由于電子產(chǎn)品的小型化、高性能化、多功能化和信號(hào)傳輸高頻(速)化的迅速發(fā)展,推動(dòng)了PCB必須快速地從傳統(tǒng)的PCB工業(yè)走向以高密度化、精細(xì)化為特點(diǎn)的高精密pcb產(chǎn)品。IC封裝基板是具有更高密度化的pcb電路板。IC封裝基板的首要問題是與所要封裝元(組)件的CTE(熱膨脹系數(shù))匹配兼容問題,其次才是高密度化問題。從本質(zhì)上來說,PCB是為元組件提供互連和機(jī)械物理支撐的高精密pcb。在今天的電子封裝市場上,除了陶瓷基板封裝外,還包括有機(jī)基板(FR)的封裝、晶圓級(jí)封裝(WLP,Wafer Level Package)、直接芯片安裝(DDA,Direct Die Attach)。很顯然,常規(guī)的PCB是不具備這些高級(jí)封裝(低CTE場合)能力的,因此,PCB工業(yè)必須發(fā)展能夠進(jìn)行這些高級(jí)封裝基板材料的技術(shù)和產(chǎn)品。
陶瓷材料作為新型封裝材料的使用,具有優(yōu)良的機(jī)械性能,在電熱性能上面的表現(xiàn)更為耀眼。因?yàn)樘沾呻娐钒寰哂懈呱?、高絕緣、低膨脹系數(shù)、耐腐蝕等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用在航空航天、汽車電子、智慧照明、生物醫(yī)療、5G互聯(lián)等等。不同的陶瓷材料在某一性能方面的表現(xiàn)也尤為突出。比如氮化硅/碳化硅的耐磨、耐沖擊性能;氮化鋁材料的高性價(jià)使其廣泛用于VCSEL封裝熱沉;金剛石的導(dǎo)熱率更是能夠達(dá)到1000~2000W/m.k。那么這些陶瓷材料是如何被制作成PCB電路板的呢?
陶瓷電路板的制作過程是一整套復(fù)雜的加工工藝。首先需要做的就是將陶瓷粉體加工成特定形狀尺寸的載體基板。以氮化鋁陶瓷基板為例,選用高純度且為微粉的氮化鋁粉末,一般而言氧質(zhì)量含量在1.2%以下,碳質(zhì)量含量為0.04%以下,F(xiàn)e含量為30ppm以下,Si含量為60ppm以下,最大粒徑控制在20μm以下的氮化鋁粉末。利用混合裝置(球磨機(jī)、棒磨機(jī)或砂磨機(jī)等)將煅燒助劑(大多使用稀土金屬化合物、堿土金屬化合物、過渡金屬化合物等。例如可選用氧化釔或氧化鋁等)與合格的氮化鋁粉末混合,在混合后得到的原料粉中添加粘合劑后,通過片材成型(流延成型,注塑成型等)工藝得到成型體,進(jìn)一步將其脫脂,再將脫脂后的成型片材進(jìn)行煅燒得到氮化鋁基板的煅燒體。
拿到陶瓷基板后,要想實(shí)現(xiàn)陶瓷基板上下面電路的導(dǎo)通,需要在基板上打孔。因?yàn)樘沾刹牧细哂捕雀叽嘈浴⑷菀姿榱?,傳統(tǒng)的機(jī)械鉆銑機(jī)不能滿足微加工要求,激光打孔則不受影響,是最適合陶瓷打孔加工的設(shè)備。激光打孔是現(xiàn)代制造領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一,不同于手動(dòng)鉆孔加工、電火花穿孔加工、電子束打孔加工,激光打孔是一個(gè)高精細(xì),高效率,高質(zhì)量的打孔設(shè)備,它能做到一些常規(guī)方法無法實(shí)現(xiàn)的工藝。斯利通采用脈沖激光器和光纖激光器,激光束通過光學(xué)系統(tǒng)聚焦在激光軸垂直放置的的工作臺(tái)面上,發(fā)出高能量密度(一般為10*5-10*9w/cm2)的激光束使材料熔化、氣化,一股與光速同軸氣流由激光切割頭噴出,將熔化的材料由切口的底部吹出而逐步形成通孔。由于電子器件和半導(dǎo)體元器件具有尺寸小、密度高等特點(diǎn),故對(duì)激光打孔的精度和速度有較高要求,根據(jù)元器件應(yīng)用的不同,微孔直徑范圍為0.05mm-0.2mm。陶瓷精密加工的激光器,一般激光焦斑的直徑小于0.05mm。根據(jù)陶瓷板材厚度尺寸不同,對(duì)于直徑小于0.15mm的通孔,一般可通過控制離焦量來實(shí)現(xiàn)不同孔徑的通孔打孔。
打孔完成后就是對(duì)陶瓷基板電路制作的過程。目前市場上能夠批量生產(chǎn)的覆銅工藝主要有LTCC(低溫共燒陶瓷)、HTCC(高溫共燒陶瓷)、DBC(直接覆銅工藝)、AMB(活性釬焊工藝)、DPC(直接鍍銅工藝)。相比于其他覆銅工藝,DPC采用半導(dǎo)體微加工技術(shù),能夠使金屬化線路更加精細(xì),因此非常適合對(duì)精準(zhǔn)度要求較高的微電子器件封裝。首先需要用磁控濺射技術(shù)在陶瓷基板表面沉積一層金屬層(Ti/Cu)。磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,過程中使用磁鐵將電子捕獲在帶負(fù)電的靶材上,這樣它們就不會(huì)自由地轟擊基材,防止要鍍膜的物體過熱或損壞,具有更快的薄膜沉積速率。磁控濺射系統(tǒng)通常配置為直列式,基板在某種類型的傳送帶上通過目標(biāo)材料行進(jìn)從而得到沉積。對(duì)于較小的應(yīng)用通常設(shè)置為圓形。常規(guī)使用這幾種方法來誘導(dǎo)高能狀態(tài),包括直流 (DC)、交流 (AC) 和射頻 (RF) 磁控濺射源。與更傳統(tǒng)加熱溫度的熱蒸發(fā)相比,濺射發(fā)生在等離子體的第四自然狀態(tài)環(huán)境中,具有更高的溫度和動(dòng)能,可以在原子水平上進(jìn)行更純凈和更精確的薄膜沉積。
