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新一代存儲芯片將打破現(xiàn)有模式?它們會成為主導者嗎?

jf_84560273 ? 來源:jf_84560273 ? 作者:jf_84560273 ? 2023-03-31 18:00 ? 次閱讀
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相信電子行業(yè)的伙伴們都知道三星和SK海力士,在存儲芯片領域中也是其中的佼佼者,在行業(yè)內(nèi)排名前兩位。據(jù)媒體報道,這兩家巨頭正在加速3D DRAM的商業(yè)化,以改變內(nèi)存行業(yè)的游戲規(guī)則。事實上,在DRAM行業(yè)排名第三的美光公司從2019年就開始了3D DRAM的研究,并獲得了三星和SK海力士的兩到三倍的專利。

據(jù)《韓國商業(yè)報》報道,業(yè)內(nèi)人士透露,三星和SK海力士高管在最近的一些官方活動中使用了3D DRAM,以此來克服DRAM的物理限制。三星表示,3D DRAM是未來半導體行業(yè)的增長動力。SK海力士認為,大約在明年,3D DRAM的電氣特性細節(jié)將被公開,從而確定其發(fā)展方向。

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3D DRAM是一種具有新結構的內(nèi)存芯片,它打破了原有的模型。目前,DRAM產(chǎn)品開發(fā)的重點是通過減小電路的行寬來提高密度。然而,當行寬進入10nm的范圍內(nèi),物理約束,如電容泄漏和干涉顯著增加。為此,業(yè)界推出了高k材料和極紫外線(EUV)設備等新材料和新設備。但是,對于各個DRAM廠商來說,要做出10nm或者更先進的小芯片,仍然是一個巨大的挑戰(zhàn)。

與目前的DRAM市場不同,3D DRAM領域暫時沒有絕對的領導者。美光在3D DRAM技術競爭中起步較早,擁有更多的專利。三星和SK海力士可能會加快3D DRAM的商業(yè)化進程,盡快進入量產(chǎn)階段,從而更早搶占市場。

目前,三星和SK海力士生產(chǎn)的最先進的DRAM都采用了12nm左右的工藝??紤]到距離10nm越來越近,在未來三到四年內(nèi),采用新結構的DRAM芯片的商業(yè)化幾乎是必然的。而不是選擇。那么日后三星和SK海力士會不會成為DRAM芯片的主導者呢?讓我們拭目以待!

審核編輯黃宇

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