隨著硅材料在半導(dǎo)體和光電子領(lǐng)域的應(yīng)用日益廣泛，痕量金屬元素對(duì)材料性能和質(zhì)量的影響越來越大，高精度的硅材料痕量金屬檢測(cè)方法顯得尤為重要。

季豐電子基于ICP-MS的硅材料痕量金屬檢測(cè)方法，具有高分辨率、高靈敏度和元素范圍廣泛的優(yōu)勢(shì)，能夠同時(shí)檢測(cè)多種金屬元素，檢出限達(dá)到ppt（parts per trillion）級(jí)別，相當(dāng)于從100萬立方米的水中測(cè)出1g物質(zhì)。

季豐電子實(shí)驗(yàn)室設(shè)備先進(jìn)，擁有千級(jí)潔凈度的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，實(shí)驗(yàn)員操作經(jīng)驗(yàn)豐富，實(shí)驗(yàn)室體系運(yùn)轉(zhuǎn)良好。

在樣品前，實(shí)驗(yàn)室會(huì)使用G5級(jí)別超純酸前處理，金屬雜質(zhì)含量低于10ppt以此保證前處理過程不受污染，確保樣品分析準(zhǔn)確性。

在痕量金屬檢測(cè)方面，季豐電子CA實(shí)驗(yàn)室能夠提供以下服務(wù)：

多晶硅、硅片表金屬及體金屬

雜質(zhì)檢測(cè)

多晶硅、硅片是半導(dǎo)體制造的重要原材料，其中的金屬雜質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體器件的性能和穩(wěn)定性有著重要影響。我們實(shí)驗(yàn)室能夠?qū)Χ嗑Ч琛⒐杵斫饘僖约绑w金屬雜質(zhì)進(jìn)行高靈敏度、高精度的檢測(cè)，可達(dá)到ppt級(jí)別的金屬雜質(zhì)含量。

超純酸金屬雜質(zhì)檢測(cè)

超純酸是半導(dǎo)體制造中常用的重要化學(xué)試劑，其中的金屬雜質(zhì)會(huì)直接影響半導(dǎo)體器件的性能。我們實(shí)驗(yàn)室能夠?qū)Τ兯嶂械慕饘匐s質(zhì)進(jìn)行檢測(cè)，檢測(cè)精度達(dá)到ppt級(jí)別。

其他半導(dǎo)體相關(guān)材料痕量金屬檢測(cè)

除了多晶硅、硅片和超純酸，我們實(shí)驗(yàn)室還能夠?qū)E袋、手套、特種氣體等相關(guān)材料中的其他金屬雜質(zhì)進(jìn)行痕量分析，如鎢、銅、鐵、鎳等，檢測(cè)精度同樣可以達(dá)到ppt級(jí)別。

審核編輯：劉清