99精品伊人亚洲|最近国产中文炮友|九草在线视频支援|AV网站大全最新|美女黄片免费观看|国产精品资源视频|精彩无码视频一区|91大神在线后入|伊人终合在线播放|久草综合久久中文

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

半導(dǎo)體制造工藝中的應(yīng)用特點(diǎn)

Plansee攀時(shí)高性能材料 ? 來(lái)源:掌知視通訊技術(shù) ? 作者:掌知視通訊技術(shù) ? 2020-11-13 10:54 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

攀時(shí)擁有超過(guò)2000種適用于離子注入系統(tǒng)的部件產(chǎn)品,已成為全球最大的離子注入部件替代零件供應(yīng)商。材料涉及鎢、鉬、石墨、陶瓷等,涵蓋了從最小的備件到整套離子發(fā)射源。

攀時(shí)從原材料品質(zhì)控制開始,服務(wù)半導(dǎo)體OEM設(shè)備原廠,以及終端客戶,已經(jīng)有超過(guò)三十年的合作經(jīng)驗(yàn),甚至在某些產(chǎn)品方面,我們可以高于OEM標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)部件。

半導(dǎo)體制造工藝中的應(yīng)用特點(diǎn)

部件工作溫度高,伴有強(qiáng)腐蝕性氣體和強(qiáng)磁場(chǎng)。這對(duì)產(chǎn)品材質(zhì)提出了極高的要求,所以在應(yīng)用中多集中使用鉬、鎢、石墨、陶瓷等高物理化學(xué)穩(wěn)定性材料。這些材料將確保電子在高達(dá)1?400 ℃的溫度條件下形成并準(zhǔn)確沿著電子路徑進(jìn)行運(yùn)動(dòng)。

攀時(shí)在離子注入部件領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)

我們基于對(duì)原材料的理解,以O(shè)EM設(shè)備制造商的原始備件為起點(diǎn),不停的對(duì)備件極限進(jìn)行更深的探索,發(fā)現(xiàn)短板,提出新的設(shè)計(jì),優(yōu)化改進(jìn)現(xiàn)有方案,找到更合理的升級(jí)方法,延長(zhǎng)產(chǎn)品使用壽命,降低客戶PM頻率,延長(zhǎng)設(shè)備開機(jī)時(shí)長(zhǎng),從而降低整體運(yùn)營(yíng)成本。

例如:在IIP工藝中,MRS葉片濾出電荷或質(zhì)量不正確的離子。只有通過(guò)質(zhì)量分辨槽的離子才能在通向晶片的路徑上繼續(xù)運(yùn)動(dòng)。MRS板因離子束碰撞而產(chǎn)生磨損,側(cè)面角度可減小磨損。但是IIP工藝還涉及化學(xué)反應(yīng),而且磨損越大,相應(yīng)表面上的角度越尖銳。作為折衷方案,在OEM標(biāo)準(zhǔn)零件中采用92 °的角度。

MRS板(OEM) 攀時(shí)優(yōu)化設(shè)計(jì)MRS板延長(zhǎng)壽命

攀時(shí)在離子注入部件領(lǐng)域的努力

我們一直在追求更高的品質(zhì),不斷研發(fā)并推出新的產(chǎn)品,為客戶帶來(lái)更有價(jià)值的服務(wù),同時(shí),我們致力于:

降低清潔成本

減少維護(hù)工作量

縮短停工時(shí)間

簡(jiǎn)化部件安裝和拆卸

延長(zhǎng)使用壽命

攀時(shí)在離子注入部件領(lǐng)域的產(chǎn)品

我們可以提供超過(guò)100種以上離子注入系統(tǒng)備件,清單如下:

AIBT istar
Applied
Materials
9000,9200,9200xR,9500,9500xR,Quantum,QuantumI,QuantumII,QuantumIII,QuantumX,QuantumX+,QuantumxR,xR,xR/Leap, xR120,xR200,
xR80
Varian Semiconductor Equipment
(now Applied
Materials)
VIISta Trident,PLAD,VIISta HCS, VIISta HCP+/I,VIISta80,E1000,VIISion200,VIISion200+,VIISion 80+, VIISta HC, 120-10, 120XP, 160XP,180XP,80XP, VIISta 3000, Genus,Kestrel,VIISta810 XE/XER, VIISta 900 XPT, VIISion, E220, E500, VIISta 810,VIISta 810 XE,VIISta 900,VIISta 900XP, 300D, 300XP, 350D
Axcelis GSDHC(200/200E/200E2),HC3,ltra,Eterna,GSD 100,GSD 160A,GSD 200E,GSD 200E^2,GSD HC, GSD HC3,GSD III,GSDIII LE,GSD LED,NV GSD,NV 10-160, NV 10-180,NV 10-80, Optima HD,ULE, Ultra,GSD HE,GSD VHE,GSD HE, GSDHE3,GSDVHE,OptimaXE,Paradigm XE,NV 3206/3204, NV 6200,NV 8200,NV 8250,Optima MD
Nissin NH80,PR80,Exceed3000,CLARIS,EXCEED2000A/2000AH,EXCEED2300AV,EXCEED3000AH,EXCEED9600A,NH20,NH45
SEN NV-GSD-160A,NV-GSD-80A,NV-GSDIII,NV-GSDIII-180,SD, NV-GSDIII-90E,NV-GSDIII-LE,NV-GSDIII-LE,V-GSD-HC,LEX,LEX3,SHX,NV-GSD-HE,NV-GSD-HE3,MC3MC3-II,NV-MC3
Ulvac IH-860,IDZ-7000,IDZ-8001,IDZ-9001,IM200,IW-630

