集成光子制備工藝的研究
摘要
本文主要研究集成光子的制備工藝?；贗II-V半導體的器件， 這項工作涵蓋了一系列III-V材料以及各種各樣的設備。 最初，設計，制造和光學表征研究了鋁砷化鎵波導增強光學非線性相互作用。 基于我們的研究結果，我們提出了一種新型的AlGaAs集成非線性光學波導。波導是集成光子器件中極具吸引力的元件，因為它們控制光線的空間、光譜和色散特性。
集成光子學
光子學，也被稱為光學，是生成的科學和工程，應用光子的控制和檢測; 例如制造業(yè)、成像、下一代顯示、國防技術、生物識別安全、傳感、圖像處理、照明、通信、數(shù)據(jù)存儲、天文學計算等等。
審核編輯：符乾江
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
數(shù)據(jù)集成
+關注
關注
0文章
57瀏覽量
9374 -
系統(tǒng)集成
+關注
關注
0文章
78瀏覽量
11678
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
基于碳納米材料的TPU導電長絲制備與性能研究
、金屬材料與復合材料等各領域的研究開發(fā)、工藝優(yōu)化與質量監(jiān)控.基于碳納米材料的TPU導電長絲制備與性能研究【江南大學趙樹強】基于碳納米材料的TPU導電長絲
詳解原子層沉積薄膜制備技術
CVD 技術是一種在真空環(huán)境中通過襯底表面化學反應來進行薄膜生長的過程，較短的工藝時間以及所制備薄膜的高致密性，使 CVD 技術被越來越多地應用于薄膜封裝工藝中無機阻擋層的制備。
晶圓制備工藝與清洗工藝介紹
晶圓制備是材料科學、熱力學與精密控制的綜合體現(xiàn)，每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術的極致追求。而晶圓清洗本質是半導體工業(yè)與污染物持續(xù)博弈的縮影，每一次工藝革新都在突破物理極限。
深入解析硅基光子芯片制造流程，揭秘科技奇跡！
在信息技術日新月異的今天，硅基光子芯片制造技術正逐漸成為科技領域的研究熱點。作為“21世紀的微電子技術”，硅基光子集成技術不僅融合了電子芯片與光子芯片的優(yōu)勢，更以其獨特的高
集成電路前段工藝的可靠性研究
在之前的文章中我們已經(jīng)對集成電路工藝的可靠性進行了簡單的概述，本文將進一步探討集成電路前段工藝可靠性。
集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程
本文介紹了集成電路和光子集成技術的發(fā)展歷程，并詳細介紹了鈮酸鋰光子集成技術和硅和鈮酸鋰復合薄膜技術。
EastWave應用：自動計算光子晶體透反率
本案例使用“自動計算透反率模式”研究光子晶體的透反率，將建立簡單二維光子晶體結構以說明透反率的計算方法。
模型示意圖：
預覽網(wǎng)格劃分效果如下：
觀察到下面的實時場：
記錄得到數(shù)據(jù)如下：
雙擊
發(fā)表于 02-28 08:46
集成電路外延片詳解：構成、工藝與應用的全方位剖析
集成電路是現(xiàn)代電子技術的基石，而外延片作為集成電路制造過程中的關鍵材料，其性能和質量直接影響著最終芯片的性能和可靠性。本文將深入探討集成電路外延片的組成、制備
從數(shù)據(jù)中心到量子計算，光子集成電路引領行業(yè)變革
來源：Yole Group 光子集成電路正在通過實現(xiàn)更快的數(shù)據(jù)傳輸、推進量子計算技術、以及變革醫(yī)療行業(yè)來徹底改變多個領域。在材料和制造工藝的創(chuàng)新驅動下，光子集成電路有望重新定義光學技術的能力，并在
麻省理工學院對光子集成的量子發(fā)射器的光譜特性研究
? 研究領域 量子研究，PL光譜，單光子源，光子集成電路 現(xiàn)階段，光子器件越來越小型化并逐步應用于光子集
什么是光子學？
? 本文概述了光子學，包括其基本原理、關鍵技術、應用和新興趨勢。 一、光子學的基本原理 光子學是一門研究光和其他形式輻射能的學科。它涉及使用光學元件、激光、光纖和電子光學儀器來產生、操
硅晶圓的制備流程
本文從硅片制備流程為切入點，以方便了解和選擇合適的硅晶圓，硅晶圓的制備工藝流程比較復雜，加工工序多而長，所以必須嚴格控制每道工序的加工質量，才能獲得滿足工藝技術要求、質量合格的硅單晶片
中科院微電子所在光子集成激光探感技術方面取得進展
激光雷達(Single Photon LiDAR，SPL)、高精度調頻連續(xù)波(Frequency Modulated Continuous Wave，F(xiàn)MCW)激光探測以及片上集成激光雷達等方面開展技術創(chuàng)新與應用拓展工作。 單光子激光探測技術是當前
工商網(wǎng)監(jiān)
評論