近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內(nèi)安裝開始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預(yù)計12月底到貨。

上海新陽指出，ARF193nm光刻膠是芯片制造進入90nm銅互聯(lián)制程后最重要的主流光刻膠產(chǎn)品，一直是國內(nèi)空白。公司研發(fā)該款光刻膠意在填補國內(nèi)空白，實現(xiàn)芯片制造在關(guān)鍵工藝技術(shù)和材料技術(shù)的自主可控。經(jīng)過近三年的研發(fā)，關(guān)鍵技術(shù)已有重大突破，已從實驗室研發(fā)轉(zhuǎn)向產(chǎn)業(yè)研發(fā)。

光刻膠技術(shù)作為上海新陽核心戰(zhàn)略突破口，上海新陽已經(jīng)確定在未來5-10年，將集中各種資源，對國內(nèi)尚屬空白的各類高端半導(dǎo)體光刻膠和光刻膠配套材料進行研發(fā)，逐步形成公司第三大核心技術(shù)-電子光刻技術(shù)。

目前，新引進的技術(shù)專家團隊已到位，各品類研發(fā)在正常進行，各項關(guān)鍵技術(shù)均有突破。其中，KRF光刻膠配套的光刻機已完成廠內(nèi)安裝開始調(diào)試，預(yù)計明年上半年開始中試。
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