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在片測試新材料帶來的挑戰(zhàn)

芯睿半導體 ? 來源:芯睿半導體 ? 2023-05-30 14:28 ? 次閱讀
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日益增長的耗電量

系統(tǒng),汽車,消費電子產(chǎn)品,便攜式電子產(chǎn)品以及與物聯(lián)網(wǎng)的新連接對能源效率的更大需求正在持續(xù)推動功率半導體設備的發(fā)展,同比需求創(chuàng)歷史新高。

因此,世界各地的公司和代工廠正在提升功率產(chǎn)品的測試能力,涵蓋了研發(fā),高性能產(chǎn)品的生產(chǎn)以及量產(chǎn)。下一代的功率產(chǎn)品也在被快速的研發(fā),以實現(xiàn)減少成本及支持不斷增長的廣泛應用需求。

根據(jù)行業(yè)報告,電力電子設備中68%的功率器件在2017年用于低壓應用(<900 V)。剩余的功率器件部分(32%)在發(fā)生顯著增長的情況下,按電壓不同被分成如下等級:中等(1 - 1.9 kV),高(2 - 3.3 kV)和非常高(> 3.3 kV)電壓應用。*

電動車輛和運輸工具是功率半導體器件/模塊的使用正在擴展的兩個領域。在高溫(300 - 400°C)下需要處理更高的電流(200 - 400 A)和更高的電壓(3.3 - 10 kV),以滿足新的可靠性和性能規(guī)范。這需要廣泛的產(chǎn)品特性的研發(fā)和生產(chǎn)測試的開發(fā)。

工程師面臨的一個關鍵挑戰(zhàn)是在片測試而不是封裝測試。FormFactor已經(jīng)在在片功率半導體產(chǎn)品測試中發(fā)揮了重要作用

新時代的新材料

目前,98.7%的功率半導體產(chǎn)品是使用硅襯底材料制造的。然而,存在從Si到寬帶隙襯底材料(GaN和SiC)的轉(zhuǎn)變,這有望實現(xiàn)功率器件性能的顯著提高。在未來四到五年內(nèi),預計這些材料的使用量將增長3.9%(17億美元)。*

通常,SiC和GaN高功率半導體可以在更高的溫度下工作并且具有更高的效率。具體而言,用于更快的切換的GaN以及用于更高溫度的SiC的研究和開發(fā)是有意義的。支持更高工作溫度的產(chǎn)品可以提高可靠性,如用于電動車輛;而支持更快切換的產(chǎn)品則可以降低功耗。基于GaN和SiC的產(chǎn)品都可以比基于Si的產(chǎn)品更小,以便于其封裝到更小的消費產(chǎn)品中。

雖然GaN和SiC功率半導體(橫向和垂直結構)的在片測試方法與Si產(chǎn)品類似,但這些新型寬帶隙產(chǎn)品需要擴展的測試能力。

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何時必須簡化測試復雜性

功率半導體產(chǎn)品通常用作功率電子電路中的開關或整流器。這些通常被稱為電源設備,電源IC和電源模塊。一些常見的功率器件包括功率二極管,功率MOSFETIGBT(絕緣柵雙極晶體管)。

當工程師和設計師開發(fā)下一代產(chǎn)品時,他們需要在測試期間收集關鍵參數(shù)。其中包括以下功率半導體器件參數(shù):

擊穿電壓

低漏電@高壓

導通電阻RDS(on)*用于高電流

切換的上升和下降時間

安全工作區(qū)(散熱和“閂鎖效應”)

熱阻

然而,當在晶片上而不是封裝內(nèi)測試Si和先進的GaN / SiC產(chǎn)品時,研發(fā)工程師和測試人員面臨的主要挑戰(zhàn)是采集高精度的數(shù)據(jù)。其要求在高壓下的防電弧能力,高電流下探針與晶圓的低接觸電阻以及減薄的晶圓的處理能力。簡而言之,“快速獲取精確數(shù)據(jù)”要求快速而簡單的完成對復雜高功率器件測試系統(tǒng)的設置。并且,始終關注人員與器件的安全。