責(zé)任編輯:lq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28901

    瀏覽量

    237663
  • 制造工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    205

    瀏覽量

    20363
  • 離子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    103

    瀏覽量

    17288

原文標(biāo)題:產(chǎn)品應(yīng)用-離子注入部件

文章出處:【微信號(hào):plamsee,微信公眾號(hào):Plansee攀時(shí)高性能材料】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    高精度半導(dǎo)體冷盤chiller在半導(dǎo)體工藝的應(yīng)用

    半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的工藝制造環(huán)節(jié),溫度控制的穩(wěn)定性直接影響芯片的性能與良率。其中,半導(dǎo)體冷盤chiller作為溫控設(shè)備之一,通過(guò)準(zhǔn)確的流體溫度調(diào)
    的頭像 發(fā)表于 07-16 13:49 ?65次閱讀
    高精度<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>冷盤chiller在<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用

    半導(dǎo)體制造的高溫氧化工藝介紹

    ISSG(In-Situ Steam Generation,原位水蒸汽生成)是半導(dǎo)體制造的一種高溫氧化工藝,核心原理是利用氫氣(H?)與氧氣(O?)在反應(yīng)腔內(nèi)直接合成高活性水蒸氣,并解離生成原子氧(O*),實(shí)現(xiàn)對(duì)硅表面的精準(zhǔn)氧
    的頭像 發(fā)表于 06-07 09:23 ?687次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>中</b>的高溫氧化<b class='flag-5'>工藝</b>介紹

    半導(dǎo)體制冷機(jī)chiller在半導(dǎo)體工藝制程的高精度溫控應(yīng)用解析

    (高精度冷熱循環(huán)器),適用于集成電路、半導(dǎo)體顯示等行業(yè),溫控設(shè)備可在工藝制程準(zhǔn)確控制反應(yīng)腔室溫度,是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程對(duì)設(shè)備或
    的頭像 發(fā)表于 05-22 15:31 ?365次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制</b>冷機(jī)chiller在<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b><b class='flag-5'>工藝</b>制程<b class='flag-5'>中</b>的高精度溫控應(yīng)用解析

    超短脈沖激光加工技術(shù)在半導(dǎo)體制造的應(yīng)用

    隨著集成電路高集成度、高性能的發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體制造技術(shù)提出更高要求。超短脈沖激光加工作為一種精密制造技術(shù),正逐步成為半導(dǎo)體制造的重要工藝。闡述了超短脈沖激光加工技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 05-22 10:14 ?444次閱讀
    超短脈沖激光加工技術(shù)在<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用

    Chiller在半導(dǎo)體制工藝的應(yīng)用場(chǎng)景以及操作選購(gòu)指南

    半導(dǎo)體行業(yè)用Chiller(冷熱循環(huán)系統(tǒng))通過(guò)溫控保障半導(dǎo)體制造工藝的穩(wěn)定性,其應(yīng)用覆蓋晶圓制造流程的環(huán)節(jié),以下是對(duì)Chiller在
    的頭像 發(fā)表于 04-21 16:23 ?470次閱讀
    Chiller在<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制</b>程<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用場(chǎng)景以及操作選購(gòu)指南

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

    。 第1章 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)介紹 第2章 半導(dǎo)體材料特性 第3章 器件技術(shù) 第4章 硅和硅片制備 第5章 半導(dǎo)體制造的化學(xué)品 第6章 硅片制造
    發(fā)表于 04-15 13:52

    靜電卡盤:半導(dǎo)體制造的隱形冠軍

    半導(dǎo)體制造的精密工藝流程,每一個(gè)零部件都扮演著至關(guān)重要的角色,而靜電卡盤(Electrostatic Chuck,簡(jiǎn)稱E-Chuck)無(wú)疑是其中的佼佼者。作為固定晶圓的關(guān)鍵設(shè)備,靜電卡盤以其獨(dú)特的靜電吸附原理、高精度的溫度控
    的頭像 發(fā)表于 03-31 13:56 ?1619次閱讀
    靜電卡盤:<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>中</b>的隱形冠軍

