三星推GAAFET技術(shù) 將基于它打造3nm芯片
由華人科學家胡正明教授發(fā)明的FinFET（鰭式場效應(yīng)晶體管）預計在5nm節(jié)點之后走向終結(jié)，三星的方案是GAAFET（環(huán)繞柵極場效應(yīng)晶體管）。
三星日前簡要介紹了GAAFET中核心技術(shù)MCBFET（多橋溝道場效應(yīng)晶體管），基于它打造的3nm芯片，相較于7nm FinFET，可以減少50%的能耗，增加30%的性能。
按照三星的說法，他們預計3nm晶體管的硅間距縮減45%之多。
據(jù)悉，MCBFET允許晶體管向上堆疊、并且自定義寬度，以適應(yīng)低功耗或者高性能產(chǎn)品的不同要求。
另外，三星規(guī)劃3nm量產(chǎn)的時間是2022年，這和上周的報道契合。推遲的原因主要是，EUV光刻機等關(guān)鍵設(shè)備在物流上的延遲。
至于臺積電的3nm，據(jù)說第一代還是FinFET，總投資高達500億美元，風險試產(chǎn)也推遲到了今年10月。
責任編輯：wv
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