臺積電CEO魏哲家尋求高數(shù)值孔徑EUV設(shè)備 赴ASML和TRUMPF訪問
據(jù)韓媒Business Korea報道，臺積電CEO魏哲家未出席本應(yīng)由其主持的5月23日“臺積電2024技術(shù)研討會”，而是選擇赴荷蘭與ASML及TRUMPF進(jìn)行商務(wù)洽談。
ASML CEO Christophe Fouquet和TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller通過社交媒體公開了魏總此次秘密行程。
Fuke表示，他們向魏總展示了最新的技術(shù)和產(chǎn)品，特別是關(guān)于高數(shù)值孔徑（High NA）EUV設(shè)備對未來半導(dǎo)體微處理技術(shù)的影響。
早前，臺積電張曉強博士在5月14日阿姆斯特丹的技術(shù)研討會上坦誠表示，雖然ASML的High-NA EUV設(shè)備性能出色，但其售價過高。
臺積電計劃在2026年下半年量產(chǎn)的A16產(chǎn)品后引入High NA EUV設(shè)備，并在此之前繼續(xù)使用現(xiàn)有的Low NA EUV設(shè)備。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
335文章
28919瀏覽量
238254 -
臺積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5755瀏覽量
169859 -
微處理
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
29瀏覽量
13010
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
Foundry 2.0優(yōu)勢已現(xiàn)！臺積電2024營收創(chuàng)歷史新高，看好2025年AI和HPC增長
約新臺幣3746.8億元（113.72億美元），創(chuàng)歷史新高，每股盈余為新臺幣14.45元。 圖：來自于臺積電公開財報 展望2025年第一季度，臺積
上海光機所在高數(shù)值孔徑多芯成像光纖微氣泡缺陷研究中取得進(jìn)展
與光纖研究中心于飛研究員團(tuán)隊，開展了高數(shù)值孔徑多芯成像光纖中微氣泡缺陷的研究，相關(guān)成果以“Study of microbubble defects in high-NA silicate-glass
VirtualLab Fusion應(yīng)用：具有高數(shù)值孔徑的反射顯微鏡系統(tǒng)
摘要
在單分子顯微成像應(yīng)用中，定位精度是一個關(guān)鍵問題。由于某一方向上的定位精度與該方向上圖像的點擴(kuò)散函數(shù)（PSF）的寬度成正比，因此具有更高數(shù)值孔徑（NA）的顯微鏡可以減小PSF的寬度，從而
發(fā)表于 06-05 08:49
VirtualLab Fusion應(yīng)用：具有高數(shù)值孔徑的反射顯微鏡系統(tǒng)
摘要
在單分子顯微成像應(yīng)用中，定位精度是一個關(guān)鍵問題。由于某一方向上的定位精度與該方向上圖像的點擴(kuò)散函數(shù)（PSF）的寬度成正比，因此具有更高數(shù)值孔徑（NA）的顯微鏡可以減小PSF的寬度，從而
發(fā)表于 01-02 16:45
今日看點丨英特爾將更多Arrow Lake芯片訂單外包給臺積電；西門子全球裁員高達(dá)5000人
1. SK 海力士考慮采用ASML 的High NA EUV 設(shè)備 ? 韓國芯片大廠SK海力士14日表示，正考慮使用ASML造價4億美元的高
發(fā)表于 11-15 11:24
?854次閱讀
英特爾CEO基辛格將訪臺積電,否認(rèn)取消折扣傳聞
的Intel 18A（1.8納米）工藝研發(fā)，而下一代PC處理器Panther Lake并不會完全依賴臺積電代工。相反，英特爾將自行生產(chǎn)部分或全部計算機芯片模塊。預(yù)計基辛格將在訪問期間與
OpenAI CEO提7萬億美元建36座晶圓廠計劃遭臺積電質(zhì)疑
在2023年的寒冬季節(jié)，OpenAI的首席執(zhí)行官Sam Altman開啟了一場東亞的旋風(fēng)式訪問，與臺積電、三星及SK海力士等業(yè)界巨頭的高管進(jìn)
臺積電歐洲首座晶圓廠開建，獲歐盟50億歐元資助
臺積電在全球范圍內(nèi)擴(kuò)展其半導(dǎo)體制造版圖的步伐再次加快，8月20日，公司宣布在德國德累斯頓正式啟動其歐洲首座12英寸晶圓廠的建設(shè)。此次奠基儀式由臺積
具有非常高數(shù)值孔徑的反射顯微鏡系統(tǒng)
數(shù)值孔徑(NA)的顯微鏡可以減小點擴(kuò)散函數(shù)的寬度，從而提高定位精度。在這個案例中，我們演示了NA為0.99 (Inagawa等人，2015) 非常緊湊的反射顯微鏡系統(tǒng)的建模，并將使用VirtualLab
發(fā)表于 08-14 11:52
8月啟動臺積電 TSMC 開始建設(shè)其布局歐洲的首座晶圓廠
、16/12nm FinFET 等成熟制程，預(yù)計于 2027 年實現(xiàn)量產(chǎn)，月產(chǎn)能可達(dá) 40000 片 12 英寸晶圓。 ▲ 臺積電現(xiàn)有晶圓廠內(nèi)部。圖源臺
臺積電進(jìn)入晶圓代工2.0時代
越多成本）在臺積電第二季法說會上，第一次以董事長身分主持的魏哲家回應(yīng)法人提問時，借用了大客戶英偉達(dá)CEO
工商網(wǎng)監(jiān)
評論