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SiC功率元件迎來(lái)快速發(fā)展期

倩倩 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 作者:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 2022-08-23 15:41 ? 次閱讀
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2022年整個(gè)SiC產(chǎn)業(yè)鏈好不熱鬧:首先是Wolfspeed的全球首座8英寸SiC工廠啟動(dòng),為產(chǎn)業(yè)傳遞了積極的信號(hào)。再就是II-VI的1200V SiC MOSFET獲得車規(guī)認(rèn)證,并深化與通用的合作。英飛凌投資逾20億歐元在馬來(lái)西亞居林工廠擴(kuò)大SiC前道產(chǎn)能,以應(yīng)對(duì)未來(lái)市場(chǎng)的變化。ASM完成對(duì)LPE的收購(gòu),入局SiC外延設(shè)備,由于下游需求持續(xù)的旺盛,碳化硅的外延設(shè)備正在以20%的復(fù)合增長(zhǎng)率在增長(zhǎng)。鴻海科技取得了盛新材料10%的股權(quán),切入襯底材料環(huán)節(jié)。Soitec發(fā)布8英寸SmartSiC優(yōu)化襯底,并且擴(kuò)大了制造規(guī)模。SEMISiC實(shí)現(xiàn)了8英寸N-Type拋光片小批量生產(chǎn)……

SiC襯底發(fā)展情況

SiC襯底是發(fā)展SiC的關(guān)鍵。目前從原始的工藝到襯底的加工技術(shù)再到材料的大口徑化擴(kuò)展等各個(gè)環(huán)節(jié),都是業(yè)界的焦點(diǎn)。不過(guò)SiC襯底目前仍存在密度較高、生長(zhǎng)速率緩慢、成本比較高的挑戰(zhàn)。

在SiC晶體生長(zhǎng)工藝方面,出現(xiàn)了兩家初創(chuàng)企業(yè),分別是2020年6月17日創(chuàng)立的北京晶格領(lǐng)域,以及2021年6月成立的日本企業(yè)UJ-Crystal。一般而言,材料行業(yè)的初創(chuàng)企業(yè)并不常見(jiàn),因?yàn)椴牧闲袠I(yè)開(kāi)發(fā)周期長(zhǎng),開(kāi)發(fā)成本也比較高,但我們發(fā)現(xiàn),這兩家企業(yè)都有著大學(xué)成果轉(zhuǎn)化的項(xiàng)目背景,可以說(shuō)是產(chǎn)業(yè)的一大幸事。

2020年7月6日,中科院物理所科技成果轉(zhuǎn)化項(xiàng)目液相法生長(zhǎng)碳化硅半導(dǎo)體襯底項(xiàng)目落戶中關(guān)村順義園,由北京晶格領(lǐng)域半導(dǎo)體有限公司實(shí)施運(yùn)營(yíng),分三期落地實(shí)施,計(jì)劃總投資7.5億元,一期投資5000萬(wàn)元,在中關(guān)村順義園租賃廠房1050平方米,建設(shè)4—6英寸液相法碳化硅晶體中試生產(chǎn)線。2021年4月,晶格領(lǐng)域投資設(shè)立的碳化硅晶圓項(xiàng)目廠房已裝修完畢,第一批設(shè)備全部進(jìn)場(chǎng),并開(kāi)始試生產(chǎn)。

UJ-Crystal是日本名古屋大學(xué)孵化出的企業(yè),名古屋大學(xué)的宇治原徹教授在大學(xué)研究了近20年的高品質(zhì)SiC晶體生長(zhǎng)技術(shù)。通過(guò)結(jié)合材料科學(xué)方面的知識(shí)和AI的計(jì)算能力,找出了制造晶體時(shí)需要調(diào)整的溶液濃度和制造裝置的指標(biāo)。經(jīng)過(guò)4年的開(kāi)發(fā),成功制造出了產(chǎn)業(yè)用途至少需要的6英寸晶體。并計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)推進(jìn)量產(chǎn)。

在襯底加工環(huán)節(jié),切割可以說(shuō)是整個(gè)產(chǎn)能最大的瓶頸?,F(xiàn)有的SiC晶圓切片方法大多使用金剛石線鋸,然而,由于碳化硅的高硬度,加工時(shí)間較長(zhǎng),需要大量的金剛石線鋸來(lái)批量生產(chǎn)硅片。由于在切片過(guò)程中有大量的材料丟失,單個(gè)晶錠生產(chǎn)出的晶圓數(shù)量就很少,這是制造SiC功率器件成本增加的一個(gè)主要因素。日本的DISCO和英飛凌,兩者的光切割技術(shù)為大家熟知。

