99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

北方華創(chuàng):12英寸CCP晶邊干法刻蝕設(shè)備已在客戶端實現(xiàn)量產(chǎn)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-09-18 09:47 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

9月17日,北方華創(chuàng)在投資者互動平臺上,公司公布了首個國產(chǎn)12英寸ccp晶邊干法刻蝕設(shè)備研發(fā)成功的信息,目前已在客戶端成功批量生產(chǎn)。其優(yōu)秀的工程均一性,穩(wěn)定性受到顧客的高度評價。公司的產(chǎn)品都是自主研發(fā)的,具有穩(wěn)定多元化的供應(yīng)鏈體系,可以為客戶提供持續(xù)的設(shè)備技術(shù)解決方案。

北方華創(chuàng)致力于半導(dǎo)體基礎(chǔ)產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù),主要產(chǎn)品是電子工藝設(shè)備和電子零部件。

半導(dǎo)體工程裝備、北方華創(chuàng)的主要品種是刻蝕、薄膜、清洗、熱處理、晶體生長等核心技術(shù)裝備,廣泛應(yīng)用邏輯部件,存儲半導(dǎo)體零部件、先進(jìn)封裝、第三代半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、新型顯示、新能源,襯底材料制造等工藝過程。北方華創(chuàng)憑借產(chǎn)品種類多種、技術(shù)世代及工藝范圍等優(yōu)勢,通過產(chǎn)品的反復(fù)升級和配套解決方案,為客戶創(chuàng)造更大價值。

在真空及鋰電氣裝備領(lǐng)域,北方華創(chuàng)公司高壓、高溫、高真空技術(shù),研發(fā)的晶體生長設(shè)備、真空熱處理設(shè)備、氣氛保護(hù)熱處理設(shè)備、連續(xù)式熱處理設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備在材料熱處理、真空電子、新能源光伏、半導(dǎo)體材料、磁性材料、新能源汽車等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,為新材料、新工藝、新能源等綠色可以賦予。

精密電子器件領(lǐng)域,北方華創(chuàng)推動零部件的小型化、輕量化、高精密的開發(fā)方向的石英晶體零件,石英微機(jī)電傳感器,高精密鉭電阻器、電容器、微波組件、電源等產(chǎn)品應(yīng)用高鐵、模擬芯片、模塊、智能電網(wǎng)通信、醫(yī)療電子、精密儀器,在自動控制等領(lǐng)域,為客戶打造尖端精密電子零部件技術(shù),產(chǎn)品,服務(wù)一體化專業(yè)解決方案。

目前,北方華創(chuàng)在全國建立了19個客戶服務(wù)中心,4個備品采購中心,11個備品數(shù)據(jù)庫,形成了日益完善的客戶服務(wù)體系。截至2023年上半年,北方華創(chuàng)累計申請專利7200多項,累計獲得專利權(quán)4100多項。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28919

    瀏覽量

    238190
  • 微機(jī)電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    30

    瀏覽量

    10503
  • 零部件
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    427

    瀏覽量

    15581
  • 刻蝕
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    206

    瀏覽量

    13419
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    干法刻蝕的評價參數(shù)詳解

    在MEMS制造工藝中,干法刻蝕是通過等離子體、離子束等氣態(tài)物質(zhì)對薄膜材料或襯底進(jìn)行刻蝕的工藝,其評價參數(shù)直接影響器件的結(jié)構(gòu)精度和性能。那么干法刻蝕有哪些評價參數(shù)呢?
    的頭像 發(fā)表于 07-07 11:21 ?412次閱讀
    <b class='flag-5'>干法刻蝕</b>的評價參數(shù)詳解

    一文詳解干法刻蝕工藝

    干法刻蝕技術(shù)作為半導(dǎo)體制造的核心工藝模塊,通過等離子體與材料表面的相互作用實現(xiàn)精準(zhǔn)刻蝕,其技術(shù)特性與工藝優(yōu)勢深刻影響著先進(jìn)制程的演進(jìn)方向。
    的頭像 發(fā)表于 05-28 17:01 ?1125次閱讀
    一文詳解<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>工藝

    中微公司推出12英寸圓邊緣刻蝕設(shè)備Primo Halona

    在SEMICON China 2025展會期間,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布其自主研發(fā)的12英寸圓邊緣
    的頭像 發(fā)表于 03-28 09:21 ?627次閱讀

    盛機(jī)電:6-8 英寸碳化硅襯底實現(xiàn)批量出貨

    快速實現(xiàn)市場突破,公司8英寸碳化硅外延設(shè)備和光學(xué)量測設(shè)備順利實現(xiàn)銷售,
    的頭像 發(fā)表于 02-22 15:23 ?1158次閱讀

    干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

    碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基于等離子體的干法蝕刻在SiC的圖案化及電子器件制造中起到了關(guān)鍵作用,本文將介紹干法刻蝕的概念、碳硅
    的頭像 發(fā)表于 01-22 10:59 ?1130次閱讀
    <b class='flag-5'>干法刻蝕</b>的概念、碳硅反應(yīng)離子<b class='flag-5'>刻蝕</b>以及ICP的應(yīng)用

