上海伯東美國(guó) KRi 大尺寸霍爾離子源 EH 2000 安裝于高性能電子束光學(xué)鍍膜機(jī), 實(shí)現(xiàn) 300 mm 望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜.

KRi 霍爾離子源 EH 2000 望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍膜
設(shè)備: 電子束鍍膜機(jī)
應(yīng)用: 光學(xué)鍍膜, 300 mm 望遠(yuǎn)鏡鏡片鍍金 Au, 最外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護(hù)膜, 黃金對(duì)于紅外波段有著極高的反射率, 增強(qiáng)鏡面的紅外線反射能力.

工藝過程: IBAD 輔助鍍膜, 通過使用美國(guó)KRi 霍爾離子源可以實(shí)現(xiàn)增強(qiáng)和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改進(jìn), 控制薄膜化學(xué)計(jì)量, 提高折射率, 降低薄膜應(yīng)力, 控制薄膜微觀結(jié)構(gòu)和方向, 提高薄膜溫度和環(huán)境穩(wěn)定性, 增加薄膜附著力, 激活表面,平滑的薄膜界面和表面,降低薄膜吸收和散射,增加硬度和耐磨性.

KRi霍爾離子源EH 2000 特點(diǎn)

高電流低能量寬束型離子束 燈絲壽命更長(zhǎng) 更長(zhǎng)的運(yùn)行時(shí)間 更清潔的薄膜 燈絲安裝在離子源側(cè)面 尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5” 放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A 操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

上海伯東同時(shí)提供 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)所需的渦輪分子泵,真空規(guī),高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)更高質(zhì)量的設(shè)備.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源,霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng)40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
上海伯東是美國(guó) KRi考夫曼離子源中國(guó)總代理.


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