

IEMN 簡介：

IEMN 是一家微米和納米技術(shù)研究中心。我們研究活動的核心集中在信息技術(shù)、通信、能源、運輸和健康等領(lǐng)域。為了完成本職工作，我們的研究人員充分利用卓越的實驗設(shè)施，包括歐洲極佳水平的 1600 m2 潔凈室和先進科學(xué)儀器。我們的科學(xué)政策不僅由研究驅(qū)動，而且致力于與一些工業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者建立特殊的合作伙伴關(guān)系。

ALLOS Semiconductors 簡介：

ALLOS 是一家知識產(chǎn)權(quán)授權(quán)和技術(shù)工程公司，致力于幫助全球半導(dǎo)體行業(yè)的客戶掌握硅基氮化鎵技術(shù)并發(fā)揮其優(yōu)勢。ALLOS 正在提供其技術(shù)訣竅和專利的許可服務(wù)，并將技術(shù)轉(zhuǎn)讓給客戶的 MOCVD 反應(yīng)器。此外，ALLOS 正在為客戶提供特定的解決方案以及用于應(yīng)對下一代硅基氮化鎵開發(fā)挑戰(zhàn)的咨詢服務(wù)。