PHOENIX - EV集團(tuán)公司在此宣布,它將提供由摩托羅拉實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的用于提高接觸式印刷設(shè)備產(chǎn)量的掩模涂層技術(shù)。該公司表示,該涂層稱為超級(jí)清潔面膜,可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過(guò)程中粘附在面罩上,從而延長(zhǎng)了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個(gè)掩模對(duì)準(zhǔn)器提供技術(shù)許可。
據(jù)德國(guó)公司EVG稱,SCM掩模涂層大大延長(zhǎng)了掩模清潔周期,但在使用過(guò)程中沒(méi)有明顯降低特征尺寸分辨率。被稱為電子視覺(jué)。這對(duì)于接觸印刷應(yīng)用是至關(guān)重要的,例如微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),功率和微波晶體管,齊納二極管和肖特基二極管,太陽(yáng)能電池和其他大型缺陷敏感功率和光子器件。
與EVG的楔形補(bǔ)償系統(tǒng)結(jié)合使用時(shí),SCM涂層在掩模清潔周期之間產(chǎn)生了最大數(shù)量的質(zhì)量曝光,該公司聲稱。它說(shuō),這可以改善掩模的使用壽命并大大降低掩模更換要求。
聯(lián)系打印機(jī)是在20世紀(jì)60年代早期為半導(dǎo)體加工開(kāi)發(fā)的。隨著硅晶片變得越來(lái)越大 - 高達(dá)8英寸,現(xiàn)在為12英寸 - 使用大型石英掩模的接觸式打印機(jī)被步進(jìn)技術(shù)取代。 EVG表示,最新的MEMS,化合物半導(dǎo)體,激光和其他使用3-,4-,6-和最近8英寸晶圓的電信產(chǎn)品已經(jīng)引發(fā)了接觸式印刷的復(fù)蘇。
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