據(jù)報(bào)道,臺積電于近期發(fā)布的北美技術(shù)論壇上披露了A16節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵信息,該節(jié)點(diǎn)將搭載更多晶體管,以提升計(jì)算效率并降低能耗。
據(jù)悉,臺積電A16工藝節(jié)點(diǎn)采用了全新Super PowerRail背面供電技術(shù),相較于英特爾的正面供電技術(shù)更為復(fù)雜,能夠更好地滿足AI芯片及數(shù)據(jù)中心的發(fā)展需求。
隨著晶體管尺寸減小、密度增加以及堆疊層數(shù)增多,為晶體管提供電源和傳輸數(shù)據(jù)信號變得愈發(fā)困難,需穿越10至20層堆棧,使得線路設(shè)計(jì)難度大幅提升。
臺積電通過采用背面供電技術(shù),將供電線路置于晶體管下方,有效解決了IR壓降問題。
IT之家引用臺積電官方新聞稿指出,晶體管主要由源極、汲極、通道和閘極四大組件構(gòu)成。其中,源極為電流進(jìn)入晶體管的入口,汲極為出口;通道與柵極則分別負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)電子運(yùn)動。
相比之下,臺積電A16節(jié)點(diǎn)制程技術(shù)中的電力傳輸線直接連通源極與汲極,使其比英特爾的背面供電技術(shù)更為復(fù)雜。臺積電表示,此舉旨在提升客戶芯片的效能。
臺積電表示,在同等工作電壓(Vdd)下,采用Super PowerRail的A16節(jié)點(diǎn)運(yùn)算速度可比N2P快8~10%;在同樣運(yùn)算速度下,功耗降低15%~20%,芯片密度提升達(dá)1.10倍。
-
臺積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5755瀏覽量
169830 -
晶體管
+關(guān)注
關(guān)注
77文章
10020瀏覽量
141700 -
傳輸數(shù)據(jù)
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
127瀏覽量
16339
發(fā)布評論請先 登錄
交流充電樁負(fù)載能效提升技術(shù)
西門子與臺積電合作推動半導(dǎo)體設(shè)計(jì)與集成創(chuàng)新 包括臺積電N3P N3C A14技術(shù)
蘋果M5芯片量產(chǎn),采用臺積電N3P制程工藝
臺積電亞利桑那州晶圓廠啟動AMD與蘋果芯片生產(chǎn)
臺積電2納米制程技術(shù)細(xì)節(jié)公布:性能功耗雙提升
臺積電2nm制成細(xì)節(jié)公布:性能提升15%,功耗降低35%
臺積電分享 2nm 工藝深入細(xì)節(jié):功耗降低 35% 或性能提升15%!

M31円星科技連續(xù)七年獲頒「臺積電OIP硅智財(cái)伙伴獎」,並發(fā)表ONFI5.1 I/O IP于臺積電5奈米制程成功完成硅驗(yàn)證

評論