眾所周知,在芯片制造的過程中,***是最重要的一種設(shè)備,在芯片制造的幾百道工序中,***的成本占到了20%,光刻占用的工時達(dá)到了30%多,可以說是至關(guān)重要了。
而7nm及以下芯片的生產(chǎn),需要用到EUV***,7nm以上的***主要用DUV***,全球目前僅有ASML一家廠商能夠生產(chǎn)EUV***。
所以只要是想實(shí)現(xiàn)7nm及以下工藝的芯片生產(chǎn)廠商,就必須找ASML購買EUV***,買不到就沒辦法實(shí)現(xiàn)7nm。
而EUV***產(chǎn)能有限,所以像臺積電、三星、intel們都要靠搶,誰能買到更多的***,誰在7nm及以下的工藝時,產(chǎn)能就能夠更大。
2020年ASML大概有35臺出貨量,而2021年大約是45-50臺的出貨量,而截止至2020年底,ASML一共出貨了100臺EUV***左右。
而這100臺EUV的***中,臺積電一家企業(yè)就拿下了60臺左右,占比高達(dá)60%,其它的全部被intel和三星拿走了。
而2018年中芯與ASML簽訂了一項EUV***購買協(xié)議,以1.2億美元購買一臺***,但直到現(xiàn)在都沒有交貨,因?yàn)闆]有拿到出口許可證。
而隨著中芯被美國列入實(shí)體清單,10nm及以下的設(shè)備進(jìn)口更是受阻,想必這臺EUV***想要買到就更難了。
芯片制程跟隨摩爾定律持續(xù)微縮,EUV光刻技術(shù)成為關(guān)鍵。目前臺積電及三星5nm工藝已量產(chǎn),而intel今年也將實(shí)現(xiàn)7nm。
格芯、聯(lián)電已放棄10nm及以下工藝了,只有中芯還在努力向10nm以下工藝進(jìn)發(fā),而EUV***是關(guān)鍵,所以要想中國芯有所突破,在10nm及以下工藝上不被卡脖子,一定要發(fā)展自己的***才行。
責(zé)任編輯:lq
-
芯片
+關(guān)注
關(guān)注
460文章
52520瀏覽量
441031 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
729瀏覽量
42325 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15516
原文標(biāo)題:ASML賣出100臺EUV光刻機(jī),臺積電60臺,中芯沒有1臺
文章出處:【微信號:TenOne_TSMC,微信公眾號:芯片半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?
ASML官宣:更先進(jìn)的Hyper NA光刻機(jī)開發(fā)已經(jīng)啟動
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
光刻機(jī)的分類與原理

組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹

日本首臺EUV光刻機(jī)就位

用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

光刻機(jī)的工作原理和分類
一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

評論