    馳機(jī)電8英寸碳化硅電阻式長爐順利通過客戶驗證

    近日,馳機(jī)電開發(fā)的8英寸碳化硅(SiC)電阻式長爐順利通過客戶驗證,設(shè)備穩(wěn)定性和工藝穩(wěn)定性均滿足客戶
    的頭像 發(fā)表于 01-09 11:25 ?558次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b>馳機(jī)電8<b class='flag-5'>英寸</b>碳化硅電阻式長<b class='flag-5'>晶</b>爐順利通過<b class='flag-5'>客戶</b>驗證

    干法刻蝕時側(cè)壁為什么會彎曲

    離子轟擊的不均勻性 干法刻蝕通常是物理作用和化學(xué)作用相結(jié)合的過程,其中離子轟擊是重要的物理刻蝕手段。在刻蝕過程中,離子的入射角和能量分布可能不均勻. 如果離子入射角在側(cè)壁的不同位置存在差異,那么
    的頭像 發(fā)表于 12-17 11:13 ?834次閱讀
    <b class='flag-5'>干法刻蝕</b>時側(cè)壁為什么會彎曲

    芯片制造中的濕法刻蝕干法刻蝕

    在芯片制造過程中的各工藝站點,有很多不同的工藝名稱用于除去圓上多余材料,如“清洗”、“刻蝕”、“研磨”等。如果說“清洗”工藝是把圓上多余的臟污、particle、上一站點殘留物去除掉,“
    的頭像 發(fā)表于 12-16 15:03 ?1374次閱讀
    芯片制造中的濕法<b class='flag-5'>刻蝕</b>和<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>

    芯片制造過程中的兩種刻蝕方法

    本文簡單介紹了芯片制造過程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕(Etch)是芯片制造過程中相當(dāng)重要的步驟。 刻蝕主要分為干刻蝕和濕法刻蝕。 ①
    的頭像 發(fā)表于 12-06 11:13 ?1623次閱讀
    芯片制造過程中的兩種<b class='flag-5'>刻蝕</b>方法

    干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法

    本文介紹了干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側(cè)壁彎曲? 如上圖,是典型的干法刻蝕時,側(cè)壁彎曲的樣子,側(cè)壁為凹形或凸形結(jié)構(gòu)。而正常的側(cè)壁幾乎是垂直的,角度接近 90°。 ?什么原因?qū)е铝藗?cè)壁
    的頭像 發(fā)表于 12-03 11:00 ?981次閱讀
    <b class='flag-5'>干法刻蝕</b>側(cè)壁彎曲的原因及解決方法

    圓表面溫度對干法刻蝕的影響

    本文介紹圓表面溫度對干法刻蝕的影響 表面溫度對干法刻蝕的影響主要包括:聚合物沉積,選擇性,光刻膠流動、產(chǎn)物揮發(fā)性與刻蝕速率,表面形貌等。 ? 聚合物沉積?:工藝過程中產(chǎn)生的聚合物會在
    的頭像 發(fā)表于 12-03 10:48 ?1249次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b>圓表面溫度對<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>的影響

    干法刻蝕工藝的不同參數(shù)

    圓表面不同區(qū)域的溫度由于加熱器分布不均可能會有差異,導(dǎo)致局部區(qū)域刻蝕速率不同,從而影響刻蝕均勻性。 2,氣體:氣體化學(xué)組成,氣體比例,氣體流量 氣體化學(xué)組成:干法刻蝕的腔室中可以選
    的頭像 發(fā)表于 12-02 09:56 ?1749次閱讀

    為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕

    本文介紹了為什么干法刻蝕又叫低溫等離子體刻蝕。 什么是低溫等離子體刻蝕,除了低溫難道還有高溫嗎?等離子體的溫度?? ? 等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),并不是只有半導(dǎo)體制造或工業(yè)領(lǐng)域中才會有等離子體
    的頭像 發(fā)表于 11-16 12:53 ?789次閱讀
    為什么<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>又叫低溫等離子體<b class='flag-5'>刻蝕</b>

    半導(dǎo)體干法刻蝕技術(shù)解析

    主要介紹幾種常用于工業(yè)制備的刻蝕技術(shù),其中包括離子束刻蝕(IBE)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、以及后來基于高密度等離子體反應(yīng)離子的電子回旋共振等離子體刻蝕(ECR)和電感耦合等離子體
    的頭像 發(fā)表于 10-18 15:20 ?2004次閱讀
    半導(dǎo)體<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>技術(shù)解析

    半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)之干法刻蝕工藝詳解

    今天我們要一起揭開一個隱藏在現(xiàn)代電子設(shè)備背后的高科技秘密——干法刻蝕工藝。這不僅是一場對微觀世界的深入探秘,更是一次對半導(dǎo)體芯片制造藝術(shù)的奇妙之旅。
    的頭像 發(fā)表于 08-26 10:13 ?3075次閱讀
    半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)之<b class='flag-5'>干法刻蝕</b>工藝詳解