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三星痛下決心,自研極紫外光(EUV)光阻劑

中國半導體論壇 ? 來源:YXQ ? 2019-07-26 15:44 ? 次閱讀
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7月4日,日本正式對出口南韓的氟聚酰亞胺、光阻劑及高純度氟化氫進行管制,8月南韓也可能從白名單國家除名。三星電子不想讓半導體先進制程受日本材料箝制,近日傳出與國內材料業(yè)者,共同投入極紫外光(EUV)光阻劑研發(fā)!

三星光阻劑的3大主要廠商,包括東京應化工業(yè)、信越化學工業(yè)。日本政府對韓國實施出口管制后,3大廠商均停止了供貨。

三星預計今年底發(fā)表的7納米芯片,恐受到拖累而延后,而三星明年要推出的旗艦機也會受波及,甚至沖擊三星企圖挑戰(zhàn)臺積電龍頭地位,在2023年將先進晶圓代工市占從不到10%沖上25%可能有變數。

半導體分析師Mark Li認為,尋找光阻劑替代供應商難度很高,就算找到新供應來源,所有制程和設計須重新測試,至少得花1年時間才能運作。這也許是三星痛下決心,自研光光阻劑的原因。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:三星自研EUV光刻膠!

文章出處:【微信號:CSF211ic,微信公眾號:中國半導體論壇】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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