2016年DISCO開(kāi)發(fā)了新的激光切片技術(shù)KABRA,該工藝可用于各種類型的SiC鑄錠。KABRA是一種鋼錠切片方法,通過(guò)激光連續(xù)照射鋼錠,在指定深度形成分離層(KABRA層),從KABRA層開(kāi)始生產(chǎn)晶圓。據(jù)DISCO稱,KABRA技術(shù)的優(yōu)勢(shì)主要有:1)處理時(shí)間大大縮短,現(xiàn)有工藝需要3.1小時(shí)才能切出一片6英寸SiC晶圓,而采用KABRA技術(shù)僅需要10分鐘;2)不再需要研磨過(guò)程,因?yàn)榉蛛x后的晶圓波動(dòng)可以控制;3)生產(chǎn)的晶圓數(shù)量比現(xiàn)有工藝增加了1.4倍。

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激光切片技術(shù)KABRA的優(yōu)勢(shì) (圖源:DISCO Corporation)

2018年英飛凌收購(gòu)了碳化硅晶圓切割領(lǐng)域的新銳公司Siltectra,進(jìn)入上游襯底領(lǐng)域,Siltectra專注于半導(dǎo)體材料的新切割技術(shù)—冷切(COLD SPLIT),該技術(shù)能將SiC晶圓的良率提高90%,在相同碳化硅晶錠的情況下,它可以提供3倍的材料,可生產(chǎn)更多的器件,最終SiC器件的成本可以降低20-30%。

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SILTECTRA 碳化硅晶片分裂工藝

國(guó)內(nèi)的晟光硅研(Lasic)成立于2021年2月,是航天基地科技成果就地轉(zhuǎn)化項(xiàng)目,技術(shù)團(tuán)隊(duì)包括來(lái)自西安電子科技大學(xué)、中國(guó)工程物理研究院、山東大學(xué)、西北工業(yè)大學(xué)、yole等國(guó)內(nèi)外相關(guān)行業(yè)高校和研究機(jī)構(gòu)的專家。晟光硅研發(fā)明了微射流激光切割技術(shù),該技術(shù)一次切割完成的晶片表面形貌已接近CMP處理水平。目前已經(jīng)成功完成6英寸碳化硅晶錠的切割。

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晟光硅研的微射流激光切割技術(shù)

SiC 晶圓表面質(zhì)量對(duì)于后續(xù)SiC器件制造至關(guān)重要,因?yàn)榫A表面上的任何缺陷都會(huì)遷移到后續(xù)層。所以SiC晶圓還需要一些拋光和表面準(zhǔn)備工作,在這方面,應(yīng)用材料取得了比較大的突破,其中應(yīng)用材料推出了新型200毫米CMP系統(tǒng),該系統(tǒng)將拋光、材料去除測(cè)量、清潔和干燥集成在一個(gè)系統(tǒng)中。與機(jī)械研磨的SiC晶片相比,新系統(tǒng)的成品晶片表面粗糙度降低了50倍,與批量CMP處理系統(tǒng)相比,粗糙度降低了3倍。

在晶圓擴(kuò)徑方面,主要是以8英寸擴(kuò)徑為主。早在2015年Wolfspeed、II-VI、ROHM就已經(jīng)成功研發(fā)出8英寸襯底晶圓片。從2021年開(kāi)始,安森美、ST、Soitec、SEMISiC等陸續(xù)研發(fā)出來(lái)。

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各廠商8英寸SiC晶圓研發(fā)和量產(chǎn)時(shí)間一覽 (圖源:行家說(shuō)第三代半導(dǎo)體)

看向SiC襯底的價(jià)格方面,據(jù)TendForce對(duì)N-Type SiC襯底價(jià)格下降趨勢(shì)的預(yù)測(cè),4英寸襯底片價(jià)格已經(jīng)非常穩(wěn)定,在一些低端器件二極管還有一定的市場(chǎng)。6英寸襯底片隨著技術(shù)不斷成熟價(jià)格逐漸穩(wěn)定。8寸片目前剛推向市場(chǎng),由于良率比較低,而且制造成本過(guò)高,短期內(nèi)不具備性價(jià)比,下降空間相當(dāng)大。

在不同尺寸N-Type SiC襯底需求方面,4英寸片會(huì)慢慢淡出市場(chǎng),6英寸片會(huì)長(zhǎng)時(shí)間作為市場(chǎng)主流供應(yīng)能力,8英寸將會(huì)在2025年到2026年取得一定的市場(chǎng)份額,預(yù)估到2026年能有15%的份額。

值得一提的是,中國(guó)正在大量布局碳化硅襯底,投資產(chǎn)線遍布大半個(gè)中國(guó),有天科合達(dá)、天岳先進(jìn)、爍科晶體、同光半導(dǎo)體、盛新材料、三安光電、南砂晶圓、露笑科技、東尼電子。7月21日晚間,據(jù)天岳先進(jìn)披露,公司簽署了時(shí)長(zhǎng)三年的6英寸導(dǎo)電型碳化硅襯底產(chǎn)品銷售合同,合同作價(jià)近14億元。