*“RDS(on)”代表MOSFET中的“漏極 - 源極導通電阻”。

挑戰(zhàn)

高電壓防電弧
通常,當測試晶圓上的高電壓時,探針之間將存在放電(電?。?,這也發(fā)生在DUT(被測器件)和相鄰器件(垂直布局)或其他測試pad(橫向布局)之間。此外,在高于1000 V的電壓下,晶圓載物臺和周圍探針臺之間可能發(fā)生電弧放電。

探針與器件的低接觸電阻
實現(xiàn)精確高電流測量的另一個關鍵挑戰(zhàn)是盡可能降低探針與器件的接觸電阻。這將確??梢栽诰A上測量到器件的完整性能,并與封裝器件性能完全一致。這使得用于終端的應用電源模塊的已知良好芯片(KGD)的成本顯著降低。

晶圓和載物臺之間的均勻接觸和熱阻
為了獲得晶片上每個器件的準確數(shù)據(jù),重要的是在晶片背面和卡盤頂面之間具有均勻的物理接觸。首先,這可以通過確保從器件產(chǎn)生的全部熱量遠離每個器件來分散熱誤差,而不管晶片上的器件位置如何。其次,對于卡盤作為電觸點之一的垂直器件(如IGBT),這可實現(xiàn)超低接觸電阻 - 這是克服RDS(on)非開爾文測試的電阻誤差的關鍵需求。只有解決了這兩個挑戰(zhàn),才能在測試數(shù)據(jù)中看到每個設備的最大性能。

電路設計師的精確器件模型
產(chǎn)品特性分析工程師面臨的挑戰(zhàn)是同時滿足測量高電壓/高電流的能力和精確的低漏電性能,以創(chuàng)建完整的器件模型。這將有助于電路設計人員優(yōu)化其功率IC設計,以實現(xiàn)最大的商業(yè)價值。平衡高電壓/電流切換與在不工作時(斷開狀態(tài))器件功耗是這項工作的重點。

FormFactor與關鍵設備制造商一起解決了這些測試挑戰(zhàn),并繼續(xù)為行業(yè)提供準確數(shù)據(jù)和降低測試成本的保證解決方案。

TESLA200 -完整準確的大批量數(shù)據(jù)處理的測試環(huán)境

FormFactor開發(fā)了TESLA200高級晶圓功率半導體探針臺系統(tǒng),是一款專門為功率半導體器件研究人員,設備/測試工程師和制造經(jīng)理/操作員設計的系統(tǒng)。

TESLA200在保證操作人員安全的前提下,可以采集準確的高壓和高電流測量數(shù)據(jù)。測試可以在單個或批量的減薄晶圓上進行,應用于研發(fā)、產(chǎn)品特性分析/建模、小批量生產(chǎn)的快速的測試。

除了超低漏電產(chǎn)品測試外,TESLA200還可以輕松設置和增加新的測試功能,用于靜態(tài)和動態(tài)高功率測量。該系統(tǒng)可支持-55°至300°C及更高溫度的應用。

多種抗電弧技術可實現(xiàn)高達10,000V DC高壓測試性能,并實現(xiàn)對產(chǎn)品的完美保護。此外,在片測試系統(tǒng)中集成了極低的接觸電阻/熱阻材料和技術,可實現(xiàn)高達600A的最佳的高電流測量。

FormFactor通過各種高壓和高電流探針以及防電弧探針卡完善了解決方案。提供用于工程和生產(chǎn)的高功率測試設備。

可提供手動,半自動和最新的全自動版本,以便最快速地獲得準確的數(shù)據(jù)

審核編輯 :李倩

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原文標題:在片測試新材料帶來的挑戰(zhàn)

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