俄勒岡州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布擴(kuò)大合作用于使用亞波長光掩模改善晶圓廠產(chǎn)量的產(chǎn)品。兩家公司表示,Mentor網(wǎng)站將提供用于KLA-Tencor關(guān)鍵尺寸(CD)掃描電子顯微鏡(SEM)工具的新計(jì)量模板,以減少設(shè)置時(shí)間并幫助在過程監(jiān)控應(yīng)用中收集數(shù)據(jù)。
Calibre Optical&過程校正測(cè)試模式可從Mentor下載,用于KLA-Tencor的每個(gè)8100XP系列CD-SEM測(cè)量系統(tǒng)。模板和CD-SEM系統(tǒng)協(xié)同工作,直接測(cè)量掩模誤差增強(qiáng)功能(MEEF),它表征了從光罩上印刷在硅上的誤差的影響。
“當(dāng)將Mentor模板與能力結(jié)合起來時(shí)在同一張CD SEM中快速測(cè)量光罩和印刷晶圓,工藝學(xué)習(xí)率呈指數(shù)級(jí)增長,“KLA-Tencor電子束計(jì)量部門營銷總監(jiān)Rich Quattrini說。 “這為我們的客戶在快速將新的光刻技術(shù)引入批量生產(chǎn)方面提供了強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)?!?/p>
在今天宣布之前,威爾遜維爾的Mentor與KLA-Tencor的光柵和光掩模部門合作調(diào)整OPC算法以增加檢查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收購了幾篇關(guān)于MEEF和模擬問題理論方面的技術(shù)論文,最近被San Jose KLA-Tencor收購。
“展望未來,IC設(shè)計(jì)的驗(yàn)證和可制造性工具必須考慮到大量的掩模和芯片問題,當(dāng)事情變小時(shí)會(huì)變得更加困難,“Mentor的Calibre業(yè)務(wù)部門主管Joe Sawicki說。 “確保電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具可以使用來自合作伙伴(如KLA-Tencor)的高質(zhì)量數(shù)據(jù)來設(shè)計(jì)產(chǎn)量,這是確保亞波長設(shè)計(jì)產(chǎn)量更高的必要途徑。”
光刻中的OPC策略KLA-Tencor公司光刻解決方案部副總裁斯科特·阿什肯納茲表示,現(xiàn)在需要保持先進(jìn)的制造產(chǎn)量不會(huì)崩潰。 “成功實(shí)施OPC的一個(gè)關(guān)鍵是對(duì)MEEF的理解,這只會(huì)變得越來越重要,”他說。 “導(dǎo)師一直非常積極地量化這些現(xiàn)象并調(diào)整他們的軟件以正確地考慮它們。”
-
Mentor
+關(guān)注
關(guān)注
5文章
110瀏覽量
114312 -
PCB打樣
+關(guān)注
關(guān)注
17文章
2977瀏覽量
22579 -
華強(qiáng)PCB
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
1831瀏覽量
28613 -
華強(qiáng)pcb線路板打樣
+關(guān)注
關(guān)注
5文章
14629瀏覽量
43933
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
Lam、KLA合體問鼎半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)霸主
全球晶圓廠投資態(tài)勢(shì)強(qiáng)勢(shì)設(shè)備支出持續(xù)攀升
翻新半導(dǎo)體加工與測(cè)試設(shè)備資料
KLA-Tencor 以全新測(cè)量系統(tǒng)擴(kuò)充其 5D 圖型控制方案
異常檢測(cè)技術(shù)在各行業(yè)已經(jīng)使用多年,對(duì)零缺陷對(duì)汽車行業(yè)至關(guān)重要

KLA-Tencor舉辦半導(dǎo)體新聞發(fā)布會(huì),旨為加速中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)成功
中國將成為半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的轉(zhuǎn)折點(diǎn)?KLA-Tencor重點(diǎn)投入中國市場(chǎng)
KLA-Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品 堪稱黑科技
KLA-Tencor宣布推出Kronos 1080和ICOS F160檢測(cè)系統(tǒng):拓展IC封裝產(chǎn)品系列
Tencor推出兩款全新缺陷檢測(cè)產(chǎn)品,可滿足各種IC封裝類型的檢測(cè)需求
半導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)數(shù)字時(shí)代發(fā)展
Tencor成功收購Orbotech 增加半導(dǎo)體封裝制造機(jī)遇
zpwsmileKLA-Tencor光刻工藝控制解決方案可將產(chǎn)量優(yōu)化至0.13微米
光刻膠剝離和光掩模清潔的工藝順序

評(píng)論