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通過控制硒化銦晶體的硫化實現(xiàn)對功能性突觸的沉默激活

jf_GY5uQp21 ? 來源:二維材料君 ? 作者:二維材料君 ? 2022-10-31 14:09 ? 次閱讀
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從沉默到功能性突觸的轉(zhuǎn)變伴隨著人類大腦發(fā)育的進(jìn)化過程,對于進(jìn)化人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的硬件實現(xiàn)至關(guān)重要,但對于模仿沉默到功能性突觸激活仍然是一個挑戰(zhàn)。

在這里,我們開發(fā)了一種簡單的方法,通過控制化學(xué)氣相沉積生長的硒化銦晶體的硫化,成功地實現(xiàn)了對功能性突觸的沉默激活。

其潛在機制歸因于硫化引入的硫陰離子的遷移。最重要的發(fā)現(xiàn)之一是功能性突觸行為可以通過硫化程度和溫度來調(diào)節(jié)。

此外,在部分硫化的功能性突觸器件中成功實現(xiàn)了基本的突觸功能包括增強/抑制、雙脈沖易化、脈沖速率依賴可塑性。在層狀硒化物中引入硫陰離子的簡單方法為實現(xiàn)沉默突觸的激活開辟了一條有效的新途徑,可用于進(jìn)化人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)。

除了功能性突觸外,還有另一種類型的突觸,即沉默突觸,它在刺激時不會顯示出任何突觸可塑性。

即便如此,沉默突觸在人類的神經(jīng)系統(tǒng)發(fā)育中起著深遠(yuǎn)的作用。眾所周知,基于生物逼真的突觸可塑性的人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)(ANN)已被廣泛用于許多應(yīng)用中。

將ANN和進(jìn)化算法相結(jié)合的進(jìn)化ANN可以實現(xiàn)增強的人工智能,這涉及生物系統(tǒng)中沉默到功能突觸的激活。

因此,對于未來人類大腦發(fā)育的機制和進(jìn)化ANN的硬件實現(xiàn),實現(xiàn)從沉默突觸到功能性突觸的轉(zhuǎn)變,具有很強的生物學(xué)和實踐需求。雖然它對大腦啟發(fā)的計算至關(guān)重要,但很少有人嘗試模仿沉默突觸的激活。

從材料的角度來看,模擬沉默突觸活化的最有效方法是改性溝道材料。

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圖1 沉默突觸活化的生物學(xué)機理及其通過調(diào)節(jié)硫化程度的硬件實現(xiàn)。

(a)代表性的基于硒化銦器件的示意圖和光學(xué)顯微鏡圖像。比例尺長度為2μm。

(b)突觸前和突觸后神經(jīng)元之間生物化學(xué)突觸的示意圖,可通過硬件中基于硒化銦器件實現(xiàn)。

(c-e)室溫下基于未硫化硒化銦、部分硫化、完全硫化硒化銦器件的五個連續(xù)循環(huán)的 I–V 曲線。隨著硫化程度的增加,器件逐漸表現(xiàn)出憶阻行為,模仿沉默到功能性突觸的激活。

(f-h)提出的通過引入硫陰離子從沉默突觸到功能性突觸轉(zhuǎn)變的機理。

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圖2 通過調(diào)節(jié)溫度激活部分硫化樣品中的沉默突觸。

(a)生物逼真的沉默和功能性突觸示意圖。沉默突觸含有NMDA,但缺乏AMPA受體,這導(dǎo)致突觸后神經(jīng)元的信號轉(zhuǎn)導(dǎo)失敗。

(b-d)部分硫化樣品在不同溫度下的連續(xù)循環(huán)的I-V曲線,表明隨著溫度的升高,憶阻行為增強。

(e–g)橫截面、低放大倍率和高分辨率透射電鏡圖像以及部分硫化樣品的相應(yīng)EDS圖譜。

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圖3 在高溫下在部分硫化樣品中實現(xiàn)突觸可塑性。

(a) 用單個脈沖(50 mV/50 μs)研究刺激性突觸后電流曲線。

(b)相同脈沖序列作用下的電導(dǎo)變化和線性。脈沖幅度、寬度和間隔時間分別為1 V、0.5 ms和1.0 ms。

(c, d)對基于In2Se1.4S1.6憶阻器件施加雙脈沖和10個連續(xù)脈沖(1 V/0.5 ms)得到的雙脈沖易化和強直后增強效應(yīng)。

(e) 通過施加具有相同幅度(5 V)但頻率不同(10、12、17和200 Hz)的脈沖序列,實現(xiàn)頻率依賴性增強和抑制行為。

(f)興奮性突觸后電流與具有不同脈沖頻率的脈沖數(shù)的依賴關(guān)系,模仿生物突觸的增強/抑制行為。

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圖4 室溫下在完全硫化的樣品中實現(xiàn)突觸可塑性。

(a)用單個脈沖(50 mV/0.5 ms)研究刺激性突觸后電流曲線。

(b)相同脈沖序列作用下的電導(dǎo)變化。

(c, d)對基于完全硫化樣品In2S3憶阻器件施加雙脈沖和10個連續(xù)脈沖(1 V/0.5 ms)得到的雙脈沖易化和強直后增強效應(yīng)。

文章的研究內(nèi)容主要還是集中在材料和器件性能的表征,包括突觸功能的實現(xiàn),比較少關(guān)注到突觸的其他性能,以及突觸器件在神經(jīng)形態(tài)計算中集成問題。





審核編輯:劉清

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴

原文標(biāo)題:面向神經(jīng)形態(tài)計算的基于硫化硒化銦的沉默突觸激活

文章出處:【微信號:二維材料君,微信公眾號:二維材料君】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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