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臺積電張曉強:ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-15 14:42 ? 次閱讀
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據(jù)悉,臺積電業(yè)務開發(fā)及海外營運辦公室資深副總經(jīng)理暨副共同營運長張曉強博士在5月14日出席阿姆斯特丹技術(shù)研討會時公開稱ASML的High-NA EUV設(shè)備過于昂貴。盡管對其性能深感滿意,但對于價格卻并不感冒。

張曉強博士現(xiàn)任職于臺積電,主要負責制定公司業(yè)務戰(zhàn)略,包括技術(shù)規(guī)劃和客戶關(guān)系維護等工作。此外,他還共同領(lǐng)導海外運營團隊,確保海外運營效率。

據(jù)今年2月份報道,荷蘭半導體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機的售價,高達3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機的價格則為1.7億歐元(約合13.19億元人民幣)。

值得注意的是,英特爾已成功購入ASML的High-NA EUV設(shè)備,并于4月19日宣布首臺設(shè)備實現(xiàn)商業(yè)化生產(chǎn)。

關(guān)于臺積電是否需要采用ASML的High-NA EUV設(shè)備來完成A16先進工藝節(jié)點(預計將于2026年年底前量產(chǎn)),張曉強博士在接受采訪時表示,現(xiàn)階段的EUV設(shè)備完全有能力支持A16的生產(chǎn)需求。

至于何時引入ASML的新技術(shù),將視乎何時最為經(jīng)濟實惠以及如何平衡臺積電的技術(shù)實力。

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