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SiC功率元件迎來(lái)快速發(fā)展期

據(jù)TendForce的預(yù)測(cè),SiC功率元件在2022年的市場(chǎng)規(guī)模大約15.89億美元,到2026年將達(dá)到53.02億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率高達(dá)35%。其中,汽車是當(dāng)前SiC功率元件市場(chǎng)最核心的動(dòng)力,目前SiC已經(jīng)在車身的OBC、取得了快速的應(yīng)用,隨著800V的高壓需求來(lái)了,SiC功率元件會(huì)被進(jìn)一步放大。再就是可再生能源、工業(yè)UPS和軌道交通燈的需求。

車用SiC功率元件的關(guān)鍵供應(yīng)商主要有,特斯拉憑借車用MOSFET第一供應(yīng)商身份,連續(xù)奪得SiC功率元件市場(chǎng)第一。Planar MOSFET的供應(yīng)商主要是ST、安森美、Wolfspeed。Tench MOSFET的供應(yīng)商是英飛凌、羅姆博世

中國(guó)車企如上汽、北汽、廣汽、吉利、小鵬等正在積極投資本土供應(yīng)鏈,在《汽車廠投資加碼第三代半導(dǎo)體》一文中我們?cè)敿?xì)介紹了車廠的投資布局。在SiC本土供應(yīng)鏈當(dāng)中,SiC二極管供應(yīng)商主要有泰科天潤(rùn)、三安、華潤(rùn)微電子、揚(yáng)杰科技;SiC MOSFET供應(yīng)商有瀚薪、瞻芯電子、派恩杰、ASI、飛锃半導(dǎo)體(Alpha Power Solutions,簡(jiǎn)稱APS)、國(guó)基南方;SiC模組供應(yīng)商主要包括比亞迪、基本半導(dǎo)體、利普思、斯達(dá)半導(dǎo)體、芯聚能。

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SiC代工廠開(kāi)始興起

受益于車用市場(chǎng)的繁榮,碳化硅的市場(chǎng)已經(jīng)開(kāi)始進(jìn)行大規(guī)模的放量,整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈還沒(méi)完全的成熟,代工廠的配套支持將是非常必要的。

在全球SiC代工領(lǐng)域,德國(guó)的X-Fab全球第一家提供6英寸SiC工藝的代工廠,其位于德克薩斯州的6英寸工廠2020年月產(chǎn)能已達(dá)26000片。SiC功率半導(dǎo)體廠商如Littlefuse、United SiC(被Qorvo收購(gòu))、GeneSiC、派恩杰等都通過(guò)X-Fab代工。

英國(guó)的Clas-SiC Wafer Fab也是一家專門制造碳化硅功率半導(dǎo)體的開(kāi)放式晶圓廠,投資了中低規(guī)模的 SiC 產(chǎn)能,其可以生產(chǎn)JBS/MPS二極管和MOSFET的6英寸SiC晶圓。

Yes Power Technix是韓國(guó)唯一一家可以設(shè)計(jì)和制造SiC功率半導(dǎo)體的公司,他們擁有100毫米和150毫米晶圓的生產(chǎn)設(shè)施,每年可生產(chǎn)1.44萬(wàn)片晶圓。2022年4月,Sk Inc. 出資1200億韓元(約6.2億元人民幣)收購(gòu)Yes Power Technix 95.8%的股權(quán)。同時(shí),韓國(guó)DB HiTek也在向SiC代工進(jìn)擊,2022年6月,DB HiTek宣布在位于忠清北道陰城郡甘谷面桑古里的 8 英寸半導(dǎo)體工廠 (fab) 建設(shè)新一代功率半導(dǎo)體生產(chǎn)線,目標(biāo)是在 2025 年內(nèi)生產(chǎn)和供應(yīng)第一款 1200 V SiC MOSFET。

大陸方面,2021年6月,三安總投資高達(dá)160億元,全國(guó)首條、全球第三條6英寸碳化硅垂直整合產(chǎn)業(yè)鏈投產(chǎn),規(guī)劃至2025年實(shí)現(xiàn)36萬(wàn)片6寸碳化硅晶圓的年產(chǎn)能;上海積塔半導(dǎo)體也在規(guī)劃5000片的6英寸碳化硅(SiC)工藝生產(chǎn)線;長(zhǎng)飛半導(dǎo)體已有6英寸SiC晶圓代工;南京百識(shí)電子科技有限公司提供四英寸、六英寸碳化硅;南京寬能半導(dǎo)體首條產(chǎn)線落地南京,正在建設(shè)中,建成后將是國(guó)內(nèi)最大的碳化硅半導(dǎo)體晶圓廠;2022年5月20日,廣州芯粵能投資75億,年產(chǎn)48萬(wàn)片SiC芯片制造項(xiàng)目主體工程正式封頂;此外,按照中芯紹興(SMEC)的規(guī)劃,未來(lái)也會(huì)進(jìn)行SiC相關(guān)MOSFET的代工服務(wù)。

