近日，華光光電研發(fā)的高功率密度808nm面陣模塊通過了中國電子學(xué)會科技成果鑒定，項目關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國際先進(jìn)水平。

本次鑒定會由中國工程院院士、中科院理化技術(shù)研究所許祖彥擔(dān)任主任，中科院物理所、清華大學(xué)、山東大學(xué)、西安電子科技大學(xué)等高校院所專家擔(dān)任委員。鑒定委員會聽取了項目組的研制報告、技術(shù)報告、查新報告、應(yīng)用報告以及經(jīng)濟和社會效益分析報告，聽取了測試組意見和資料審查組報告，審閱了相關(guān)材料。經(jīng)質(zhì)詢和討論，鑒定委員會認(rèn)為，該成果技術(shù)復(fù)雜程度高，研制難度大，具有較高的創(chuàng)新性，關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國際先進(jìn)水平，其中光強近場調(diào)制度國際領(lǐng)先。

高能激光技術(shù)有廣泛的應(yīng)用前景，面對泵源受制于人的難題，項目組重點攻克了面陣模塊高效熱管理、峰值功率輸出以及光斑勻化等關(guān)鍵技術(shù)，成果成功應(yīng)用于工業(yè)制造、醫(yī)療裝備等多個領(lǐng)域，對于增強我國高功率半導(dǎo)體激光的控制力和供應(yīng)鏈安全性具有重要意義。

華光光電始終堅持技術(shù)創(chuàng)新，是國內(nèi)少數(shù)掌握半導(dǎo)體激光器外延結(jié)構(gòu)設(shè)計與生長、芯片設(shè)計與制備的自主知識產(chǎn)權(quán)并成功應(yīng)用于商業(yè)化生產(chǎn)的企業(yè)之一，下一步，公司將進(jìn)一步加大研發(fā)投入，開發(fā)出更多亟需的新產(chǎn)品、新技術(shù)，為集團(tuán)高質(zhì)量發(fā)展貢獻(xiàn)力量。