由于電路載板在使用中需要過受一定的電壓和電流,磁控濺射的銅層厚度并不能達(dá)到要求,因此需要在后面的工序中將銅層增厚。首先根據(jù)客戶的設(shè)計(jì)圖紙,通過圖形轉(zhuǎn)移工藝將需要的圖形制作出來。在高密度電路制造工藝中,圖形轉(zhuǎn)移是關(guān)鍵控制點(diǎn),也是技術(shù)難點(diǎn),其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響電路的合格率,生產(chǎn)過程中若控制失靈,極容易滲鍍、顯影不良或抗蝕干膜剝離等質(zhì)量問題。所以在制作過程中,必須要達(dá)到以下幾點(diǎn):1.干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無間隙貼膜。2.曝光要適度。這樣才能達(dá)到線條清晰平直,保證圖形電鍍的合格率及其基板的電性能和其它工藝要求。3.顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序,其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。4.車間潔凈度及溫濕度控制。由于線路板是較為精密的元器件,而PCB無塵車間制造中難免會(huì)出現(xiàn)四處飄散的灰塵,因此需要打造潔凈度標(biāo)準(zhǔn)較高的環(huán)境,以確保不會(huì)因?yàn)檫@些灰塵而產(chǎn)生開路、短路、阻焊雜物等問題。
接下來的步驟就是電鍍環(huán)節(jié)。圖形制作完成后,需要通過電流電鍍將銅厚加工到客戶指定厚度,電鍍?cè)硎清円褐械慕饘匐x子在外電場的作用下,經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子,并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過程。因此,這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過程。斯利通采用垂直連續(xù)電鍍線,通過改良的電鍍添加劑,在深鍍能力上實(shí)現(xiàn)10:1的厚徑比,填孔率、板面均勻性、銅面平整性能均可以達(dá)到品質(zhì)要求。電鍍完成后通過藥水將線路圖形刻蝕出來。不同的藥水刻蝕因子、側(cè)蝕量也不同,斯利通擁有改良的藥水配方,蝕刻線路的精度可以控制在10um以內(nèi),滿足電子芯片封裝的高精度要求。電路載板完成還需要邦定金線或者貼片,根據(jù)不同的要求需要在銅面上進(jìn)行沉銀或者沉金。銀面公平已簡單快速,表面平整成本低,即使暴露在熱、濕的環(huán)境中,銀面仍然能夠保持良好的可焊性,適合無鉛焊接、SMT,以及非常精細(xì)的線路。沉金工藝的優(yōu)點(diǎn)是色澤穩(wěn)定,光亮度很好,鍍層平整可焊性好,并且耐磨,邦定金線的強(qiáng)度很高。
最后交給客戶手上還需要分板和切割,將不需要的工作邊去除掉。外型加工主要有激光和水刀切割兩種工藝。激光切割的原理和激光打孔類似,由于激光光斑小、能量密度高、切割速度快,能夠獲得較好的切割質(zhì)量,這里就不贅述。水刀切割的原理是用高壓泵把密封的水加壓,通過高級(jí)硬質(zhì)合金、藍(lán)寶石、金剛石等做成的噴嘴極細(xì)的噴頭噴出切割材料。水刀切割是一種冷態(tài)切割,切割時(shí)不產(chǎn)生熱效應(yīng),不會(huì)改變材料的物理化學(xué)性質(zhì),切割面整齊平滑,不會(huì)再切割過程中使被切割物體有任何損傷,因此現(xiàn)在在工業(yè)切割技術(shù)方面得到越來越廣泛的應(yīng)用。水刀切割的加工精度可控制在0.1mm~0.25mm之間,當(dāng)然這與機(jī)器精度、切割工件大小及厚度也有一定的關(guān)系。
做好的電路板經(jīng)過專業(yè)設(shè)備和人員檢測后,再經(jīng)過精美的包裝,最后就可以放心的交給客戶使用了。斯利通秉持“用心服務(wù)客戶,創(chuàng)造放心品牌”的價(jià)值理念,在陶瓷PCB領(lǐng)域不斷創(chuàng)新突破,為客戶創(chuàng)造價(jià)值。
審核編輯:湯梓紅
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