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中芯紹興的MOSFET代工規(guī)劃 (圖源:中芯紹興)

中國(guó)臺(tái)灣的漢磊(Episil Technology)目前擁有1座4/5英寸及2座6英寸晶圓廠。嘉晶電子(Episil-Precision)能代工生產(chǎn)4-6英寸的SiC外延片。

SiCamore Semi是一家總部位于美國(guó)的先進(jìn)材料和功率半導(dǎo)體純晶圓代工廠,其是Silicon Power 收購(gòu)前Microsemi晶圓廠而來(lái)。

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結(jié)語(yǔ)

無(wú)疑,SiC是半導(dǎo)體領(lǐng)域最具成長(zhǎng)力的材料。在產(chǎn)業(yè)大變革之際,各個(gè)國(guó)家和地區(qū)的廠商都在努力發(fā)展SiC技術(shù)。值得一提的是,在SiC這個(gè)領(lǐng)域,國(guó)內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈布局逐漸開(kāi)始走向完善。SiC這個(gè)大蛋糕,中國(guó)必能分得一塊。

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:全球競(jìng)逐SiC

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    2025年SiC芯片市場(chǎng)大揭秘:中國(guó)降價(jià),產(chǎn)業(yè)變革!

    在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速迭代的背景下,碳化硅(SiC)作為一種新興的高性能半導(dǎo)體材料,正逐步成為推動(dòng)新能源汽車、智能電網(wǎng)、高速通信等領(lǐng)域發(fā)展的關(guān)鍵力量。近年來(lái),中國(guó)SiC芯片市場(chǎng)經(jīng)歷了前所
    的頭像 發(fā)表于 09-09 10:46 ?2443次閱讀
    2025年<b class='flag-5'>SiC</b>芯片市場(chǎng)大揭秘:中國(guó)降價(jià),產(chǎn)業(yè)變革!

    憶聯(lián)以完善的產(chǎn)品矩陣與先進(jìn)技術(shù)為AI PC助力

    未來(lái)10年,AI產(chǎn)業(yè)將迎來(lái)快速發(fā)展期,尤其對(duì)于生成式AI(Generative AI)來(lái)說(shuō),其技術(shù)發(fā)展和應(yīng)用將加速向端、邊、云、網(wǎng)、智(即終端、邊緣計(jì)算、云計(jì)算、網(wǎng)絡(luò)和智能應(yīng)用)等各個(gè)
    的頭像 發(fā)表于 09-02 11:39 ?877次閱讀
    憶聯(lián)以完善的產(chǎn)品矩陣與先進(jìn)技術(shù)為AI PC助力

    SiC技術(shù)引領(lǐng)中國(guó)新能源乘用車功率器件國(guó)產(chǎn)化新篇章

    近年來(lái),中國(guó)新能源乘用車產(chǎn)業(yè)在政策和市場(chǎng)的雙重驅(qū)動(dòng)下,取得了顯著進(jìn)展,尤其是在功率模塊國(guó)產(chǎn)化方面,更是邁出了堅(jiān)實(shí)步伐。其中,SiC(碳化硅)領(lǐng)域更是迎來(lái)了前所未有的發(fā)展機(jī)遇,成為推動(dòng)新
    的頭像 發(fā)表于 08-02 11:01 ?463次閱讀
    <b class='flag-5'>SiC</b>技術(shù)引領(lǐng)中國(guó)新能源乘用車<b class='flag-5'>功率</b>器件國(guó)產(chǎn)化新篇章

    全球SiC與GaN市場(chǎng)發(fā)展趨勢(shì),未來(lái)將迎來(lái)快速增長(zhǎng)

    在近期的慕尼黑上海電子展上,YoleGroup的分析師邱柏順深入剖析了全球碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)市場(chǎng)的發(fā)展趨勢(shì),提供了對(duì)未來(lái)電力電子行業(yè)的深刻見(jiàn)解。隨著科技的進(jìn)步和市場(chǎng)需求的變化,寬禁帶
    的頭像 發(fā)表于 07-22 11:46 ?739次閱讀
    全球<b class='flag-5'>SiC</b>與GaN市場(chǎng)<b class='flag-5'>發(fā)展</b>趨勢(shì),未來(lái)將<b class='flag-5'>迎來(lái)</b><b class='flag-5'>快速</b>增長(zhǎng)