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佳能新發(fā)售KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”Grade10升級包 每小時晶圓產(chǎn)能可達300片 實現(xiàn)半導體光刻行業(yè)更高水平

21克888 ? 來源:廠商供稿 ? 作者:佳能集團 ? 2022-06-13 19:10 ? 次閱讀
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佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包(以下簡稱“Grade10”升級包)。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今,已經(jīng)在生產(chǎn)存儲器和邏輯電路的大型半導體器件制造廠商中收獲良好口碑,此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設備在300mm晶圓規(guī)格基礎上,以每小時高達300片※2晶圓的加工能力實現(xiàn)半導體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。


隨著市場對半導體器件需求的持續(xù)增長,半導體器件制造廠商也在不斷尋求具備更高生產(chǎn)能力的半導體光刻設備。自2012年4月推出KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”以來,佳能在提升設備生產(chǎn)能力的過程中不斷實現(xiàn)產(chǎn)品的升級與迭代,并在市場中贏得了客戶群體的廣泛認可和高度信賴。

新發(fā)布的“Grade10”升級包能夠在300mm晶圓規(guī)格基礎上,實現(xiàn)每小時300片晶圓的高效率生產(chǎn)。此外,這一升級包將于2023年在KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的200mm兼容設備上得到應用。

實現(xiàn)行業(yè)更高水準的生產(chǎn)效率

“Grade10”升級包通過加快工作臺和傳送系統(tǒng)的驅(qū)動,縮短了曝光時間和傳輸時間,以每小時300片晶圓的產(chǎn)能,實現(xiàn)半導體光刻行業(yè)的更高水準生產(chǎn)。同時,這是佳能在半導體光刻設備上首次搭載基于人工神經(jīng)網(wǎng)絡※4的工作臺控制系統(tǒng),減少高速驅(qū)動產(chǎn)生的振動,以保持高精度光刻水準。此外,通過選取套刻精度(Overlay)配件,在提升產(chǎn)能的同時,更可實現(xiàn)高達4nm※5的套刻精度。

支持現(xiàn)有設備的升級

對于已經(jīng)在半導體器件制造廠商中投入使用的KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”※6,無需更換設備即可通過使用“Grade10”升級包進一步提高生產(chǎn)效率。

未來,佳能將繼續(xù)帶來多樣化的解決方案,并提供能夠有效提升生產(chǎn)效率的配件升級,更好地滿足半導體光刻設備市場的需求。

*1 使用波長248nm,由氪(Kr)氣體和氟(F)氣體產(chǎn)生的激光的半導體光刻機。1納米(納米)是10億分之一米。*2在300mm晶圓規(guī)格基礎上和96次曝光條件下,每小時的晶圓曝光處理數(shù)量。

*3在支持300mm晶圓規(guī)格的KrF半導體曝光設備中;統(tǒng)計時間截至2022年6月12日(佳能調(diào)查顯示)。

*4 模仿腦神經(jīng)結構的機器學習算法之一。

*5 單機自身的套刻精度。

*6 需要應用于KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的Plus機型。

為方便讀者理解,本文中佳能可指代:佳能光學設備(上海)有限公司,佳能(中國)有限公司,佳能股份有限公司,佳能品牌等

參考信息:

< 什么是步進式掃描光刻機?>
“重復步進并多次掃描曝光”的裝置稱為“步進掃描光刻機”,該裝置通過控制掩模臺與工作臺的同步運動的方式實現(xiàn)曝光動作。由于步進式掃描光刻機的掃描儀可以在掃描操作中覆蓋曝光視角,因此其主要優(yōu)點是易于通過調(diào)整鏡頭的有效區(qū)域來擴大數(shù)值孔徑(NA, Numerical aperture),并在鏡頭像差較小的部分進行曝光,從而更好地抑制曝光失真,帶來高精度曝光。

<佳能半導體光刻設備>
佳能目前擁有i線光刻機和KrF光刻機產(chǎn)品線,同時也在不斷豐富其多元化半導體光刻設備陣容,以更好地滿足市場對于更大面積像場、更小尺寸掩膜版,和更豐富的物聯(lián)網(wǎng)功能的需求。
主要產(chǎn)品規(guī)格介紹 https://global.canon/en/product/indtech/semicon/

<了解半導體光刻設備工作原理的網(wǎng)站>
■佳能技術網(wǎng)站分享:半導體光刻設備是如何工作的?
在下方網(wǎng)站中我們將以通俗易懂的方式呈現(xiàn)半導體光刻設備技術及其工作原理:
https://global.canon/en/technology/semicon2021s.html

■佳能半導體光刻設備網(wǎng)站
在下方網(wǎng)站中,我們通過插圖和視頻等富有趣味的方式,對半導體光刻設備的工作原理與性能進行了介紹。此外,我們還為青少年開設了專門的頁面,以輕松、愉悅的方式介紹光刻技術:
https://global.canon/en/product/indtech/semicon/50th/

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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