南大光電自主研發(fā)的 ArF（193nm）光刻膠成功通過認證
今日南大光電發(fā)布公告稱，其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF（193nm）光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認證。報告顯示，“本次認證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測試各項性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達標(biāo)?！?/p>
“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國家 “02 專項”的一個重點攻關(guān)項目。本次產(chǎn)品的認證通過，標(biāo)志著 “ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國內(nèi)通過產(chǎn)品驗證的第一只國產(chǎn) ArF 光刻膠。
據(jù)IT之家了解，光刻膠是半導(dǎo)體芯片制造過程中的核心材料之一 ，經(jīng)過紫外光、電子束等照射，光刻膠得到曝光，化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變，經(jīng)過顯影液的洗滌，圖案會留在襯底上。光刻膠分為 KrF（248nm）、ArF（193nm）和 EUV（13.5nm）幾種，括號中的數(shù)值為曝光光源的波長。
責(zé)任編輯：PSY
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