近日,清華大學(xué)航天航空學(xué)院張興教授、王海東副教授課題組與材料學(xué)院呂瑞濤副教授課題組合作,首次發(fā)現(xiàn)單層二維面內(nèi)異質(zhì)結(jié)材料可同時具有優(yōu)異的電、熱整流特性,其電整流比可達(dá)104,熱整流比最高可達(dá)96%。新型二維面內(nèi)異質(zhì)結(jié)器件不僅具有原子厚度、寬帶隙、高遷移率的優(yōu)點(diǎn),并且在大功率工作條件下,材料熱導(dǎo)率沿著特定方向獲得顯著提升,無需外界冷卻裝置即可大幅降低高溫?zé)狳c(diǎn)溫度和熱應(yīng)力,提升器件性能、延長使用壽命。該發(fā)現(xiàn)為研發(fā)新一代高性能電子芯片提供了新思路。
芯片是我國核心科技的“卡脖子”難題,隨著芯片尺寸的逐漸降低,對材料科學(xué)和熱科學(xué)等領(lǐng)域都提出了新的挑戰(zhàn)。一方面,傳統(tǒng)硅基晶體管的柵極寬度已達(dá)到物理極限,需要尋找下一代新型半導(dǎo)體材料進(jìn)一步提高芯片的集成度。單層過渡金屬二硫化物(Transition Metal Dichalcogenides, TMDCs)材料由于具有原子級厚度和極高的開關(guān)比,有望取代硅基材料進(jìn)一步減小晶體管尺寸;另一方面,芯片的高度集成化會導(dǎo)致局部熱流密度大幅上升,散熱問題成為阻礙芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵難題,但由于半導(dǎo)體材料中普遍存在的三聲子散射作用,材料熱導(dǎo)率隨著溫度升高而下降,在大功率工作條件下將加速芯片的熱失效。
為了解決上述難題,研究團(tuán)隊采用常壓化學(xué)氣相沉積(Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition, AP-CVD)方法合成了單層MoSe2-WSe2面內(nèi)異質(zhì)結(jié),采用高精度納米定位和電子束曝光加工技術(shù)制備得到了具有不同界面轉(zhuǎn)角的懸架H型電子器件,使用高角環(huán)形暗場掃描透射電子顯微鏡(HAADF-STEM)和拉曼光譜掃描方法精確表征了異質(zhì)結(jié)界面的原子結(jié)構(gòu)、形貌、位置和角度(圖1)。
圖1 不同界面角度MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)器件的制備與表征
二維面內(nèi)異質(zhì)結(jié)器件的測量結(jié)果表明,當(dāng)電子和聲子垂直通過異質(zhì)結(jié)界面時,器件具有最高104的電整流比和96%的熱整流比(圖2)。隨著溫度升高,正向?qū)?a href="http://www.socialnewsupdate.com/tags/電流/" target="_blank">電流和反向截止電流均增大,電整流比降低,而器件的熱整流比變化不大;當(dāng)異質(zhì)結(jié)界面旋轉(zhuǎn)45度時,反向截止電流顯著增大,導(dǎo)致器件的電整流比明顯下降,同時熱整流比也降低至32%;當(dāng)異質(zhì)結(jié)界面旋轉(zhuǎn)90度,即界面和電子、聲子的運(yùn)動方向平行時,電子和聲子輸運(yùn)的不對稱性消失,導(dǎo)致器件的電整流和熱整流效應(yīng)同時消失。
圖2 MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)器件的電整流和熱整流特性測量
研究團(tuán)隊通過分子動力學(xué)模擬揭示了單層MoSe2-WSe2面內(nèi)二維異質(zhì)結(jié)具有高熱整流比的內(nèi)在機(jī)制(圖3)。一方面,界面兩側(cè)材料的非對稱性導(dǎo)致溫度梯度轉(zhuǎn)變時界面處的聲子態(tài)密度重合度存在明顯差異,當(dāng)熱量從MoSe2流向WSe2時,聲子態(tài)密度重合度更大,聲子也更容易通過界面;另一方面,二維異質(zhì)結(jié)界面形狀的不規(guī)則和元素的局部摻雜會導(dǎo)致聲子局域化效應(yīng),計算結(jié)果表明,當(dāng)溫度梯度方向從WSe2到MoSe2時,聲子局域化效應(yīng)更加顯著,進(jìn)一步抑制了該方向的聲子輸運(yùn)。在這兩個機(jī)制的共同作用下,器件具有96%的高熱整流比。
圖3 MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)熱整流機(jī)理揭示
研究團(tuán)隊進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)熱整流效應(yīng)將顯著提升電子器件在大功率條件下的散熱能力。當(dāng)面內(nèi)異質(zhì)結(jié)二極管器件處于反向截止?fàn)顟B(tài)時,通過器件的電流很小,器件幾乎沒有溫升,熱量的傳遞沒有特定方向;而當(dāng)二極管器件處于正向?qū)顟B(tài)時,通過器件的電流隨著功率升高而快速增加,從MoSe2到WSe2方向形成明顯的溫度梯度,該方向的熱導(dǎo)率提升96%。材料熱導(dǎo)率的增加將顯著提升器件的散熱性能,實(shí)驗(yàn)測量結(jié)果顯示面內(nèi)異質(zhì)結(jié)器件可以承受60 V的大偏置電壓,此時異質(zhì)結(jié)界面溫升約為100 °C(圖4)。
圖4 大偏置電壓條件下MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)器件的界面溫升測量
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
459文章
52481瀏覽量
440604 -
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
335文章
28886瀏覽量
237557 -
晶體管
+關(guān)注
關(guān)注
77文章
10018瀏覽量
141606
原文標(biāo)題:清華大學(xué)Science:基于二維異質(zhì)結(jié),首次同步實(shí)現(xiàn)電、熱整流!
文章出處:【微信號:Recycle-Li-Battery,微信公眾號:鋰電聯(lián)盟會長】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
異質(zhì)結(jié)雙極晶體管,異質(zhì)結(jié)雙極晶體管是什么意思
異質(zhì)結(jié),異質(zhì)結(jié)是什么意思
異質(zhì)結(jié)太陽能電池的結(jié)構(gòu)與應(yīng)用介紹

基于單層MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)器件
用于寬帶光電子突觸器件的硅納米晶體和2D WSe2的混合結(jié)構(gòu)
基于Si NCs和2D WSe2混合結(jié)構(gòu)的突觸器件
二維材料電致橫向PN結(jié)及縱向異質(zhì)結(jié)快速轉(zhuǎn)移制備
硅的潛在設(shè)計——MoS 2或 WSe 2溝道
石墨烯/硅異質(zhì)結(jié)光電探測器的制備工藝與其伏安特性的關(guān)系

異質(zhì)結(jié)電池的ITO薄膜沉積

異質(zhì)結(jié)太陽能電池結(jié)構(gòu) —— ITO薄膜

異質(zhì)結(jié)類型的介紹

奕葉探針臺助力制備2D材料堆疊異質(zhì)結(jié)

評論