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傳中國企業(yè)提供資金,與尼康和佳能共同開發(fā)光刻機

電子工程師 ? 來源:5G半導體 ? 作者:5G半導體 ? 2020-11-04 17:08 ? 次閱讀
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傳中國企業(yè)提供資金,與尼康和佳能共同開發(fā)光刻機!

據(jù)日經(jīng)新聞指出,隨著美國的封鎖和打壓,從長遠來看,美國的封鎖反而可能會助推中國半導體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展。報道以美國限制華為、中芯國際的供應鏈為例指出,盡管有美國政府的出口限制,但中國半導體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對。

中國有1000多家新興的半導體相關(guān)公司,如果華為和中芯國際從這些公司購買進口的半導體芯片、設計軟件以及生產(chǎn)設備,實際上就可以進行半導體采購并擴充制造設備。

對此,Synopsis共同執(zhí)行長Aart de Geus表示,“在中國有很多半導體相關(guān)企業(yè)(除華為外)都在大量購買(設計軟件)?!边@種情況意味著無法避免中國國內(nèi)的轉(zhuǎn)售。

另外,日經(jīng)指出,聯(lián)發(fā)科對美國的銷售額很少,該公司現(xiàn)在雖已停止對華為出貨,但也有可能會繼續(xù)接受華為的訂單并準備接受美國制裁。聯(lián)發(fā)科可以在不透露最終用戶詳細信息的情況下進行訂單生產(chǎn),臺積電同樣可以。

短期內(nèi),美國施行出口限制的效果仍然值得懷疑,而就中長期而言,貿(mào)易管制是否會讓美國、日本和歐洲繼續(xù)保持其半導體技術(shù)的優(yōu)勢,也還是一個未知數(shù)。

更重要的是,與芯片平面上的精細化相比,3D堆疊技術(shù)正在成為延續(xù)摩爾定律的主角?;诖?,光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。

目前,全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識產(chǎn)權(quán)都由美國把持,因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設備。

不過,若是EUV以外的光刻機,日本的尼康和佳能也可以制造。業(yè)界有關(guān)人士表示:“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金,要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機?!贝送?,中國政府也開始著手開發(fā)制造設備和設計軟件。

值得一提的是,去年11月,日本半導體巨頭爾必達原社長坂本幸雄就職紫光集團的高級副總裁,引發(fā)業(yè)界熱議。除了技術(shù)攻堅,中國目前也不惜重金吸引資深半導體產(chǎn)業(yè)人士。

責任編輯:lq

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原文標題:重磅!中國出錢:擬與尼康、佳能共同開發(fā)光刻機!

文章出處:【微信號:Smart6500781,微信公眾號:SEMIEXPO半導體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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