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華為公開(kāi)兩項(xiàng)“芯片封裝結(jié)構(gòu)、其制備方法及終端設(shè)備”專利

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-08-31 09:53 ? 次閱讀
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華為技術(shù)有限公司最近新增了多項(xiàng)專利信息。其中兩個(gè)專利名稱是“芯片包裝結(jié)構(gòu)、制造方法及終端設(shè)備”,分別為cn116648780a和cn116670808a。

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cn116648780a專利芯片封裝結(jié)構(gòu)的第一個(gè),第二個(gè)芯片,第一個(gè)布線層和第二個(gè)布線層和垂直硅橋;其中第一芯片和垂直硅硅橋梁并排在第一中間配線設(shè)在樓,第二中間配線層是垂直硅橋梁和第一芯片,第二中間配線層設(shè)置,第一芯片第一雙重連接到布線層,第二芯片第二雙重連接在電線上。垂直硅橋有硅通孔,垂直硅橋?yàn)橥瓿筛呙芏染€,在無(wú)源晶圓上準(zhǔn)備了大量硅通孔,成熟的技術(shù)、穩(wěn)定性和信賴性高,沒(méi)有斷裂或短路的危險(xiǎn)。第二芯片通過(guò)第二層襯墊層、硅孔、第一層襯墊層和第一芯片的垂直相互連接,垂直硅橋內(nèi)的硅孔大小可以與第二芯片的物理通道大小相匹配,實(shí)現(xiàn)高密度信號(hào)相互連接。

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cn116670808a專利芯片包裝結(jié)構(gòu)如下。芯片的表面有多個(gè)導(dǎo)電的電路板,有多個(gè)顛倒孜上面放著多個(gè)凸塊結(jié)構(gòu),多個(gè)凸塊結(jié)構(gòu)中的每一凸塊結(jié)構(gòu)中,金屬層和金屬層上放著一個(gè)或多個(gè)焊接蓋,又包括多個(gè)凸塊結(jié)構(gòu)中至少一個(gè)凸塊結(jié)構(gòu)的金屬層之上有設(shè)有多個(gè)焊接蓋。申請(qǐng)實(shí)施例中提供的芯片結(jié)構(gòu)中至少一個(gè)凸塊結(jié)構(gòu)的各種焊接金屬層設(shè)置的帽子,芯片可以增加凸塊結(jié)構(gòu)按使用面積比率的玻璃制造過(guò)程分散在密封包裝的凸塊結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體內(nèi)部的壓力也可能會(huì)進(jìn)一步增加凸塊結(jié)構(gòu)的冷卻能力和通電流的能力。

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