    半導(dǎo)體制造過(guò)程的三個(gè)主要階段

    前段工藝(Front-End)、中段工藝(Middle-End)和后段工藝(Back-End)是半導(dǎo)體制造過(guò)程的三個(gè)主要階段,它們?cè)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 03-28 09:47 ?2648次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>過(guò)程<b class='flag-5'>中</b>的三個(gè)主要階段

    臺(tái)灣精銳APEX減速機(jī)在半導(dǎo)體制造設(shè)備的應(yīng)用案例

    半導(dǎo)體制造設(shè)備對(duì)傳動(dòng)系統(tǒng)的精度、可靠性和穩(wěn)定性要求極高,臺(tái)灣精銳APEX減速機(jī)憑借其低背隙、高精度和高剛性等優(yōu)勢(shì),在半導(dǎo)體制造設(shè)備得到了廣泛應(yīng)用。
    的頭像 發(fā)表于 02-06 13:12 ?369次閱讀
    臺(tái)灣精銳APEX減速機(jī)在<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>設(shè)備<b class='flag-5'>中</b>的應(yīng)用案例

    半導(dǎo)體制造里的ALD工藝:比“精”更“精”!

    半導(dǎo)體制造這一高度精密且不斷進(jìn)步的領(lǐng)域,每一項(xiàng)技術(shù)都承載著推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵使命。原子層沉積(Atomic Layer Deposition,簡(jiǎn)稱ALD)工藝,作為一種先進(jìn)的薄膜沉積技術(shù),正逐漸成為半導(dǎo)體制造
    的頭像 發(fā)表于 01-20 11:44 ?2287次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>里的ALD<b class='flag-5'>工藝</b>:比“精”更“精”!

    鎵在半導(dǎo)體制造的作用

    隨著科技的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體技術(shù)已經(jīng)成為現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)的基石。在眾多半導(dǎo)體材料中,鎵因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),在半導(dǎo)體制造占據(jù)了一席之地。 鎵的基本性質(zhì) 鎵是一種柔軟、銀白色的金屬,具有
    的頭像 發(fā)表于 01-06 15:11 ?1560次閱讀

    【「大話芯片制造」閱讀體驗(yàn)】+ 半導(dǎo)體工廠建設(shè)要求

    是工廠的排氣系統(tǒng);半導(dǎo)體制造和檢驗(yàn)過(guò)程中使用多種藥液和氣體,也會(huì)產(chǎn)生大量的污水和有害氣體,如圖1-1所示,污水處理設(shè)施、廢液儲(chǔ)存罐、廢氣處理設(shè)施也是半導(dǎo)體工廠的標(biāo)配。 通過(guò)閱讀此章了解了半導(dǎo)體工廠建設(shè)所需要的條件和設(shè)備,對(duì)生產(chǎn)環(huán)
    發(fā)表于 12-29 17:52

    ESD靜電對(duì)半導(dǎo)體制造的影響

    半導(dǎo)體制造業(yè)是一個(gè)高度精密和復(fù)雜的行業(yè),它依賴于先進(jìn)的技術(shù)和嚴(yán)格的生產(chǎn)控制來(lái)制造微型電子元件。在這個(gè)過(guò)程,靜電放電(ESD)是一個(gè)不可忽視的問(wèn)題,因?yàn)樗赡軐?duì)半導(dǎo)體器件的性能和可靠性
    的頭像 發(fā)表于 11-20 09:42 ?1660次閱讀

    半導(dǎo)體制造過(guò)程解析

    在這篇文章,我們將學(xué)習(xí)基本的半導(dǎo)體制造過(guò)程。為了將晶圓轉(zhuǎn)化為半導(dǎo)體芯片,它需要經(jīng)歷一系列復(fù)雜的制造過(guò)程,包括氧化、光刻、刻蝕、沉積、離子注入、金屬布線、電氣檢測(cè)和封裝等。
    的頭像 發(fā)表于 10-16 14:52 ?1968次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>過(guò)程解析

    半導(dǎo)體制造設(shè)備對(duì)機(jī)床的苛刻要求與未來(lái)展望

    在科技日新月異的今天,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)作為現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ),其重要性不言而喻。隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等前沿技術(shù)的快速發(fā)展,全球?qū)Ω咝阅苄酒男枨蠹眲∩仙?,這直接推動(dòng)了半導(dǎo)體制造設(shè)備市場(chǎng)的繁榮。而
    的頭像 發(fā)表于 09-12 13:57 ?1387次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>設(shè)備對(duì)機(jī)床的苛刻要求與未來(lái)展望